【課題】感光性ポリイミド樹脂組成物を低弾性率化して低反り性を付与するために、ジアミン成分の一部をジアミノポリシロキサン系化合物やビス（アミノベンゾエート）系化合物で代替した場合であっても、汎用の有機溶媒に対する溶解性を維持したまま、弱アルカリ性水溶液による現像性を実現できるようにする。
【解決手段】特定構造のポリイミドユニットからなるポリイミド樹脂と、メラミンシアヌレート類縁体と、ジアゾアフトキノン類縁体とを含有し、該メラミンシアヌレート類縁体が、ポリイミド樹脂１００重量部に対し５〜５０重量部である弱アルカリ性水溶液でポジ型現像が可能で且つ有機溶媒に可溶な感光性ポリイミド樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、（ａ２）エポキシ基および／またはオキセタニル基含有不飽和化合物、および（ａ３）（ａ１）成分および（ａ２）成分以外の不飽和化合物の共重合体、［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物、ならびに［Ｃ］［Ａ］成分と熱により架橋反応する官能基を含有するシロキサンオリゴマーを含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】垂直配向型液晶表示素子の突起を形成するために好適に用いられる十分なプロセスマージンと良好な保存安定性を有する感放射線性樹脂組成物、およびそれから形成された突起、それを具備する液晶表示素子を提供すること。
【解決手段】垂直配向型液晶表示素子の突起を形成するための感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、（ａ２）特定のオキセタニル基含不飽和化合物、並びに（ａ３）前記（ａ１）および（ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物を共重合して得られる共重合体と、［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】キュア後解像度および耐薬品性に優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）アルカリ可溶性樹脂および（ｂ）アルコキシメチル基を有するキノンジアジド化合物を含有するポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】アルカリ現像性の感光性レリーフパターン形成材料を用いて、低キュア温度で残留応力が低く、優れたレリーフパターンを形成する、感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、及び該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性フェノール樹脂、及びポリヒドロキシスチレンまたはポリヒドロキシスチレン誘導体からなる群より選択される重合物１００質量部に対して、特定の（Ｂ）感光性ジアゾナフトキノン化合物１〜１００質量部、及び（Ｃ）有機溶剤１００〜１０００質量部を含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】着色硬化樹脂パターンおよび製造方法において、従来の顔料を含有するネガ型硬化性樹脂と比較して、パターンの裾部分に、残渣が少ないパターンを形成し得るポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、キノンジアジド化合物（Ｂ）および外部からのエネルギーの付与により発色する化合物または外部からのエネルギーの付与により発色する発色組成物（Ｃ）を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】露光部の感光性組成物を現像液に十分に溶解させることができ、パターン形状に優れたパターン膜を得ることができるポジ型感光性組成物、これを用いたパターン膜の製造方法及び半導体素子を提供する。
【解決手段】アルコキシシランの縮合物（Ａ）と、ポジ型感光性組成物を現像液に不溶化する化合物であり、アルコキシシランの縮合物（Ａ）よりも疎水性が高く、光線もしくは放射線の照射により分解する部位を有する化合物（Ｂ）とを含むポジ型感光性組成物であり、感光性組成物１が光線もしくは放射線で選択的に露光されたときに、露光部の感光性組成物１Ａが現像液に可溶になるポジ型感光性組成物、これを用いたパターン膜１Ｃの製造方法及び半導体素子。 （もっと読む）

【課題】アルカリ現像によるパターン形成が可能で、耐熱性および異物特性の良好な保護膜用感光性組成物が求められている。
【解決手段】少なくとも、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ１）とジアミン（ａ２）と多価ヒドロキシ化合物（ａ３）とを用いて合成される構成単位を有する化合物（Ａ２）、および、１，２−キノンジアジド化合物を含有するポジ型感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】熱リソグラフィーにおいて、熱変換体として利用でき、かつ有機材料で構成される熱リソグラフィー用下層膜形成用材料、該熱リソグラフィー用下層膜形成用材料を用いたレジスト積層体およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】支持体とレジスト膜との間に熱リソグラフィー用下層膜を形成するための熱リソグラフィー用下層膜形成用材料であって、膜形成能を有する有機化合物（Ａ１）と、熱リソグラフィーにおいて用いられる露光光源の波長の光を吸収する染料（Ｂ）とを含有し、当該熱リソグラフィー用下層膜形成用材料を用いて形成される熱リソグラフィー用下層膜が、前記露光光源の波長において、膜厚１００ｎｍあたり０．２６以上の吸光度を有する有機膜であることを特徴とする熱リソグラフィー用下層膜形成用材料。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像力、高耐熱性、良好なプロファイル、良好なフォーカス許容性、少ない現像残渣等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターン状有機膜を形成できるポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】感光性化合物と、アルカリ可溶性樹脂とを含有し、添加剤をさらに含有していてもよく、感光性化合物及び添加剤の少なくとも一方にはアダマンタン環を有する化合物が含まれるポジ型感光性組成物であって、アダマンタン環を有するキノンジアジドスルホン酸エステル化合物は感光性化合物として含有され、その前駆体であるフェノール化合物は添加剤として含有されるポジ型感光性組成物を提供し、またこのポジ型感光性組成物によって形成された有機膜を提供する。 （もっと読む）