【課題】被覆樹脂９に所望形状の微細構造（インク吐出口等）を精度良く形成できるインクジェット記録ヘッド（又は微細構造体）の製造方法を提供する。
【解決手段】インク吐出エネルギー発生素子２を形成した基板１上にインク流路の型パターンを形成し、被覆樹脂９で被覆し、その後型パターンを溶解除去することによりインク流路を形成する方法において、被覆樹脂９に対してｉ線を用いたパターン露光を行なう工程を少なくとも有し、かつインク流路の型パターンの少なくとも一部（樹脂層（２）６）を、波長３６５ｎｍの吸光度が０.１以上となるポジ型感光性レジスト又はジアゾナフトキノンを含有するｉ線用ポジ型感光性レジストにより形成するインクジェット記録ヘッド（又は微細構造体）の製造方法。 （もっと読む）

【課題】層間絶縁膜として用いることのできるシリカ系被膜の形成が比較的容易であり、かつ保存安定性に優れると共に、形成されるシリカ系被膜が耐熱性、クラック耐性、解像性及び透明性に優れる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
（ａ）成分：下記一般式（１）で表される化合物を含む第１のシラン化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：第１のシラン化合物とは異なる第２のシラン化合物、又はこれを加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、（ｃ）成分：（ａ）及び（ｂ）成分が溶解する溶媒と、（ｄ）成分：ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルとを含有し、ｐＨが５．０〜７．０である感光性樹脂組成物。



式（１）中、Ｒ^１は有機基を示し、Ａは２価の有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、同一分子内の複数のＸは同一でも異なっていてもよい。 （もっと読む）

【課題】高い感放射線感度を有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種と、（ａ２）オキシラニル基を有する不飽和化合物およびオキセタニル基を有する不飽和化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有してなる不飽和化合物の共重合体、並びに［Ｂ］特定の構造を有する１，２−キノンジアジド化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】１００ｃｍ×１００ｃｍ以上の大型基板にスリットコーターで塗布するのに好適なレジストとなるポジ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）フェノール性水酸基を有する重合体を１００重量部と、（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物を１０〜５０重量部と、（Ｃ）溶剤を、前記フェノール性水酸基を有する重合体（Ａ）および前記キノンジアジド基含有化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して１００〜９９００重量部と、（Ｄ）界面活性剤を０．０１〜５重量部とを含有するポジ型感放射線性樹脂組成物であって、前記キノンジアジド基含有化合物（Ｂ）として特定の化合物を含有し、前記界面活性剤（Ｄ）としてポリエーテル変性ポリシロキサン化合物を含有し、スリットコーター塗布に用いられることを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ラミネート性、金属箔との密着性や強伸度に優れ、且つ高感度であるポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたフレキシブルプリント配線板を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分としてシロキサン骨格を有する可溶性ポリイミドと、（Ｂ）成分として下記式（１）で表される化合物と、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。


（Ｘに結合しているｎ個のＱは１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル基もしくは水素であり、少なくとも１つは１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル基である。ｎは、正の実数であり、Ｘに結合しているＱの平均の個数を表す。Ｘは、分子量３００以上の直鎖、分枝鎖、環状鎖又は芳香族炭化水素鎖である。） （もっと読む）

【課題】低い誘電率を有し、コントラストを向上したＥＬ素子絶縁膜形成用のポジ型感光性組成物、ポジ型感光性組成物により製造された絶縁膜及びＥＬ素子を提供すること。
【解決手段】有機顔料を含有するＥＬ素子絶縁膜形成用のポジ型感光性組成物を用いることによる。ポジ型感光性組成物は、（１）有機顔料、並びに
（２）非化学増幅型のレジストにおいて通常使用される（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物、又は
（３）化学増幅型のレジストにおいて通常使用される（Ｄ）活性光線又は放射線照射により酸を発生する化合物及び（Ｅ）酸の作用によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大する樹脂、を含有する。 （もっと読む）

【課題】膜厚が厚くなっても高解像度で高残膜率のパターンを得ることができ、かつ高感度が得られるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００重量部、フェノール化合物の、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸エステル及び／又は１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸エステル（Ｂ）１〜５０重量部を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】放射線に対する感度が高く、かつ可視光の透過率が高い硬化樹脂パターンを形成する感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】不飽和カルボン酸から導かれる構成単位（ａ１）および環状エーテル基と炭素−炭素不飽和結合とを有する化合物（ただし、不飽和カルボン酸とは異なる。）から導かれる構成単位（ａ２）を含む共重合体（Ａ）と、キノンジアジドスルホン酸エステル化合物（Ｂ）を含有する感放射線性樹脂組成物であり、キノンジアジドスルホン酸エステル（Ｂ）が、式（１）で表されるフェノール化合物において、その一部または全てのフェノール性水酸基がキノンジアジドスルホン酸でエステル化された化合物を含有する化合物である感放射線性樹脂組成物。


［Ｒ¹〜Ｒ¹²は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基またはフェニル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高透明性の特性を有し、低濃度の現像液を用いても感度良好であり、かつ硬化膜において優れたアルカリ耐性を有するポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ポリシロキサン、（ｂ）（メタ）アクリルポリマー、（ｃ）一般式（１）で表されるキノンジアジド化合物および（ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
【化１】


（式中、Ｒ１は水素、または炭素数１〜８から選ばれるアルキル基を示す。Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は水素原子、炭素数１〜８から選ばれるアルキル基、アルコキシル基、カルボキシル基、エステル基のいずれかを示す。各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は同じであっても異なっていても良い。Ｑは５―ナフトキノンジアジドスルホニル基、水素原子のいずれかを表し、Ｑの全てが水素原子になることはない。ａ、ｂ、ｃ、α、βは０〜４の整数を表す。ただし、α＋β≧３である。） （もっと読む）

【課題】 平坦化層とパターン化層を膜厚精度よく、一括加工することが出来、液晶表示装置の高性能化、低コスト化を図ることが可能な液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】複数の着色層を有するカラーフィルタ基板上に、非感光性、かつ現像液に対して、難溶、もしくは不溶の平坦化層を塗布、セミキュア後に、感光性樹脂を塗布、セミキュアし、フォトマスクを介した露光を行った後、現像液により、感光性樹脂層のみをエッチングすることで、平坦化層とパターン化層を一括加工することが可能となる。 （もっと読む）