【課題】枠に支持体スクリーンを介することなく直接めっき膜を接合することができ、めっき膜の形状変化を抑制することができるマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上にめっき膜３を成膜し、めっき膜３上に剛体の枠１を接合し、枠１が接合されためっき膜３から、基板を剥離する。めっき膜３に、めっき膜３の表裏を貫通する複数の開口部を形成する。複数の開口部は、めっき膜３の全面に略均等に分布するように形成される。また、複数の開口部と、めっき膜３の表裏を貫通しない複数の凹部とが、めっき膜３の全面に略均等に分布するように形成される。 （もっと読む）

本発明は、マイクロリアクタシステム又はマイクロ触媒システム内に設置するのに適しているナノワイヤ構造体に関する。ナノワイヤ構造体の製造のために、ナノ細孔内でのナノワイヤの電気化学的堆積を、好ましくは少なくとも、キャップが形成され、好ましくは少なくとも部分的に一体化するまで続けるテンプレートベースの方法を用いる。２つのカバー層を補強した後、テンプレートフィルムの溶解と、溶解したテンプレート材料の除去とによって、２つのカバー層間の構造化空隙をさらす。ここで、２つのカバー層はそのまま残る。したがって、両側がカバー層によって境されていると共に、ナノワイヤによって柱状に貫通されている、カバー層に平行な平面において２次元のオープンセル型である空隙構造を有する、安定したサンドウィッチ状のナノ構造が生じる。 （もっと読む）

本発明は、セグメント化ナノワイヤの製造、及び該セグメント化ナノワイヤを備える構成要素の製造に関する。ナノワイヤ構造体を製造するために、好ましくはナノワイヤの電気化学的堆積をナノ細孔内で行うテンプレートベースの方法を使用する。したがって、テンプレートフィルム内に多数のナノワイヤが生じる。ナノワイヤの電気化学的堆積では、交互に連続する陰極堆積パルス及び陽極逆パルスを用いる反転パルス方法を実施する。それによって、セグメント化ナノワイヤを製造することができる。 （もっと読む）

【課題】より均一なめっきが可能なめっき用導電性基材を提供するとともに、導体層パターン付き基材を転写法を用いて生産性よく製造できるようにする。
【解決手段】基材及びその基材の表面に形成されている導電性ダイヤモンドライクカーボン膜又は導電性無機材料膜を含むめっき用導電性基材１であり、好ましくは、表面に導電性ダイヤモンドライクカーボン膜若しくは導電性無機材料膜が形成されている導電性基材２及びその導電性ダイヤモンドライクカーボン膜若しくは導電性無機材料膜の表面に形成されている絶縁層３を有し、その絶縁層３に開口方向に向かって幅広なめっきを形成するための凹部４が形成されているめっき用導電性基材。 （もっと読む）

【課題】ハンダ分級のための種々のサファイアあるいはカーボンに穴をあけてノズルとして使用し、噴出してきた粒子をハンダボールとして回収する場合、もしくはインクジェット式プリンターに使用されるノズルの場合は各種のインクを用いて印刷に寄与しているが、上記ノズルにおいて特に、耐熱性の点が課題として考えられている。
本発明はこの点を改良し、耐食、耐熱、耐摩耗性を備えたノズル及びメッシュを提供することを目的とする。
【解決手段】高温の金属液体及び強い酸化還元性溶液、強い酸あるいはアルカリの溶液に用いられる金属ノズル又はメッシュに、孔と周囲全体にＤＬＣ膜を設けて所定の厚さでコートされたノズル及びメッシュを提供する。 （もっと読む）

【課題】表面が黒化された銅金属層を量産性よく製造する方法を提供する。
【解決手段】めっき用導電性基材１を用いて、表面が黒化処理されたパターン化銅金属層を製造する方法において、めっき用導電性基材１が、導電性基材２の表面に絶縁層３が形成されており、その絶縁層３に開口方向に向かって幅広であってめっきを形成するための凹部４のパターンが形成されている導電性基材であり、そのめっき用導電性基材１の凹部４に第１電流密度の下に銅金属を析出させて銅金属層を形成する導電層形成工程、及び、第１の電流密度よりも大きい第２の電流密度の下に上記銅金属層の表面に、その表面が黒色になるように銅金属を析出させる黒化処理工程を、一つのピロリン酸銅めっき浴中にて行うことを特徴とする表面が黒化処理されたパターン化銅金属層の製造方法。 （もっと読む）

【課題】液晶表示パネル用のパネル基板の周囲に周辺シール剤を塗布するためのスクリーン印刷版であって、前記液晶表示パネル内に封止される液晶層表面を傷付けてしまうことのないスクリーン印刷版、およびそれを製造する製造方法を提供すること。
【解決手段】金属板２に周辺シール剤を形成すべき形状の孔８が設けられ、かつ、孔８に、金属板２よりも薄膜のメッシュ４が形成されてなり、その一方の面において、メッシュ４が金属板２と面一になるように配され、当該面がスキージ面を構成することを特徴とするスクリーン印刷版。および、本発明のスクリーン印刷版２０を製造するのに適した製造方法であって、２段階のメッキ処理の工程により１層目のメッキ層で金属板２の１部およ
びメッシュ４を形成し、２層目のメッキ層で金属板２を積層して完成させるメタルマスクスクリーン版の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、食品工業、医薬或いは化粧品製造等に利用されるエマルション、ＤＤＳ（ドラッグデリバリーシステム）用のエマルションなどとして用いられる固体微粒子や液体微粒子であるマイクロスフィアの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
上記の課題は、貫通孔７を形成した基板１を介して分散相と連続相を分離し、分散相を貫通孔７より連続相中にマイクロスフィアとして押出すことによるマイクロスフィア製造方法において、貫通孔７の幅が０．５〜５００μｍ、貫通孔７の深さが１０μｍ〜６０００μｍ、貫通孔７の幅と深さの比が１〜１/３０の範囲を満たし、貫通孔７を形成した基板が金属製基板であることを特徴とするマイクロスフィアの製造方法によって解決される。 （もっと読む）

【課題】 表面が黒化された銅金属層を量産性よく製造する方法を提供する。
【解決手段】 めっき用導電性基材上にめっきにより銅金属を析出させ、その表面を黒化処理する表面が黒化処理された銅金属の製造方法において、第１電流密度の下に層状に銅金属を析出させる銅金属層形成工程、及び、第１の電流密度よりも大きい第２の電流密度の下に上記銅金属層の表面に、その表面が黒色になるように銅金属を析出させる黒化処理工程を、一つのピロリン酸銅めっき浴中にて行うことを特徴とする表面が黒化処理された銅金属層の製造方法。めっき用導電性基材は、パターン状のめっき部を有する導電性基材であってもよい。 （もっと読む）

【課題】 導電性及び光透過性を有するようにパターニングされた電磁波遮蔽部材に有用な導体層パターン付き基材を転写法を用いて生産性よく製造するためのめっき用導電性基材を提供する。
【解決手段】 凸部のパターン及びそれによって描かれる幾何学図形状の凹部を有し、凸部の上端から０．５〜３μｍ低い位置よりも低い位置の凹部表面に絶縁層が形成されており、凸部の導電性基材の露出部分の幅が１μｍ〜４０μｍであって、凹部に絶縁層を施した後の凸部の高さが、１０μｍ以上であるめっき用導電性基材。凸部の露出部分が先端方向に進むにつれて幅が広がっておらず、全体として下部よりも上部で幅が小さくなっていることが好ましい。
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