【課題】ＬＥＤ素子の放熱を均一に且つ効率的に行うことが可能な加熱装置を提供する。
【解決手段】加熱装置において、金属製の放熱基板７２と、放熱基板上に直接的に形成された絶縁層７４と、絶縁層上に配列された複数の配線パターン７６と、複数の各配線パターン上に設けられたＬＥＤ素子７０と、隣り合うＬＥＤ素子間を電気的に直列に接続する金属配線８２とを有するＬＥＤモジュール５４を備える。このように、放熱基板上に直接的に絶縁層を形成し、この上に複数の配線パターンを形成するようにしたので、ＬＥＤ素子の放熱を均一に且つ効率的に行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】簡便で小型の溶接改質装置により、短期間で溶接金属の耐食性を改善することができる構造材の表面改質装置及びその方法を提供する。
【解決手段】溶接トーチ部２と表面改質トーチ部３とを有する構造材の表面改質装置１において、前記溶接トーチ部２と表面改質トーチ部３を移動可能な連結部材１７により連結するとともに、前記表面改質トーチ部３は、前記溶接トーチ部２で形成された溶接金属２２の表面にチタン含有溶液を噴射しアナターゼ型酸化チタン層からなる表面改質層２１を形成する。 （もっと読む）

【課題】溶射後に回収された粉末を、密着性、耐酸化性、耐久性に優れる溶射皮膜を形成できる溶射粉末に再生する方法及び再生溶射粉末を提供する。
【解決手段】溶射後の回収粉末に界面活性剤及び水を添加して攪拌し、前記水中に前記回収粉末を分散させる分散工程と、前記水中に分散された前記回収粉末から小径の粉末を除去して、前記水中の前記回収粉末の積算粒度１０％粒径を、溶射前の溶射粉末の積算粒度１０％粒径以上とする分離工程と、前記分離工程後に、前記回収粉末を乾燥させる乾燥工程とを備える溶射粉末の再生方法。 （もっと読む）

【課題】低品位燃料を用いた溶融塩腐食環境下での長期間の運転においても、十分な耐久性，信頼性を有するＴＢＣを提供する。
【解決手段】Ｎｉ，ＣｏまたはＦｅを主成分とする耐熱合金基材１０の表面に、合金からなる結合層１１を介して、セラミックスからなる遮熱層１２を設けた遮熱コーティングを有する耐熱部材において、前記遮熱コーティング層が、多孔質のセラミックスよりなる遮熱層１２と、その上に設けられたセラミック繊維１７を含有したシリカを主成分とする緻密質の環境遮蔽層１３からなり、さらに、多孔質セラミックス遮熱層の気孔１５内に、環境遮蔽層１３のシリカを主成分とする物質の一部が含浸した含浸層１４を有する構成とした。 （もっと読む）

基材のＣＭＡＳ浸透を低減するためのコーティングシステムは、少なくとも内側セラミック層と、外側アルミナ含有層とを含む。外側層は、最大で約５０重量％までのチタニアを含む。追加のセラミック層及びアルミナ含有層を設けることができる。コーティングは、ガスタービンエンジン構成要素に用いることができる。コーティング層の堆積法は、構成要素の最終用途に応じて決めることができる。コーティングされた製品は、基材と、基材上の任意選択のボンドコートと、記ボンドコートの上又は該ボンドコートがない場合には前記基材上にあるコーティングと、を含む。内側セラミック層が、溶射法、物理蒸着法、及びサスペンションプラズマ溶射法から選択された堆積法の徴候である微細構造を示し、外側アルミナ含有層が、サスペンションプラズマ溶射法、溶液プラズマ溶射法、及び高速酸素燃料溶射法から選択された堆積法の徴候である微細構造を示す。 （もっと読む）

本明細書において説明されるのは、一実施形態において、ガス分配シャワーヘッドアセンブリを製作するための例示的な方法及び装置である。一実施形態において、この方法は、半導体プロセスチャンバ内にプロセスガスを分配するための第１のセットの貫通孔を有するガス分配プレートを提供することを含む。この第1のセットの貫通孔は、プレート（例えば、アルミニウムの基板）の背面上に位置する。この方法は、ガス分配プレートの洗浄された表面上にコーティング材料（例えば、イットリアベースの材料）を噴霧（例えば、プラズマ噴霧）することを含む。この方法は、コーティング材料の厚さを低減するために、表面からコーティング材料の一部分を除去（例えば、表面研削）することを含む。この方法は、コーティング材料内に第２のセットの貫通孔を形成（例えば、ＵＶレーザー穿孔、加工）し、この第２のセットの貫通孔は第１のセットの貫通孔に合わせて配置されるようにすることを含む。
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第２の成分Ｂと機械的に混合された第１の成分Ａを有する溶射粉末であって、第１の成分Ａが、金属若しくは金属複合材料、好ましくは、Ｎｉ−Ｃｒ−Ａｌで被覆されたＡＢＮ、Ｎｉ−Ｃｒ−Ａｌで被覆されたＨＢＮ、有機結合剤を含むＮｉ−Ｃｒ−Ａｌで被覆された凝集六方晶系窒化ホウ素粉末、無機結合剤を含むＮｉ−Ｃｒ−Ａｌ凝集六方晶系窒化ホウ素粉末、ＭがＮｉ、Ｃｏ、Ｆｅのうちの少なくとも１つであるＭＣｒＡｌＹ型粉末のうちの少なくとも１つであり、成分Ｂが、ニッケル、ニッケル合金、ニッケルクロム合金、ニッケルクロムアルミニウム合金、ニッケルアルミニウム合金、コバルト及びコバルト合金のうちの少なくとも１つで被覆されたポリマーである、溶射粉末。その結果は、４相混合物とする４つのはっきりと異なる相の溶射粉末である。
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【課題】抄紙工程におけるプレスパート等において、紙への平滑性付与機能を備えつつ、紙との高い剥離性を有する抄紙工程用セラミックロールの提供。
【解決手段】外周面側にセラミック層３を備える抄紙工程用セラミックロール１であって、上記セラミック層３表面にスクラッチ目を有し、このスクラッチ目の主方向が周方向に対して傾斜している方向性領域７を有することを特徴とする。上記方向性領域７がスクラッチ目の主方向を長手方向とする帯状形状を有し、この方向性領域７が軸方向に沿って一定間隔に配設されていることが好ましい。さらには上記方向性領域７が、周方向に沿ってジクザグ状に形成されていることが好ましい。また、上記スクラッチ目の主方向の周方向に対する傾斜角としては４°以上６０°以下が好ましい。 （もっと読む）

【課題】プラズマ生成に消費される高周波の電界強度分布を制御することが可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマエッチング装置１０は、内部にて被処理体をプラズマ処理する処理容器１００と、処理容器１００の内部にて互いに対向し、その間に処理空間を形成する上部電極１０５及び下部電極１１０と、下部電極１１０に接続され、処理容器１００内に高周波電力を出力する第１の高周波電源１５０とを有する。上部電極１０５及び下部電極１１０の少なくともいずれかは、板状の金属から形成された基材と、内部に金属のプレート電極を埋設した状態で前記基材に嵌め込まれ、一部が前記基材から露出した誘電体と、を含む。 （もっと読む）