【課題】 高感度かつ高解像度、高残膜率のポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、水酸基濃度が０．００６０ｍｏｌ／ｇ以下であり一般式（１）で示されるフェノールのナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物（Ｂ）を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
【化１】


（式中、Ｒ_１は２価の有機基である。Ｒ_２、Ｒ_３は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル基、置換シクロアルキル基、アリール基、置換アリール基、炭素数１〜５のアルコキシ基、または炭素数１〜５アシル基であり、それぞれ同じでも異なっていても良い。ａ，ｂ＝０〜３の整数である。Ｒ_２、Ｒ_３が複数ある場合は、それぞれ同じでも異なっていても良い。） （もっと読む）

【課題】本発明の感光性樹脂組成物は、高感度でレリーフパターンが得られ、硬化後のパターンに耐薬品性を有する硬化レリーフパターンを基板上に形成する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性ポリイミド１００質量部に対して、（Ｂ）アリル基含有化合物１〜１００質量部、（Ｃ）光により酸を発生する化合物１〜１００質量部を含むポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度かつ高解像度、高残膜率のポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、一般式（１）で示されるフェノールのナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物（Ｂ）を含むポジ型感光性樹脂組成物。


（式中、Ｒ_１は炭素数１〜１５のアルキレン基、置換アルキレン基、炭素数２〜１５のアルケニレン基、置換アルケニレン基である。Ｒ_２〜Ｒ_５は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル基、置換シクロアルキル基、アリール基、置換アリール基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜５のアシル基、炭素数１〜５のエステル基であり、それぞれ同じでも異なっていても良い。） （もっと読む）

【課題】露光用マスクの回路パターンを忠実且つシャープに再現可能とする厚膜レジストウォータプロセスの開発をその解決課題とする。
【解決手段】シリコン基板(S)の表面にレジスト(L)を塗布し、該レジスト(L)に回路形成パターンを露光して回路形成パターンを焼き付け、然る後、該回路形成パターンが焼き付けられたレジスト(L)を現像する厚膜レジストプロセスであって、露光前にレジスト(L)に水分を与えた後、レジスト(L)を露光することを特徴とするもので、レジスト(L)内の水分によりインデンケテンが急速にかつ大量に形成され、更にこのインデンケテンがレジスト(L)内の水分によりアルカリ現像液に可溶なインデンカルボン酸変化することにより、露光用マスク(M)に極めて忠実な露光・現像を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】より良好なプロファイルを有し、薬品耐性の高いパターンを形成することが可能な層間絶縁膜用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）、感光剤（Ｂ）を含む層間絶縁膜用感光性樹脂組成物であって、前記アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）が、フェノール性水酸基含有構成単位（ａ１）と、架橋性基含有構成単位（ａ２）と、を含む共重合体（Ａ１）を含み、前記層間絶縁膜用感光性樹脂組成物により得られるレジストパターンの側壁角を、４５度以上９０度以下とする。 （もっと読む）

【課題】金メッキのプロセスにおいても劣化しにくく、かつ銅箔に対し十分な接着力を有する保護膜を形成できる感光性ポリイミドシリコーン組成物、この感光性ポリイミドシリコーン組成物により形成されるフレキシブルプリント配線板の保護膜、及び該保護膜を有するフレキシブルプリント配線板を提供する。
【解決手段】可溶性ポリイミド樹脂及びポジ型感光剤を含有する感光性組成物であって、前記可溶性ポリイミド樹脂が、芳香族テトラカルボン酸二無水物とジアミンの縮合物であり、前記ジアミンが、シリコーンジアミン、及びヘキサフルオロ−２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパンを全ジアミンに対して１〜５０モル％含有する感光性ポリイミドシリコーン組成物、この感光性ポリイミドシリコーン組成物により形成されるフレキシブルプリント配線板の保護膜、及び該保護膜を有するフレキシブルプリント配線板。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、電気特性、機械的特性及び不燃性等の特性を有し、密着性や柔軟性等に優れ、成形時の反りの小さいカバーレイフィルムを成形することができ、かつ弱アルカリ性の無機アルカリ溶液で現像することができる感光性ポリイミド樹脂組成物。
【解決手段】感光性ポリイミド前駆体組成物は、少なくとも１種のポリイミド前駆体、感光剤及び極性有機溶媒を含有する。ポリイミド前駆体は、少なくとも１種の芳香族テトラカルボン酸二無水物と、水素、ハロゲン基、カルボキシル基、低級アルキル基及び低級アルコキシ基より選択される置換基を有するジフェニルジアミン及び置換基を有しないトリフェニルジアミンのうち少くとも１種のジアミンとの重合により得られる。 （もっと読む）

【課題】着色硬化樹脂パターンにおいて、解像度の高いポジ型着色感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）、キノンジアジド化合物（Ｂ）および着色剤（Ｃ）を含有するポジ型着色感放射線性樹脂組成物において、硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）が、不飽和カルボン酸から導かれる構成単位（ａ１）およびオキセタニル基を有する不飽和化合物から導かれる構成単位（ａ２）を含む共重合体であるポジ型着色感放射線性樹脂組成物［ただし、構成単位（ａ２）に導くオキセタニル基を有する不飽和化合物が不飽和カルボン酸であることはない］。 （もっと読む）

【課題】大画面用の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の作製に好適なポジ型感光性組成物及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】３６５ｎｍ及び４０５ｎｍのいずれかの波長に感度を有し、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド基を有する化合物、界面活性剤、及び溶剤を含み、前記アルカリ可溶性樹脂が、ｍ−クレゾールと、ｐ−クレゾールとを含むノボラック型フェノール樹脂であり、形成されたポジ型感光層の、波長４０５ｎｍの吸光度が１μｍあたり０．１０〜０．４０、感度が７５ｍＪ/ｃｍ^２以下、かつ露光後現像前の膜厚に対する現像後の膜厚の残膜率が７０％以上であるポジ型感光性組成物及び前記ポジ型感光性組成物を用いて基材の表面にポジ型感光層を形成するポジ型感光層形成工程等を含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 「反応現像画像形成法」（特開2003-76013）を改良し、ネガ型フォトレジストを効率的に製造することができる方法を開発した。
【解決手段】 基板上に、ヘテロ原子に結合したカルボニル基（Ｃ＝Ｏ）を主鎖に含む縮合型ポリマー、Ｎ−置換マレイミド化合物などのアニオン再生剤及びジアゾナフトキノンなどの光酸発生剤を含むフォトレジスト層を設け、所望のパターンでマスクし、このパターン面に紫外線を照射して、テトラ置換アンモニウムヒドロキシド、低分子アルコール及び水を含む溶媒から成る現像液を用いて現像すると、紫外線照射後の露光部と非露光部の現像液に対する溶解性に顕著な差がある。その結果ネガ型のフォトレジストを形成することができる。
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