【課題】半導体装置に適用して、２５０℃以下の熱で硬化させた際でも、伸度が高く、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂の代替材料となり得るフェノール樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、及び該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置の提供。
【解決手段】溶剤中に、以下の成分：
主鎖にビフェニルジイル構造を有するフェノール樹脂（Ａ）：１００質量部；
光酸発生剤（Ｂ）：１〜３０質量部；及び
上記光酸発生剤（Ｂ）から発生した酸、又は熱により、上記（Ａ）成分と反応しうる化合物（Ｃ）：１〜６０質量部；
を含有する、半導体素子表面保護膜又は層間絶縁膜用の感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体やＬＣＤを製造する際のリソグラフィーに使用されるフォトレジスト用として、高耐熱、高感度、高残膜率、高解像度なフォトレジストの製造を可能にするノボラック型フェノール樹脂を提供すること。
【解決手段】ｍ−クレゾール及び／又はｐ−クレゾールを含有する１価フェノール成分（ａ）と、２価フェノール類び／又は３価フェノールを含有する多価フェノール成分（ｂ）と、アルデヒド成分（ｃ）とを反応して得られるノボラック型フェノール樹脂であって、１価フェノール成分（ａ）と多価フェノール成分（ｂ）の質量割合（ａ）／（ｂ）が９９／１〜５０／５０であり、アルデヒド成分（ｃ）が、ポリアルデヒド（ｃ１）及びホルムアルデヒド（ｃ２）を含有し、アルデヒド成分（ｃ）における、ポリアルデヒド（ｃ１）とホルムアルデヒド（ｃ２）とのモル比（ｃ１）／（ｃ２）が５／９５〜９５／５であることを特徴とするノボラック型フェノール樹脂。 （もっと読む）

【課題】π電子軌道を含む不飽和結合と単結合が交互に連続する部分を有するにもかかわらず、電磁波に対して、より短波長領域まで高い透過率を示す高分子化合物前駆体を提供。
【解決手段】２，２’、６，６’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を酸成分とした、下記式で表される芳香族ジアミンとのポリイミド前駆体。
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【課題】ポリアリレート樹脂に反応現像画像形成法を適用し、高精細かつ短時間で現像可能なポジ型感光性樹脂組成物、および該反応現像画像形成法を用いたレリーフパターンを提供する。
【解決手段】ポリアリレート樹脂１００質量部、光酸発生剤５〜４０質量部を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物であって、光酸発生剤が（ａ）キノンジアジド化合物および（ｂ）ヒドロキシ基を有する化合物よりなるエステル化合物であることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ネガ型反応現像画像形成法において、紫外線照射後の露光部と非露光部の現像液に対する溶解性に差を持たせることにより、形成されるフォトレジストの適正な現像時間を確保する手段の提供。
【解決手段】基板上に、特定構造のポリエステル系樹脂及びジアゾナフトキノンなどの光酸発生剤を含むフォトレジスト層を設け、所望のパターンでマスクし、このパターン面に紫外線を照射して、テトラ置換アンモニウムヒドロキシド、低分子アルコール及び水を含む溶媒から成る液体を用いて現像する。 （もっと読む）

【課題】層間絶縁膜としてシリカ系被膜の形成が容易で保存安定性に優れ、比較的安価で、耐熱性、クラック耐性、解像性及び透明性に優れる感光性樹脂組成物、それを用いたシリカ系被膜の形成方法、シリカ系被膜を備える半導体装置、平面表示装置及び電子デバイス用部材の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物を含む第１のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第１のシロキサン樹脂と、下記一般式（２）で表される化合物を含む第２のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第２のシロキサン樹脂とを混合し、さらに加水分解縮合して得られる重量平均分子量が８０００〜３０００００であるシロキサン樹脂と、溶媒と、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルとを含有する感光性樹脂組成物。
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【課題】良好な現像性、良好なめっき耐性を有する、ポジ型の感光性樹脂組成物及び感光性樹脂組成物からなる感光性フィルムを提供すること。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、アルカリ溶解性樹脂と、キノンジアジド構造を有する化合物と、ピロール構造、イソオキサゾール構造、チアゾール構造、イソチアゾール構造、ピリジン構造、インドール構造、キノリン構造、及びイソキノリン構造からなる群より選ばれた少なくともいずれか１つの構造を有する含窒素複素環化合物と、を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】良好なリソグラフィー特性及び溶剤への分散性を有し、現像後の残渣及び赤面を抑制できる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、ポリイミド系樹脂と、感光剤と、下記一般式（１）で表されるカルボキシル基含有トリアゾール化合物と、前記カルボキシル基含有トリアゾール化合物を溶解するアミド溶媒、ラクトン溶媒、及び分子内にアルコール性水酸基が２個以上ある炭素数１〜炭素数１０のアルコール溶媒からなる群から選択された少なくとも１つの有機溶剤と、を含有することを特徴とする。
【化１】


（式（１）中、Ｒ_１、Ｒ_２はそれぞれ炭素数１〜炭素数２０の有機基であり、同一であっても異なっていても良い。ｎは１〜４までの整数を表す） （もっと読む）

【課題】基板面内におけるパターン寸法のばらつきを低減することのできるポジ型感光性樹脂組成物を提供。
【解決手段】特定の構造を主成分とする樹脂、感光剤および溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物であって、前記感光剤が、下記一般式（２）で表されるフェノール化合物とナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステル化物であって、一般式（２）におけるフェノール性水酸基の８５モル％以上がナフトキノンジアジドスルホン酸によりエステル化されている化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
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【課題】熱変性処理をせずとも、ポジ型レジスト組成物からキノンジアジド系感光剤の析出を抑制又は防止できるようにすると共に、ポジ型レジスト組成物の調製の際にポジ型レジスト組成物へのキノンジアジド系感光剤の溶解を容易にする。
【解決手段】キノンジアジド系感光剤が有機溶剤に溶解してなるキノンジアジド系感光剤溶液は、キノンジアジド系感光剤の析出防止剤としてチオール化合物を含有する。また、ポジ型レジスト組成物は、アルカリ可溶性樹脂と、架橋剤と、キノンジアジド系感光剤と、キノンジアジド系感光剤の析出防止剤としてチオール化合物とを含有する。 （もっと読む）