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国際特許分類[G03F7/022]の内容

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【課題】良好な現像性を示し、焼成後の反りが小さく、難燃性を発現する感光性組成物及び該感光性樹脂組成物からなる感光性フィルムを提供すること。
【解決手段】
(A)アルカリ溶解性ポリイミド及び/又はポリイミド前駆体、(B)芳香族性水酸基を有するホスファゼン化合物の水酸基の一部の水素原子がキノンジアジド構造を有する官能基で置換されているキノンジアジド化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 対象基材上に、絶縁樹脂組成物の塗膜による被覆層が、テープ基材の剥離によっても接着性および電気絶縁性が劣化せず、その特性が維持された状態で形成される被覆層形成方法の提供。
【解決手段】 被覆層形成方法は、テープ基材上に粘着膜が形成された保護テープを用い、対象基材の一面上に、その粘着膜が前記対象基材の一面上に接触する状態に保護テープを貼り合わせる工程と、粘着膜に熱または光を与えて気体を発生させた後、テープ基材を粘着膜から剥離する工程とを、この順に行って粘着膜による被覆層を対象基材の一面上に形成する方法であって、粘着膜が、熱または光を受けることにより気体を発生する気体発生剤を含有する絶縁樹脂組成物の塗膜よりなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高感度、高耐熱性、高い透明性と、金属下地に対する高い密着性を併せ持つポジ型感光性組成物の提供。
【解決手段】(a)ポリシロキサン、(b)ナフトキノンジアジド化合物、(c)酸および熱により脱離する有機基を有するリン酸エステル(1)、下記一般式(2)〜(3)から選ばれる少なくとも一種の化合物、および(d)溶剤を含有するポジ型感光性組成物。


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【課題】吐出エネルギー発生素子とインク流路および吐出口との位置関係を高精度かつ再現性良く制御でき、印字特性の良好なインクジェットヘッドを安定して製造できる方法を提供する。
【解決手段】液体を吐出する吐出口2と連通する流路17を形成するための流路形成部材を基板1上に有する液体吐出ヘッドの製造方法であって、基板1上に感光性樹脂からなる層を設け、その層上の流路17に対応した部位にマスク層を設け、感光性樹脂からなる層に対して露光を行い流路17の形状を有するパターンとし、このパターンを被覆するように流路形成部材となる層を設け、流路形成部材となる層の一部に吐出口2を形成し、そのパターンを除去して流路17を形成することを含む液体吐出ヘッドの製造方法。 (もっと読む)


【課題】塗膜欠陥、例えば縞や空隙がなくかつ良好なリソグラフィー性能を与える厚膜をコーティングするのに有用なフォトレジスト、特に、ベーク処理と露光との間の遅延時間に対して過敏でないフォトレジストを提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、光活性化合物、界面活性剤、架橋剤及び溶媒を含む、厚膜の像の形成に特に有用な感光性フォトレジスト組成物であって、界面活性剤の量が、フォトレジストの全重量に対し2000ppm〜14,000ppmの範囲である、上記フォトレジスト組成物に関する。好ましくはフォトレジスト膜は20ミクロンを超える厚さを有する。更に本発明は、本発明の感光性組成物をコーティングしそしてこれに像を形成する方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】高い解像度と改善されたエッジラフネスとを備えるとともに、アルカリ現像可能な感光性組成物用の化合物、並びにそれを用いた感光性組成物、パターン形成方法を提供する。
【解決手段】1、2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホニル基又は1、2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホニル基を有する1、3、5−トリス(パラ−(パラ−ヒドロキシフェニル)フェニル)ベンゼン誘導体化合物、該感光性化合物と溶媒を含有する感光性組成物、並びに該感光性組成物を含む感光性層を形成する工程等を含むパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】塗布後の外観に優れた感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂(A)と、感光剤(B)と、特定構造の不飽和アルコールから選ばれる1種以上の化合物(C)と、溶剤(D)とを含んでいる。また、硬化膜は、上記感光性樹脂組成物の硬化物で構成されている。また、保護膜および絶縁膜は、上述の硬化膜で構成されている。さらに、化合物(C)の含有量は、前記アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して0.1〜50重量部であり、前記溶剤(D)が、γ―ブチロラクトン(D1)である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、高耐熱性、高透明性の特性を有し、かつ現像による未露光部の膜厚減少を抑えた硬化膜を得ることができる感光性組成物を提供する。また、本発明の別の目的は、上記の感光性組成物から形成されたTFT基板用平坦化膜、層間絶縁膜、コアやクラッド材などの硬化膜、およびその硬化膜を有する表示素子、半導体素子、光導波路などの素子を提供する。
【解決手段】
すなわち本発明は、(a)カルボキシル基含有ポリマー、(b)ナフトキノンジアジド化合物、(c)ビニルエーテル化合物、(d)溶剤を含有するポジ型感光性組成物である。 (もっと読む)


【課題】高耐熱性、高透明性の特性を有し、かつ高感度で高解像度のパターン形成が可能なポジ型感光性組成物の提供、および、上記のポジ型感光性組成物から形成されたTFT基板用平坦化膜、層間絶縁膜、コアやクラッド材などの硬化膜、およびその硬化膜を有する表示素子、半導体素子、固体撮像素子、光導波路などの素子の提供。
【解決手段】(a)下記一般式(1)で表されるオルガノシランの1種以上と下記一般式(2)で表されるオルガノシランの1種以上を加水分解し縮合させることによって合成されるポリシロキサンと(b)ナフトキノンジアジド化合物、(c)溶剤を含有するポジ型感光性組成物である。


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【課題】基板との密着が困難なアスペクト比の大きいドットパターンにおいて、基板との密着性に優れ、かつドライエッチング耐性に優れたレジストを提供すること。
【解決手段】(A)フェノール性水酸基を有する重合体と、(B)キノンジアジド基含有化合物と、(C)溶剤と、(D)特定のシランカップリング剤とを含有するポジ型感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


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