本発明は、紡績したマルチフィラメントヤーンに入っているポリ燐酸に加水分解を受けさせる方法に関する。
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本発明は、成形品に入っているポリ燐酸に加水分解を受けさせる方法に関する。
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【課題】ブラシに使用した場合に、清掃性、耐久性および触感性に優れ、様々な用途に適用可能なブラシ用毛材およびそれを用いたブラシの提供。
【解決手段】複合繊維からなるブラシ用毛材であって、複合繊維が扁平断面形状を有する一つ以上の扁平芯部と扁平芯部の少なくとも一部を覆う被覆部から構成され、扁平芯部および被覆部は溶媒に対して互いに溶解速度の異なる熱可塑性樹脂からなり、扁平芯部が溶媒に対して溶解しないか、または溶解速度が遅い熱可塑性樹脂、および被覆部が扁平芯部の熱可塑性樹脂よりも溶解速度の速い熱可塑性樹脂からなるとともに、ブラシ用毛材の片端部または両端部において、扁平芯部が被覆部に覆われず露出していることを特徴とするブラシ用毛材。 （もっと読む）

【課題】布帛に使用されている繊維の種類、太さ、糸の太さ、糸の撚られ方、および、織または編のあり方によらず、繊維抜蝕加工領域とその周囲の繊維抜蝕未加工領域とが鮮明に分けられた、微細な立体模様の形成された布帛の製造方法を提供する。
【解決手段】布帛に、アルカリ性繊維抜蝕剤を含むインクを繊維抜蝕加工領域にインクジェット方式にて付与する工程、および、水に溶解させたときのｐＨが３．０〜８．０である塩を含むインクを該繊維抜蝕加工領域以外の領域にインクジェット方式にて付与する工程を含む立体模様形成布帛の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】多孔質テキスタイル平面構造物を水密加工するより容易な方法を提供する。
【解決手段】テキスタイル平面構造物上に、０．０２〜１００μｍの平均粒径を有する疎水性粒子か又は後続の処理工程において疎水化される非疎水性粒子を、溶剤中に粒子を有する懸濁液の施与及び引き続く溶剤の除去により施与し、テキスタイル平面構造物の繊維に固定し、かつそのようにして繊維の表面に凸部及び／又は凹部から成る構造を付与し、その際、凸部は２０ｎｍ〜１００μｍの間隔及び２０ｎｍ〜１００μｍの高さを有することを特徴とする、多孔質テキスタイル平面構造物の水密性を高めるための方法。 （もっと読む）

【課題】クリーンルーム用ワイパーにおいて問題となる、乾燥時または水や低級アルコールなどの溶媒含浸時に繊維内部から溶出する特定イオン物質の量が極めて少ない繊維構造体を提供する。
【解決手段】繊維内部の特定イオンの量が各々９０００μｇ／ｋｇ以下であることを特徴とする、好ましくはセルロース系不織布であるセルロース系繊維構造体、および超臨界または高圧二酸化炭素を媒体として処理することを特徴とする前記セルロース系繊維構造体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 従来のポリアミドイミド樹脂又はポリイミド樹脂において良好であった耐熱性・耐薬品性・難燃性等の諸性能を殆ど低下させることなくその繊維直径が従来に比して著しく微細なるポリアミドイミド樹脂又はポリイミド樹脂を主成分とする微細繊維及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 ポリアミドイミド樹脂又はポリイミド樹脂若しくはその前駆体と、少なくとも１種類以上の繊維形成性高分子化合物と、これらを溶解する有機溶剤とを主成分とする紡糸原液を得る工程と、細孔を通して吐出した紡糸原液を固化させて紡糸する工程によって易分割性繊維束を得る。この易分割性繊維束中の繊維形成性高分子のみを溶解除去して微細繊維を得る。 （もっと読む）

【課題】 繊維・繊維製品形状に制約が無く、広く応用展開可能な単糸繊度ばらつきの小さなナノファイバーを提供するものである。
【解決手段】 数平均による単糸繊度が１×１０^-7〜２×１０^-4ｄｔｅｘであり、繊度比率の６０％以上が単糸繊度１×１０^-7〜２×１０^-4ｄｔｅｘの範囲であり、ポリエステルがポリ乳酸、ポリブチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリエチレングリコール共重合ポリエステルから選ばれるポリエステルからなるナノファイバー集合体。 （もっと読む）

【課題】従来には無かった単糸繊度ばらつきの小さなナノファイバー集合体を提供する。
【解決手段】数平均による単糸繊度が１×１０^-7〜２×１０^-4ｄｔｅｘであり、繊度比率の６０％以上が単糸繊度１×１０^-7〜２×１０^-4ｄｔｅｘの範囲であり、ポリフェニレンスルフィドからなり、長繊維および／または紡績糸形状であり、繊度比率で５０％以上のナノファイバーが単糸直径差で３０ｎｍの幅に入り、強度が１ｃＮ／ｄｔｅｘ以上であるナノファイバー集合体。 （もっと読む）

【課題】本発明は、従来の多孔繊維とは異なり、粗大細孔をほとんど含まないナノ細孔が均一性に分散したナノポーラスファイバーを提供するものである。
【解決手段】上記目的は、直径１００ｎｍ以下の細孔を有するナノポーラスファイバーであって、繊維横断面全体に占める直径２００ｎｍ以上の細孔の面積比が１．５％以下であり、細孔が独立孔であるナノポーラスファイバー（ナノポーラス部が繊維横断面中で偏心的に偏在していることを除く）により達成される。 （もっと読む）