【課題】低毒性であり、硬化性樹脂又はその硬化物が付着した被洗浄物の洗浄に対して、優れた洗浄効果を発揮する溶剤組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）ノルマルプロピルブロマイド１００重量部、及び（ｂ）γ−ブチロラクトン６０重量部〜４５０重量部を含むことを特徴とする、硬化性樹脂又はその硬化物が付着した被洗浄物を洗浄するための溶剤組成物。 （もっと読む）

【課題】あらゆるタイプの汚れに対して、ＨＣＦＣ２２５に匹敵するような洗浄力を示すと共に低毒性で、引火性が低く、オゾン層破壊の恐れが全くない洗浄性に優れる高沸点溶剤を含有する洗浄剤を用いて、被洗浄物表面における汚れの再付着による洗浄性の低下を防止し、かつ、揮発性に優れるＨＦＣやＨＦＥによるリンス工程がなく省スペースを可能とする洗浄方法及び洗浄装置を提供することを課題とする。
【解決手段】蒸発速度の異なる２０℃における蒸気圧が１．３３×１０^３Ｐａ以上の非塩素系フッ素化合物（ａ）と２０℃における蒸気圧が１．３３×１０^３Ｐａ未満の成分（ｂ）とを一定の組成比で併用し、かつ、洗浄時の洗浄条件として、「洗浄槽温度」と「洗浄槽温度と蒸気ゾーン温度との温度差」とを規定することで、洗浄剤を加熱して得られる凝縮液によるリンス工程のない洗浄方法で洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 オゾン層を破壊する恐れが無く、塩素を含まないハイドロフルオロエ−テルをベ−スとして、加工や錆止めとして金属部品に使用されているグリ−スや加工油等の脱脂及び半導体製造時のフラックス除去のために好適に使用される洗浄剤のほか、発泡剤、作動媒体、分散剤、電気絶縁剤等の用途を代替することが可能な共沸乃至それに近い挙動(共沸様)を示す新規な組成物を提供すること。
【解決手段】 ８０〜９９．５重量％の１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエ−テル、及び２０〜０．５重量％の２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロパノールからなる共沸様組成物。 （もっと読む）

【課題】不燃性かつ低毒性等の性質を有し、取り扱いが容易であり、地球温暖化係数が小さく、かつ、温室効果の小さい新規の組成物を提供し、金属やプラスチック部材の洗浄に有効であり、特に、洗浄対象となるプラスチック部材に対する損傷が極めて少ない、洗浄組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタンと（Ｚ）−１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペンからなる共沸様組成物を用いた。 （もっと読む）

本発明は、（ａ）加工物表面の少なくとも一部を、金属塩不含イオン液体及び／又は有機溶剤を含有する処理剤で処理する工程を有し、その際に有機溶剤が、場合によりハロゲン化された炭化水素又は２種又はそれ以上のそのような炭化水素の混合物である、加工物から金属塩含有イオン液体の残留物を除去する方法に関する。加工物上の金属塩含有イオン液体の残留物は、電解浴に由来し、かつ例えばＥＭＩＭＣｌ×１．５ＡｌＣｌ₃（アルミニウムでの金属加工物の電解コーティング用の塩化アルミニウム含有１−エチル−３−メチルイミダゾリウムクロリド）である。有機溶剤（ヘプタン、トルエン、デカリン等）での加工物表面の処理後に、洗浴中に存在するＥＭＩＭＣｌ×１．５ＡｌＣｌ₃の下層は、相分離により電解浴へ返送される。 （もっと読む）

主要量のトランス−１，２−ジクロロエチレンおよび少量のヒドロハロオレフィンの組合せを含む、高い引火点を有するトランス−１，２−ジクロロエチレンブレンドが開示されている。この組合せは、単独のトランス−１，２−ジクロロエチレンよりも有意に高い引火点を示す。好ましいヒドロハロオレフィンは、１−クロロ−３，３，３−トリフルオロプロペン（ＨＣＦＯ−１２３３ｚｄ）である。対象のブレンドは、熱伝導剤、高圧ガスおよび噴霧可能な組成物、発泡剤、溶剤および清浄剤として利用される。 （もっと読む）

（ｉ）〜（ｉｖ）を含む組成物：（ｉ）１０〜２５重量％の１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン、好ましくは１６〜２４重量％の１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン、（ｉｉ）６２〜７０重量％のトランス−ジクロロエチレン、好ましくは６３〜６８重量％のトランス−ジクロロエチレン、（ｉｉｉ）１０〜２１重量％のノナフルオロメトキシブタン、好ましくは１１〜１７重量％のノナフルオロメトキシブタン、（ｉｖ）１〜４重量％のノナフルオロエトキシブタン、好ましくは２〜４重量％のノナフルオロエトキシブタン。上記組成物の洗浄剤、溶剤、脱脂剤、およびフラックス除去剤または乾燥剤としての使用。 （もっと読む）

Ｃｕデュアルダマシン超小型電子部品用構造物から酸化銅エッチ除去するための非常に水性の酸性洗浄組成物であって、その組成物は、Ｃｕデュアルダマシン超小型電子部品用構造物上の銅再析を防止するかもしくは実質的に除去する、組成物。上記組成物は、フォトレジスト後灰分、エッチ後Ｃｕデュアルダマシン超小型電子部品用構造物を洗浄するために特に有用である。本発明はまた、銅エッチ残渣を、フォトレジスト後灰分、エッチ後Ｃｕデュアルダマシン超小型電子部品用構造物から洗浄するためのプロセスを提供する。 （もっと読む）

【課題】物品を洗浄する工程において、洗浄剤中に汚れ成分の増加や洗浄剤に溶解し難い汚れ成分により発生する洗浄不良の抑制効果に優れ、洗浄剤の液寿命を飛躍的に改善する洗浄方法および洗浄装置を提供することを課題とする。
【解決手段】物品を洗浄する工程において、洗浄に先立って、汚れに対する溶解能が乏しく比重の大きい（ａ）２０℃における蒸気圧が１．３３×１０^３Ｐａ以上の非塩素系フッ素化合物６０容量％〜８９容量％を含有する（ｂ）組成物によりプレ洗浄する。 （もっと読む）

【課題】フロンや塩素系溶剤の代換え溶剤として使用されている臭素系溶剤は、フロンや塩素系溶剤に比較して分解しやすいことが特徴である。従来の臭素系の洗浄組成物は、防錆剤やニトロエタンなどの安定剤を用いて分解を防いでいたが、これらの洗浄剤をプリント基板の洗浄剤に用いると、絶縁抵抗の低下をもたらし、リーク不良などが発生することがあった。
【解決手段】臭素系の溶剤の安定剤として、n-プロピルブロマイド、メチレンブロマイド、ブロモクロロメタン、n-ブチルブモマイド、イソブチルブロマイド、sec-ブチルブロマイド、ter-ブチルブロマイドから選択される臭化物と炭素数４〜１０のアルケン系炭化水素またはアルキン系炭化水素を混合したものからなる非引火性洗浄組成物を用いる。 （もっと読む）