【課題】拡散反射率とヘイズを考えて、黒度を算出することにより黒度に優れた防眩フィルム、及び防眩フィルムを含む偏光板及び表示装置を提供すること。
【解決手段】透明基材上に防眩性コーティング組成物をコーティング及び硬化させて形成された防眩層を含んでなり、拡散反射率（ＳＣＥ）とヘイズが下記の数学式１を満たすことを特徴とする防眩フィルム及びこれを用いた偏光板及び表示装置。
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【課題】本件発明の課題は、プラスチック光学部品の表面に対する密着性に優れ、広い波長領域の光に対して優れた反射防止性能を有するプラスチック光学部品の反射防止膜及びプラスチック光学部品の反射防止膜の製造方法を提供することである。
【解決手段】上記課題を解決するため、反射防止膜を、プラスチック光学部品基材上に設けられ、有機系ケイ素化合物を用いて形成された応力緩和層と、当該応力緩和層上に、高屈折率層と、有機系ケイ素化合物を用いて形成される低屈折率層とを当該順序で積層した二層を一組の反射防止ペア層として、当該反射防止ペア層を少なくとも二組積層した構造を有する反射防止構造体とを備える構成とする。 （もっと読む）

【課題】凹凸構造体の製造方法において、有機系反射防止膜のパターンの底部でライン幅が増大するのを防止する。
【解決手段】凹凸構造体１２は、光学ガラスウェハ１に有機系反射防止膜２とフォトレジスト３とを順に重ねてレジストパターンマスク５を形成し、光学ガラスウェハ１をドライエッチングすることで可視光波長領域よりも短いピッチで凸部１２Ａが形成されており、レジストパターンマスク５を形成した後、光学ガラスウェハ１をドライエッチングする前に、レジストパターンマスクの側面に形成されたＣ−Ｃｌ系の堆積膜６の組成を結合エネルギーの強いＣ−Ｆ系の堆積膜９に組成変換するので、光学ガラスウェハ１をライン幅の細いままドライエッチングすることができて、凸部１２Ａのライン幅の増大を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】耐熱温度の低い樹脂材料などに、膜応力が大きい膜材料を成膜するときに、膜クラックの発生が少なく、環境試験寿命を大幅に長くできるスパッタリング方法を提供することを目的としている。
【解決手段】樹脂基板９などに高屈折率膜１５，低屈折率膜１６，高屈折率膜１７，低屈折率膜１８をスパッタする場合に、スパッタの開始前の圧力を１０^−１Ｐａ台の低真空として、膜応力を引張応力とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ゴーストやフレアをより低減させ、優れた光学性能を有する撮影レンズ、光学機器、撮影レンズの製造方法を提供する。
【解決手段】最も物体側に配置され負の屈折力を有する前群と、前群より像側に配置され負の屈折力を有し、少なくとも一部が光軸と略垂直方向の成分を持つように移動する後群とで構成し、後群は物体側から順に第１負レンズ成分と第２負レンズ成分と正レンズ成分とで構成し、第１負レンズ成分の第２負レンズ成分側のレンズ面は当該第２負レンズに対して凹面を向けるよう形成され、第２負レンズ成分は第１負レンズ成分に対して凹面を向けた負メニスカスレンズ形状であり、後群のうち少なくとも１面に非球面を有し、前群における光学面のうち少なくとも１面に、ウェットプロセスを用いて形成された層を少なくとも１層含む反射防止膜が設けられていることを特徴とする撮影レンズ。 （もっと読む）

【課題】反射率が十分に高い硬化膜を形成することができる硬化性組成物、あるいは該硬化膜を有する反射率が十分に低い反射防止用積層体ならびにその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る反射防止用積層体は、セルロース樹脂基材と、セルロース樹脂を溶解する重合性成分（Ａ１）を５質量％以上７５質量％以下含む重合性化合物（Ａ）及び屈折率が１．５０以上である粒子（Ｂ）を含有してなる硬化性組成物の硬化膜と、２５℃におけるＮａ−Ｄ線の屈折率が１．５０未満である層と、をこの順番で備え、前記セルロース樹脂基材と前記硬化膜とは接して積層され、前記（Ｂ）粒子は前記硬化膜中においてセルロース樹脂基材とは反対側に偏在していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】金型ないし光学素子の無断複製を円滑に抑制し得る光学素子、マスター原器、樹脂マスター、樹脂成形品および金型を提供する。
【解決手段】対象光が透過する面内に前記対象光の波長帯よりも小さなピッチにて微細起伏構造が形成され、微細起伏構造の形成領域の一部に微細起伏構造の形成状態が他の領域に比べ相違する識別パターン領域が配されている。識別パターン領域を物理的に検証することにより、マスター原器、樹脂マスター、樹脂成形品ないし金型の製造元を検証することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、微細な凹凸パターンを有する光学部材との密着性に優れ、水洗工程でも剥離せず、使用後は糊残りなく剥離可能な光学部材用保護フィルムが上記光学部材上に形成されてなる光学部材積層体の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明においては、光学的機能を有する機能性微細凹凸パターンを有する光学部材と、上記機能性微細凹凸パターンを保護する光学部材用保護フィルムとが積層されてなる光学部材積層体の製造方法であって、上記光学部材の上記機能性微細凹凸パターンに光学部材用保護フィルム形成用材料を充填する充填工程と、上記光学部材用保護フィルム形成用材料を硬化することにより、上記光学部材上に上記光学部材用保護フィルムを形成する光学部材用保護フィルム形成工程とを有することを特徴とする光学部材積層体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】光の反射防止性能、光の透過改良性能等を有する構造体に要求される条件として、表面形状のみならず、表面の物性に関するものも見出し、特に表面耐傷性等の機械的強度、汚れの付き難さ等を付与した構造体を提供すること、また、かかる特定の構造体を形成させる材料を提供すること。
【解決手段】表面に、平均高さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凸部又は平均深さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下で存在する構造体であって、該構造体が、光照射、電子線照射及び／又は加熱によって、（メタ）アクリレート化合物を含有する重合性組成物が重合したものであって、該（メタ）アクリレート化合物が、該（メタ）アクリレート化合物全体に対して、５３質量％以上のポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートを含有することを特徴とする構造体。 （もっと読む）

【課題】再現性よく光取り出し効率を向上させることができる半導体発光素子、ウェーハ、および窒化物半導体結晶層の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施態様によれば、第１半導体層と、発光層と、第２半導体層と、低屈折率層と、を備えた半導体発光素子が提供される。前記第１半導体層は、光取り出し面を形成する。前記発光層は、前記第１半導体層の上に設けられ活性層を有する。前記第２半導体層は、前記発光層の上に設けられている。前記低屈折率層は、前記第１半導体層の屈折率よりも低い屈折率を有し、前記光取り出し面を部分的に覆う。 （もっと読む）