【解決手段】酸化テルビウム（化学式：Ｔｂ₂Ｏ₃）をモル比で４０％以上と、イットリウム酸化物、スカンジウム酸化物及びランタニド希土類酸化物から選ばれる少なくとも１種の酸化物とを主成分とするセラミックスにおいて、
（１）前記酸化テルビウム系のセラミックスの結晶構造が、立方晶以外の異相を含まず、
（２）平均結晶粒子径が、０．５〜１００μｍの範囲にあり、
（３）前記酸化テルビウム系のセラミックスの結晶構造において立方晶以外の異相を析出させない焼結助剤を含有する透明セラミックス。
【効果】本発明に係る透明セラミックスは、既存のテルビウムガリウムガーネットなどのような単結晶材料と同等又はそれ以上の性能をもつ磁気光学素子を提供できる。光学ロス、光学的均一性においても、複屈折成分が非常に少なく、散乱も非常に少なく、５００ｎｍ以上１．５μｍ以下の赤外線領域での光アイソレータでの機能素子を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い、画素ずらし装置で生じるクロストークを抑制することができる投射型表示装置を提供する。
【解決手段】投射型表示装置は、光源１ａと、光源からの光を偏光にする偏光子１１ａ、１１ｂ、１１ｃと、表示画像の強度に応じて、偏光を変調するとともに、順次走査する液晶表示素子１２ａ、１２ｂ、１２ｃと、表示画像の更新の度に、液晶表示素子からの光の偏光方向をその光軸の周りで９０°回転させる偏光角回転素子２１と、偏光角回転素子からの光をその偏光方向に応じて射出時の光路をずらす複屈折素子３２と、偏光子と液晶表示素子の間に配置され、液晶表示素子の順次駆動方向に複数の領域に分けられて液晶表示素子の表示と連動して分轄駆動される液晶シャッタ１０ａ、１０ｂ、１０ｃと、偏光素子からの光を投射面に向かって拡大投射する投射光学系１６とを備える。 （もっと読む）

【解決手段】下記式（１）
（Ｔｂ_xＲｅ_1-x）₂Ｏ₃ （１）
（式中、Ｒｅはスカンジウム、イットリウム、ランタン、ユウロピウム、ガドリニウム、イッテルビウム、ホルミウム、ルテチウムより選ばれる少なくとも１つの元素を示し、０．４≦ｘ≦１．０である。）
で示される酸化物を主成分とする酸化物セラミックスからなり、２５℃における上記酸化物セラミックス結晶の粒界の屈折率と主相の屈折率との差が０．００４以下であることを特徴とするセラミックス磁気光学材料。
【効果】本発明によれば、偏光状態が良好で、消光比の大きい、光アイソレータファラデー回転子用等のセラミックス磁気光学材料を確実に提供することができ、加工機用ファイバーレーザに使用する光アイソレータの小型化を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】平板状の複屈折結晶を用いた、小型且つＰＭＤおよび偏波クロストークの特性が良好な偏波合成装置を提供する。
【解決手段】第１の出力導波路１０８１が出力端面Ｍに対して斜めに形成され、第２の出力導波路１０９１が第１の出力導波路１０８１と出力端面Ｍの双方に対して斜めに形成された光導波路素子１０と、第１及び第２の出力導波路１０８１，１０９１からそれぞれ出射された光を互いに平行な光にするレンズ２０と、光導波路素子１０又はレンズ２０からの出射光の偏波を回転させて該出射光を偏波が互いに異なる光ＬＯ，ＬＥとする偏波回転部３０と、偏波が互いに異なる光ＬＯ，ＬＥを偏波合成する偏波合成素子４０と、を備え、偏波合成素子４０の光伝搬方向の厚さＬは、偏波合成された光の偏波モード分散の許容最大値に対応する第１の厚さよりも小さく、偏波合成された光の偏波クロストークの許容最小値に対応する第２の厚さよりも大きい。 （もっと読む）

【課題】挿入損失で０．６ｄＢを下回り、高い収率で製造可能なビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜（ＲＩＧ）と光アイソレータを提供する。
【解決手段】化学式Ｇｄ₃（ＳｃＧａ）₅Ｏ₁₂で示される非磁性ガーネット基板上に液相エピタキシャル成長法により育成されたビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜において、化学式Ｃｅ_3-x-yＧｄ_xＢｉ_yＦｅ₅Ｏ₁₂で示され、ｘとｙが１．２０≦ｘ≦１．５８、０．８０≦ｙ≦１．１９であることを特徴とする。化学式Ｃｅ_3-x-yＧｄ_xＢｉ_yＦｅ₅Ｏ₁₂で示される本発明のＲＩＧは、従来のＲＩＧと比較して挿入損失で０．６ｄＢを下回り、かつ、波長１μｍ程度の光吸収に起因した発熱量の低減が図れるため、加工用高出力レーザー装置の光アイソレータ用ファラデー回転子に使用するできる顕著な効果を有する。 （もっと読む）

【課題】無偏光から所望の偏光成分を５０％以上の効率で得る。
【解決手段】基板１１中に入射側から出射側にかけて基板１１の平面視における形状が４回対称である第１の散乱体１０、上記基板の平面視における形状が４回非対称である第２の散乱体２０を順に設け、第１の散乱体１０により、入射された伝搬光に基づいて近接場光を滲出させ、第２の散乱体２０により、第１の散乱体１０により滲出した近接場光及び入射された伝搬光を受けて偏光成分の変換された出射光を放出する。 （もっと読む）

【課題】挿入損失で０．６ｄＢを下回り、高い収率で製造可能なビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜（ＲＩＧ）と光アイソレータを提供する。
【解決手段】化学式Ｇｄ₃（ＳｃＧａ）₅Ｏ₁₂で示される非磁性ガーネット基板上に液相エピタキシャル成長法により育成されたビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜において、化学式Ｐｒ_3-x-yＧｄ_xＢｉ_yＦｅ₅Ｏ₁₂で示され、ｘとｙが１．２０≦ｘ≦１．５６、０．８０≦ｙ≦１．１９であることを特徴とする。化学式Ｐｒ_3-x-yＧｄ_xＢｉ_yＦｅ₅Ｏ₁₂で示される本発明のＲＩＧは、従来のＲＩＧと比較して挿入損失で０．６ｄＢを下回り、かつ、波長１μｍ程度の光吸収に起因した発熱量の低減が図れるため、加工用高出力レーザー装置の光アイソレータ用ファラデー回転子に使用するできる顕著な効果を有する。 （もっと読む）

【課題】作製手順が少なく作製が容易で，且つ軽量の偏光解消素子の提供。
【解決手段】液晶性分子をランダムに配向させた状態に固定してなる薄膜を含んでなる偏光解消素子，及び光重合性液晶性液晶性高分子を含んでなる重合性材料を，非配向性の表面を有する基板の該表面に塗布し，これを該光重合性液晶性高分子がネマチック相の状態をとる温度に一旦加熱した上で，該温度より低下させ，該光重合性液晶性高分子を，偏光軸の方向について全体として偏りのない光照射に付すことにより重合させ，次いで焼成することを含む，偏光解消素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】半導体レーザを光源とするレーザ光源装置を備えた画像表示装置において、レーザ光源装置よりも少ない光学素子を用いて各色のレーザ光を投射光学系側に導くことを可能とする。
【解決手段】画像表示装置１は、緑色、赤色及び青色を出力するレーザ光源装置２〜４と、各色のレーザ光を外部に投射する投射光学系８と、各色のレーザ光を投射光学系側に導くダイクロイックミラー１４、１５とを備え、緑色のレーザ光の出力光軸Ｐ_Ｇは、青色および赤色レーザ光の出力光軸Ｐ_Ｂ、Ｐ_Ｒに対して順次交差し、ダイクロイックミラー１４は、緑色および青色のレーザ光をダイクロイックミラー１５に向けてそれぞれ透過および反射させ、ダイクロイックミラー１５は、ダイクロイックミラー１４にてそれぞれ透過および反射した緑色および青色のレーザ光と赤色のレーザ光との一方を反射させ且つ他方を透過させる構成とする。 （もっと読む）

【課題】レーザー光線発信器から発振されたレーザー光線の出力を高速制御することができるレーザー光線照射機構およびレーザー加工装置を提供する。
【解決手段】レーザー光線発振器と集光レンズとの間に配設された出力調整手段６３とを具備するレーザー光線照射機構であって、出力調整手段は、１／２波長板と、直線偏光のレーザー光線を入光してS偏光成分を反射させP偏光成分を透過せしめる第１の偏光ビームスプリッター面および第２の偏光ビームスプリッター面を備えたプリズム６３２と、S偏光成分とP偏光成分との間に位相差(α)を生成する光路長調整手段６３３と、偏光成分合成手段６３６と、偏光成分合成手段で合成されたレーザー光線を分光する偏光ビームスプリッター面を備え、偏光成分合成手段で合成されたレーザー光線のS偏光成分とP偏光成分との位相差(α＋β)を０度から１８０度の間で制御する制御手段とを具備している。 （もっと読む）