国際特許分類[G03F7/022]の内容
物理学 (1,541,580) | 写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化またはパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置 (38,375) | 感光材料 (22,284) | キノンジアジド (829)
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高分子キノンジアジド;高分子添加剤,例.結合剤 (661)
国際特許分類[G03F7/022]に分類される特許
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樹脂組成物及びそれよりなる絶縁膜、半導体装置、及び有機電界発光素子
【課題】感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表される構造単位および/または一般式(1)で表される構造単位の前駆体よりなる化合物を成分(a)として含み、かつ、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、チオール基より選ばれる少なくとも1つの官能基を有することを特徴とする樹脂組成物。
【化1】
(一般式(1)において、nは1〜2の整数である。R1〜R4はH、F、CF3、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基のいずれかを示し、同じでも異なっていてもよい。R5、R6はH、または炭素数1〜10のアルキル基のいずれか一つを示し、同じでも異なっていてもよい。Raは置換基を示す。)
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ポジ型感光性樹脂組成物
【課題】アルカリ現像可能で高感度な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(a)構造単位間の結合が一般式(1)で表されるような構造単位を主成分とするポリマーと(b)光酸発生剤を含有しており、光照射及びそれにつづく現像によってパターン形成可能であり、上記ポリマー1g中に含まれる全カルボキシル基が、0.02mmol以上2.0mmol以下であることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
【化1】
(R1は少なくとも2個以上の炭素原子を有する3価から8価の有機基、R2は、少なくとも2個以上の炭素原子を有する2価から6価の有機基、R3は水素、または炭素数1から20までの有機基を示し、すべて水素であることはない。nは3から100000までの整数、mは1または2、p、qは0から4までの整数を示し、かつp+q>0である。)
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ポリベンズオキサゾール前駆体及びレジスト溶液の製造方法
【課題】 微細濾過可能の良好な可溶性のポリベンズオキサゾール前駆体の溶液又はこの種の前駆体をベースとするレジスト溶液及び光活性成分の価格的に有利な製造方法及び廃棄物の発生を回避して環境に優しい前駆体の製造を可能にする方法を提供する。
【解決手段】 ハロゲン化ジカルボン酸を有機性溶剤中のビス−(o−アミノフェノール)とこの溶剤に不溶の第三窒素原子を有するポリマーの存在下に反応させ、余分のポリマー又はハロゲン化水素を反応溶液から分離する。場合によっては反応溶液を更に光活性成分と混合する。
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ポジ型レジスト組成物並びにそれを用いるカラーフィルターの製造方法
【目的】 解像度及び耐熱性等の諸性能に優れたポジ型レジスト組成物、並びに工程管理等の容易なカラーフィルターの製造方法を提供する。
【構成】 酸により硬化しうる樹脂、キノンジアジド化合物、架橋剤、光酸発生剤、染料及び溶剤を含有してなるポジ型レジスト組成物、並びに該ポジ型レジスト組成物を基体上に塗布後、マスクを通して露光し、該露光部を現像・除去してポジ型着色画像を形成させ、次いで、未露光部である上記着色画像を全面露光して硬化させることからなるカラーフィルターの製造方法。
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レイビル基を有するポリマーを含有する放射線感光性組成物
【目的】 本発明はフェノール単位と環式アルコール単位とのポリマー結合剤を有する放射線感光性組成物を提供する。
【構成】 ポリマーのフェノール単位及び/又は環式アルコール単位の少なくとも一部は酸レイビル基に結合している。結合剤を酸レイビル基に並程度に置換するだけで、露光領域と非露光領域との間に高い溶解度の差が得られる。
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乾式現像パターンの形成方法
ポジ型フオトレジスト組成物
【目的】 耐熱性に優れたレジストパターンが得られるポジ型フオトレジスト組成物とする。
【構成】 ポジ型フオトレジスト組成物が、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び式(I)〜(III)で表される化合物を少なくとも1種含有する。
【化1】
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ポジ型レジスト及びレジストパターン形成方法
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