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国際特許分類[C25D21/08]の内容

国際特許分類[C25D21/08]に分類される特許

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【課題】表面処理に使用した処理容器を簡単な作動で洗浄できる水洗装置を、提供すること。
【解決手段】処理容器9を載せる受板71と、受板71に処理容器9を固定する固定機構と、受板71及び処理容器9を共に上下反転させる反転機構と、上下反転された処理容器9を下方から覆うホッパ74と、を備えており、上下反転された処理容器9内に、噴出部から水を吹きかけて、処理容器9内を水洗するよう、構成されていることを特徴とする水洗装置である。 (もっと読む)


【課題】無排水による表面処理装置において、ランニングコストの低コスト化を図って無排水操業を実質的に可能なものにする。
【解決手段】処理槽2と、この処理槽2の側方に配置された水洗槽4と、処理槽2と水洗槽4との間に配置された回収槽3と、これら各槽2〜4の配置方向に沿って連設された複数の移動体6と、移動体6を処理槽2から回収槽3を経て水洗槽4へ向かう方向で搬送しつつ各槽2〜4の上方では移動体6を下降させ各槽間では移動体6を上昇させる搬送手段7とを有し、処理槽2と回収槽3とが第1向流手段11で接続されていると共に、回収槽3と水洗槽4とが第2向流手段12で接続されており、搬送手段7は、各槽2〜4間で移動体6を上昇させるときに移動体6の外面に生じている隅角部の一つが最低位となるように当該移動体6を斜めに傾斜させる。 (もっと読む)


【課題】連続搬送される帯状被処理物の必要部分のみにめっき液を噴出して連続部分めっきしながら、余剰のめっき液が付着したマスク回転体を効率的に洗浄することができる連続部分めっき装置及びそれを用いた連続部分めっき方法の提供。
【解決手段】長尺の被処理物11を搬送しつつ、めっき必要部分にのみめっき処理を施すための連続部分めっき装置であって、アノード電極となる側板に形成された多数の電極ノズル孔から放射状にめっき液を噴出する電極構造体と、該電極構造体の外側に、それ自体がカソード電極となる被処理物11を搬送しながら回転し、被処理物11のめっき不要部分にめっき液を接触させないようにするマスク回転体3を同心円状に配置し、余剰のめっき液が付着したマスク回転体3に向かって微量の純水を噴霧する洗浄ノズル1、マスク回転体3の表面から過剰な液体を落とす拭き取り部材2を付設したことを特徴とする連続部分めっき装置。 (もっと読む)


【課題】電解液(水溶液)を用いて被処理物に電解処理行う場合、低価格で簡潔な機械加工ラインの中に設置可能な設備により電解リン酸塩化成処理方法を提供し得る。特に、小型リン酸塩化成処理装置を排水なしに導入できる方法を提供する。
【解決手段】電解リン酸塩化成処理浴を用いて、被処理物2を陰極とする陰極電解処理でリン酸塩を含む皮膜を被処理物上に形成する方法であって、被処理物2と接触する電解冶具1は、被処理物2の搬送を兼用せず、電解処理槽内に静置して被処理物2と接触させること;電解処理槽に投入される被処理物2に付着する水分を水分除去手段により抑制し、かつ、電解処理後の被処理物2を水洗槽で洗浄した後に、被処理物2に付着した水分を水分除去手段により水洗槽に戻すこと;ならびに被処理物2を加熱乾燥させ、被処理物2の水分を大気中に除去すること、により電解処理設備外への排水を不要とすることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】処理槽からワークを引き上げる際にワークに付着した処理液を回収して水洗槽に持ち込まれる処理液を減らし、それによって水洗水を削減することができる、処理液の回収装置を提供する。
【解決手段】処理槽1の液面上方のワークWを挟む位置にワークに向けて洗浄水を噴出するシャワーノズル3、3を設け、該シャワーノズル3、3の上方にワークに向けてエアを噴出するエア噴出口5、5を設け、処理槽1上方にワークW及びワークWを吊り下げるハンガー6の周囲を囲む囲い7を設け、囲い7は上下方向に伸縮自在なものとし、ハンガー6の上昇中囲い7の上端を上昇させて囲いを伸ばし、ハンガー6の上昇完了時囲い7の上端を下降させて囲い7を縮めるエアシリンダ9、9を設けた。 (もっと読む)


【課題】洗浄効率の高いバレルめっき装置を提供する。
【解決手段】バレルめっき装置1は、略筒状で回転可能に構成され、内部に被めっき物61の集合体が収容されるバレル10と、挿入構造体30と、を備える。そして、挿入構造体30は、被めっき物61の集合体の内部に直接洗浄液を噴出する噴出機構を備える。被めっき物61の集合体の内部に直接洗浄液を噴出するため、集合体内部にある被めっき物61の洗浄が可能となる。 (もっと読む)


【課題】 気泡を含有する洗浄水を用いて、低コストで効率よく被塗物を洗浄することができる洗浄システムを提供すること。
【解決手段】 電着塗装エリア3で電着塗装された自動車ボデー2を洗浄するための洗浄システム1において、電着塗装エリア3の電着塗料の蒸発溶剤を回収するための回収ユニット7と、回収ユニット7により回収された蒸発溶剤を、気泡密度向上剤として含有する水を貯留するための貯留槽21、および貯留槽21内において気泡を発生させることにより、気泡を含有する洗浄水を調製するためのマイクロバブル発生装置22を有する調製ユニット8と、調製ユニット8から自動車ボデー2に対して、洗浄水を吐出するための吐出ユニット10と、回収ユニットで回収された蒸発溶剤を、調製ユニット8へ供給する供給ユニット9と設ける。 (もっと読む)


【課題】バスダクトに用いられる母線(アルミブスバー)に良好な導電性と防錆性を付与するためのメッキ方法及びその装置を提供する。
【解決手段】メッキ工程として、脱脂処理工程110、第1の洗浄工程120、エッチング工程130、第2の洗浄工程140、硝酸活性化工程150、第3の洗浄工程160、亜鉛メッキ工程170、第4の洗浄工程180、銅メッキ工程190、第5の洗浄工程200、錫メッキ工程210、および後処理工程を具備する。 (もっと読む)


【課題】 鋼材の湿式化学表面処理後の対向多段式洗浄による水洗において、洗浄水量を大幅に削減し、廃水処理を解消する。
【解決手段】 1)洗浄排水は全量上流の化学処理槽に転用して廃水を無くする。2)必要洗浄水準(=化学処理槽濃度/最終洗浄濃度)に対応して水量比k(=洗浄水量/付着水量)と洗浄段数nの関係を特定し、3)k≧1.6とし、4)スプレイ洗浄を効果的に組み込むことにより過大な設備にならず既存設備の改造により実施することができる。処理液の節減と言う付随効果も得られる。 (もっと読む)


【課題】めっき処理した半導体基板をめっき液除去および洗浄する際の異物付着を抑えることができる半導体装置の製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】ウェーハW(半導体基板)をめっき処理槽1内のめっき液13に浸漬して金属膜を形成する工程と、金属膜が形成されたウェーハWをめっき液13の上方のめっき処理槽1内で純水の噴射および回転を付与してウェーハ表面のめっき液を除去する工程とを含んだ半導体装置の製造方法において、ウェーハ表面のめっき液を除去する工程でさらにウェーハWを振動させる。ウェーハWを振動させることでめっき液を振り落とすので、回転のみで液切りする場合に比べて外方へ飛散するめっき液量を抑え、槽の側壁へのめっき液やそれから生じる異物(結晶)の付着、その異物のウェーハWへの再付着を抑えることができる。 (もっと読む)


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