【課題】耐熱性及び接着性を向上させたフォトレジスト組成物、これを用いた金属パターンの形成方法、及び表示基板の製造方法が開示される。
【解決手段】フォトレジスト組成物は、アルカリ可溶性樹脂約５重量％から約５０重量％、キノンジアジド系化合物約０．５重量％から約３０重量％、硬化剤約０．１重量％から約１５重量％及び有機溶剤を含む。これによって、鮮明なフォトレジストパターンを形成して、下部膜のパターニングの信頼性を向上させることにより、製造工程の信頼性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー工程の適用の際、露光に先立ち、支持体フィルムの除去後にフォトレジスト層の残渣が付く現象がなくて解像度を向上させるフィルム型光分解性転写材料を提供する。
【解決手段】支持体フィルム、光分解性フォトレジスト層及び保護フィルムを含み、下記のように定義される第１粘着力が０．１ｋｇ／１００×１００ｍｍ^２以下、第２粘着力が０．１ｋｇ／１００×１００ｍｍ^２以下であり、第２粘着力は第１粘着力より小さい値を持つ。
第１粘着力：フィルム型転写材料を、ＩＴＯにより厚さ２０００Å及び広さ１００×１００ｍｍ^２でコートされたガラス基板上に、速度２．０ｍ／分、温度１１０℃、加熱ロール圧力１０〜９０ｐｓｉの条件でラミネーションした後、フォトレジスト層から支持体フィルムを剥離させるのに必要な力。
第２粘着力：フィルム型転写材料を広さ１００×１００ｍｍ^２に裁断した後、フォトレジスト層から保護フィルムのみ剥離させるのに必要な力。 （もっと読む）

【課題】従来のものより食い込みの程度が大きいマイクログルーブを形成可能であり、リフトオフ法による金属配線パターンの形成に好適なリフトオフ用ポジ型レジスト組成物を提供すること。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、感光剤（Ｂ）と、増感剤（Ｃ）と、を含有するリフトオフ用ポジ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）成分に対して、前記（Ｃ）成分の含有量が４０質量％以上８０質量％以下であり、前記（Ｃ）成分が所定の化学式で表されるものであるリフトオフ用ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの形状悪化、解像性の低下、現像時のレジスト残渣の発生を抑えつつ、耐クラック性を高めたポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係るポジ型レジスト組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性ノボラック樹脂、（Ｂ）アルカリ可溶性アクリル樹脂、及び（Ｃ）感光剤を含有し、（Ｂ）アルカリ可溶性アクリル樹脂が下記一般式（Ｂ−１）で表される（ｂ１）構成単位を有することを特徴とする。


［一般式（１）中、Ｒ^１ｂは水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^２ｂは置換基を有していてもよい炭素数５以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を示す。］ （もっと読む）

【課題】露光の際、基板による反射を防止し、目的のパターン形状に具現しやすく、解像度及び細線密着力を向上させるフィルム型光分解性転写材料を提供する。
【解決手段】支持体フィルム；光分解性フォトレジスト層；及び基板にラミネーションされる面に形成された反射抑制層を含むフィルム型光分解性転写材料。 （もっと読む）

【課題】含フッ素重合体を含有していてもアルカリ現像できる感光性組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物を構成モノマーとする重合体（Ａ）、感光剤（Ｂ）、硬化剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含有する感光性組成物（式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ³は水素原子、フッ素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁴は単結合又はアルキレン基を示す。Ｒ⁵は単結合又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁶は直鎖状アルキレン基を示す。Ｒ⁷は水素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。但しＲ¹〜Ｒ⁷のいずれか一つは、フッ素原子又はフッ素原子で置換されている基である。）。
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【課題】屈折率、可視領域での透明性、及び耐熱性に優れる硬化物（硬化塗膜）となり得る感光性組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構成単位を有する重合体（Ａ）、感光性化合物（Ｂ）、硬化剤（Ｃ）、及び溶剤（Ｄ）を含有することを特徴とする感光性組成物。
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【課題】永久膜として使用される感光性熱硬化性樹脂組成物において、パターン形成後、加熱接着時の流動性に優れ、接着性が良好な樹脂層を形成できる技術を提供すること。
【解決手段】（Ａ）フェノール性水酸基又はカルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）キノンジアジド基を有する化合物と、（Ｃ）（ｃ１）アルキルエーテル化したアミノ基を有する化合物、（ｃ２）エポキシ樹脂および（ｃ３）オキセタン樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種の架橋剤を含有するポジ型感光性接着剤組成物を基板に塗布し、プレベークした後、選択的に露光し、次いでアルカリ現像してレジストパターンを形成し、さらに加熱または露光した後、前記基板のレジストパターン形成面に被着体をプレスすることにより、基板と被着体とを接着させる接着方法。 （もっと読む）

【課題】ポジ型感光性樹脂組成物に光活性剤として用いた場合に、高感度、高解像度を示し、保存安定性の良好な、ハロゲン元素を含まないナフトキノンジアジド化合物の提供。
【解決手段】ナフトキノンジアジド化合物は、一般式（１）：


｛式中、Ｒ_１及びＲ₂は、互いに独立に、１価の有機基（水素は除く）であり、Ｑ_１及びＱ_２は、互いに独立であり、かつ、Ｑ_１及びＱ_２の内の少なくとも１つは、スルホニル基を有するナフトキノンジアジド基であり、そしてＸは、ハロゲン元素を含まない２価の基又は単結合である。｝である。 （もっと読む）

【課題】膜厚の減少及びクラックの発生を抑制しながら、パターニングされたシリカ系被膜を優れた解像性で比較的容易に形成することを可能にする感光性樹脂組成物を製造する方法の提供。
【解決手段】（ａ）成分：下記一般式（１）で表される１種以上のシラン化合物を加水分解縮合して得られる縮合体であるシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：前記シロキサン樹脂を溶解する溶媒と、（ｃ）成分：ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルとを含有する溶液を、３０℃〜１４０℃に加熱する工程を備える、感光性樹脂組成物の製造方法。
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ（１）［式（１）中、ｎは０〜２の整数を示し、Ｒ^１は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基等を示し、Ｘは加水分解性基を示す。］ （もっと読む）