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国際特許分類[C30B15/02]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 結晶成長 (9,714) | 単結晶成長;そのための装置 (9,714) | 融液からの引出しによる単結晶成長,例.チョクラルスキー法 (1,247) | 融液に結晶化物質またはそれをその場所で生成する反応剤を添加するもの (165)

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【課題】原料供給管の構造が簡素で、しかも原料供給速度を減速させ、ルツボの損傷や原料融液の液跳ねを抑制して、シリコン単結晶育成への悪影響等を回避できる原料供給装置およびその装置を用いた原料供給方法を提供する。
【解決手段】原料供給装置は、粒塊状の固形原料をルツボ1内の原料融液5に追加チャージまたはリチャージする装置であり、可搬式の原料供給ホッパー6と、原料供給管7と、投入する原料を原料供給管7の先端で一旦停止させた後、投入する機構とを具備する。投入する機構は、昇降可能に構成された停止物(円柱状シリコン8が望ましい)の表面と原料供給管7の先端開口部との接触部で投入原料が一旦停止され、その後停止物を徐々に上昇させて原料供給管7の先端開口部から原料がルツボ1内に投入されるように構成される。 (もっと読む)


【課題】多結晶体または単結晶体製造装置の主坩堝に融液原料を供給するに際し、特別な加熱手段を設けることなく、また融液原料の液温が該原料の融点付近の比較的低い温度でも、融液原料の凝固を防止し、融液原料を少量ずつ連続的に供給することができる融液原料供給装置を提供する。
【解決手段】融解槽を有する副坩堝2と、副坩堝2の周囲に設けられる加熱手段8と、副坩堝2の融解槽に固体原料を供給する原料供給手段9とを含む融液原料供給装置1において、副坩堝2の融解槽と加熱手段8との間に空隙部3を形成し、この空隙部3を介して融解槽から溢れ出る融液原料5を多結晶体または単結晶体製造装置の主坩堝に供給する。 (もっと読む)


【課題】追加供給した固形状原料の溶解時間を短縮する。
【解決手段】坩堝1内のシリコン塊を完全に溶融状態にした後に、原料供給部6の原料保持部6aに粒状のシリコン原料を充填して坩堝1内のシリコン融液2上に供給する。そして、塊状になってシリコン融液2の表面中央に浮遊するシリコン原料に、不活性ガス吹き付け部7によって不活性ガスを吹き付けて、上記塊状のシリコン原料を坩堝1の側壁に向かって分散させる。さらに、シリコン融液2の表面に不活性ガスを吹き付け続けてシリコン融液2の表面を揺らして山型状のシリコン原料を崩す。こうして、追加供給されたシリコン原料とシリコン融液2との接触面積を増加させて、追加供給したシリコン原料の溶解時間を短縮する。 (もっと読む)


【課題】融液面の固化割合の低い状態で固形状原料のルツボへの投入を可能にし、単結晶製造の生産性を向上させる固形状原料のリチャージ装置およびリチャージ方法を提供する。
【解決手段】固形状原料が充填される筒状のリチャージ管1と、リチャージ管1の下部外側に設けられ、リチャージ管1に対して摺動可能な構造となっている漏斗状外筒2と、漏斗状外筒2を吊り下げるワイヤ7を備え、漏斗状外筒2は下端に縮径傾斜部を有し、縮径傾斜部下端に固形状原料をルツボに供給するための開口部5が設けられ、リチャージ管1内部は分割板3によってリチャージ管1縦軸方向に複数に分割され、リチャージ管1下端中央には、漏斗状外筒の開口部5を塞ぐことが可能な拡径傾斜部を有する下端蓋4が設けられていることを特徴とする固形状原料のリチャージ装置およびこれを用いたリチャージ方法。 (もっと読む)


【課題】リチャージ装置の原料容器200の単結晶製造装置100内での上下位置を任意に制御できるようにすることにより、単結晶の品質および生産性を向上させることを可能とするリチャージ装置およびこれを用いたリチャージ方法を提供する。
【解決手段】結晶融液105を貯留するルツボ101を有する単結晶製造装置100に設けられ、前記ルツボ101に固形状原料155を供給するために固形状原料155が充填される筒状の原料容器200を備える固形状原料155のリチャージ装置であって、筒状の原料容器200を保持する独立して制御可能な2つの保持機構を有することを特徴とする固形状原料155のリチャージ装置。 (もっと読む)


【課題】チョクラルスキー法によるシリコン等の単結晶の製造において、1回のリチャージで供給できる固形状多結晶原料の総量を増やし、高い生産性を実現することが可能な単結晶製造装置およびリチャージ方法を提供する。
【解決手段】ルツボ101内面側に配置された輻射シールド125と、輻射シールド125内面側および上面側を覆う輻射シールドカバー301を有する単結晶製造装置100において、リチャージ管201に充填された固形状多結晶原料155は、リチャージ管201下端外縁部とリチャージ管201下端に配置される底蓋203との隙間から、自重により輻射シールドカバー301上に落下し、輻射シールド301表面の傾斜を滑ることにより落下エネルギーが低下した状態で、結晶融液105を貯留する石英ルツボ101内に落下する。 (もっと読む)


【課題】チョクラルスキー法による単結晶の製造方法において、固形状原料とワイヤ間の摩擦を軽減し、単結晶製造における高い生産性と品質を実現することが可能なリチャージ装置を提供する。
【解決手段】結晶融液を貯留するルツボ101に供給する固形状原料155を充填する筒状の原料容器200と、筒状の原料容器200の底蓋203中心に一端が固定される原料容器200を吊り下げるワイヤ129とを有する固形状原料155のリチャージ装置であって、ワイヤ129が石英で形成される複数の楕円形状または略球状の玉401を貫通していることを特徴とする固形状原料155のリチャージ装置。 (もっと読む)


【課題】シリコン単結晶製造装置において、結晶融液を貯留する石英ルツボに固形状原料を充填する固形状原料のリチャージ方法であって、融液固化に要する時間を制御することにより、クラウンの有転位化率を抑制し、かつ、単結晶中のカーボン不純物濃度を抑制することを可能にする固形状原料のリチャージ方法を提供する。
【解決手段】石英ルツボ内の融液面の固化が発生してから、融液面全面の80%に相当する融液面が固化するまでの時間Y分が、石英ルツボ内径をXmmとするとき、0.0056X+0.6≦Y≦0.144X+5の関係を充足するようにヒーターのパワーを制御する。前記融液面全面の80%に相当する融液面が固化した後、前記融液面の固化速度を上昇させ、前記融液面全面の90%以上が固化した段階でヒータのパワーを上げながら前記石英ルツボに前記固形状原料を充填する。 (もっと読む)


【課題】チョクラルスキー法による単結晶製造装置において、リチャージ管の破損を防止し、よって単結晶の生産性を向上させることを可能とするリチャージ管およびこれを用いたリチャージ方法を提供する。
【解決手段】結晶融液を貯留するルツボに固形状原料を充填するための固形状原料のリチャージ管の下半分301が上半分303より破壊靭性が大きい固形状原料のリチャージ管を用いてリチャージを行なう。 (もっと読む)


【課題】単結晶引上後の原料シリコン充填工程において、原料シリコンの多量の充填が必要な場合に、作業時間を短縮して効率的に原料シリコンを充填することのできる単結晶引上装置及び原料シリコン充填方法を提供する。
【解決手段】ルツボ3を収容する第一のチャンバ2と、第一のチャンバ2上に連結して設けられ、原料シリコンLが装填された供給容器をセットするための第二のチャンバ12と、第二のチャンバ12内から第一のチャンバ2に移送されて第一のチャンバ2内に保持され、原料シリコンLをルツボ3内に供給する第一の供給容器13と、第二のチャンバ12内から第一のチャンバ2内に移送されて第一の供給容器13内に装着され、原料シリコンLをルツボ3内に供給する第二の供給容器とを備える。 (もっと読む)


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