【課題】被計測物を精度よく計測することができる３次元計測装置およびそれに用いられる照明装置を提供する。
【解決手段】３次元計測装置１は、被計測物８に円偏光を照射する照明手段２と、照明手段２を移動させる移動手段３とを備える。また、３次元計測装置１は、被計測物８の被照射面からの反射光を受けて上記被照射面を撮像する撮像手段４と、撮像手段４で撮像された撮像画像を用いて反射光の偏光状態を検出し、被計測物８の被照射面の向きを求める演算手段５とをさらに備える。照明手段２は、円偏光を被計測物８の一部に照射する。移動手段３は、被計測物８において被照射面の位置が変わるように照明手段２を移動させる。 （もっと読む）

【課題】フロントガラス面の異物を検出するとともに、雨滴の付着度合を容易に検出する。
【解決手段】フロントガラスに向けて光を照射する光源と、前記フロントガラスに対して前記光源と同じ側に、焦点が前記フロントガラスの位置よりも遠方に設定され撮像レンズと、複数の画素アレイを有する撮像素子と、前記撮像レンズと前記撮像素子の間に前記基板の撮像素子側の面の有効撮像領域の一部のエリアに、所定の波長範囲の光のみ透過する領域分割型分光フィルタ層を有する光学フィルタを備え、前記フロントガラスの外側の面に付着した異物によって反射された前記光源からの光を撮像する撮像装置を備えた画像処理システムにおいて、前記撮像素子の各フレーム間で前記光源に対する変調度を変化するように制御する制御部と、前記フロントガラス面での前記光源からの照射光量の変化に応じて、前記撮像装置により撮像された画像から前記フロントガラス面に付着した雨滴の付着度合いを検出する画像解析処理部とを備える。 （もっと読む）

【課題】ワイドギャップ半導体においても、ＣＰＭ測定による欠陥密度の精度の高い評価を可能とする。
【解決手段】ワイドギャップ半導体のバンドギャップの波長（λ_Ｅｇ）以下、所定の波長範囲以上におけるＣＰＭ測定で得られた照射光量から導出した吸収係数と、別途測定したワイドギャップ半導体のλ_Ｅｇ以下の所定の波長範囲以上における吸収係数とのフィッティング値Ｆ（ｘ）を０．０００１以上１以下、好ましくは０．０００１以上０．１以下とする。 （もっと読む）

【課題】短時間のうちに高精度にガスバリア性を評価することを可能とするガスバリア性積層フィルムの検査方法を提供する。
【解決手段】基材２と、基材２に形成されたガスバリア膜３と、を有するガスバリア性積層フィルム１の検査方法であって、ガスバリア膜３の屈折率を測定し、当該屈折率の測定値と、予め測定したガスバリア膜３のガス透過度とガスバリア膜３の屈折率との関係とから、ガスバリア膜３のガスバリア性を判定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被検体を透過した透過光の偏光状態を測定する新たな手法の提案。
【解決手段】光学装置３は、光源３００から出射し、第２偏光部３０８によって変換された直線偏光が被検体Ｓを透過した透過光を検光して出射する検光部３１４を有する。また、光学装置３は、検光部３１４からの出射光を直交分離する直交分離部３１６と、直交分離部３１６によって直交分離された光を受光する受光部３２０とを有する。演算装置は、回転装置３３０に回転制御信号を出力し、回転面が透過光の光路に対して直交するよう検光部３１４を回転制御する。そして、演算装置は、検光部３１４の回転中に直交分離部３１６によって直交分離された光を受光部３２０で受光した強度を用いて、被検体Ｓを透過した透過光の偏光状態を測定する。 （もっと読む）

【課題】受光素子１画素程度の微小領域ごとに領域分割された偏光フィルタ層や分光フィルタ層を積層した構造を実現することを課題とする。
【解決手段】画像センサ２０６の前段に配置される光学フィルタは、特定方向の偏光成分Ｐのみを選択して透過させる鉛直偏光領域と該特定方向とは異なる方向の偏光成分Ｓのみを選択して透過させる水平偏光領域とが撮像画素単位で領域分割された偏光フィルタ層２２２と、赤色波長帯の光のみを選択して透過させる赤色分光領域と波長選択を行わずに光を透過させる非分光領域とが撮像画素単位で領域分割された分光フィルタ層２２３とを、光透過方向に積層した構成を有し、積層方向下側に位置する偏光フィルタ層の積層方向上面の凹凸を充填材２２４で充填して平坦化した後に分光フィルタ層を形成したものである。 （もっと読む）

【課題】検光子を一定の回転速度で回転させ、かつ被計測物の計測を比較的短い時間で行う偏光解析装置を提供する。
【解決手段】照明装置１０は被計測物１に光を照射し、撮像手段２０は被計測物１からの反射光を受光する。被計測物１と撮像手段２０との間には、回転手段２２により回転される検光子２１が配置される。検光子２１の回転角度は角度センサ２３が検出する。角度センサ２３が規定の回転角度を示す時点で、トリガ手段２５が照明装置１０と撮像手段２０とにトリガ信号を出力し、撮像手段２０が被計測物１からの反射光を受光している間に、照明装置１０が閃光を発生させる。解析手段２４は、照明装置１０が閃光を発生させた時点で角度センサ２３が検出した検光子２１の回転角度と、撮像手段２０が受光した光の強度とを用いて反射光の偏光状態を解析する。 （もっと読む）

【課題】小型化及びそれに伴う低価格化を実現することが可能な光断層画像形成システム及びそれに用いる検出ユニットを提供することにある。
【解決手段】光断層画像形成システム１００は、光学偏光素子２５０を有し、物体反射光ビームと参照反射光ビームを干渉させた干渉偏光ビームを波長毎に分離しつつ、各波長毎の各偏光成分を検出する検出ユニット２００を備えている。また、偏光用光学素子２５０は、分離された各波長の干渉偏光ビームが波長順に並列に入射されるとともに、所定の条件を具備する第１屈折率及び第２屈折率を有する複屈折の特性を有し、当該入射された各波長の干渉偏光ビームを透過しつつ偏光成分毎に分離して当該分離した各波長における各偏光成分を同一方向にそれぞれ異なる光軸によって出射するようになっている。 （もっと読む）

【課題】高速且つ高精度に円二色性イメージを撮像することが可能な円二色性イメージング装置を提供する。
【解決手段】円二色性イメージング装置１では、カメラ５１が右円偏光及び左円偏光の一度の出射時間と等しいか又はそれよりも短い撮像時間での撮像可能とされ、右円偏光及び左円偏光のいずれかが試料１００により透過された透過光による画像がカメラ５１により撮像される。このとき、タイミング信号発信器７０からのタイミング信号と、変調信号発振器３２による変調信号の周期とに基づいて、各画像が右円偏光及び左円偏光のいずれの透過光を撮像したものであるかが判断部６１により判断され、右円偏光画像であると判断された画像は右円偏光画像格納部６２に格納されると共に、左円偏光画像であると判断された画像は左円偏光画像格納部６３に格納される。この結果得られた右円偏光画像と左円偏光画像とから円二色性イメージを作成・出力する。 （もっと読む）

【課題】高速且つ高精度に円二色性イメージを撮像することが可能な円二色性イメージング装置を提供する。
【解決手段】円二色性イメージング装置１では、右円偏光画像を撮像するための第１の期間では、光源１０からパルス光を出射しているときに、変調器３０によってパルス光が右円偏光に変調され、この結果カメラ５０によって撮像された画像が右円偏光画像として右円偏光画像格納部６３に格納される。また、左円偏光画像を撮像する第２の期間では、光源１０からパルス光を出射しているときに、変調器３０よってパルス光が左円偏光に変調され、この結果カメラ５０によって撮像された画像が左円偏光画像として左円偏光画像格納部６３に格納される。そして、上記の結果得られた右円偏光画像と左円偏光画像とから円二色性イメージを作成・出力する。 （もっと読む）