【課題】スリットノズル部分に発生した着色層形成用感放射線性組成物の乾燥物の溶媒再溶解性が高く、かつ突沸孔を発生しない着色層形成用感放射線性組成物等を提供する。
【解決手段】着色層形成用感放射線性組成物は、（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体、（Ｄ）光重合開始剤および（Ｅ）溶媒を含有し、（Ｅ）溶媒がジプロピレングリコールジメチルエーテルを５〜４０重量％含有することを特徴とする。（Ｅ）溶媒は、他の溶媒として、沸点が１５０℃未満の溶媒を１０〜６０重量％および沸点が１５０℃以上１８０℃未満の溶媒（但し、ジプロピレングリコールジメチルエーテルを除く。）を３０〜７０重量％含有することが望ましい。 （もっと読む）

ホットメルトフォトレジスト混合物を調製する工程、光画像形成性ホットメルト組成物を、スロットダイコーティングシステムを使用してフィルム基板に適用する工程、ホットメルトを十分に冷却して流動を防ぐ工程、及び保護カバーフィルムを、部分的に冷却された組成物の反対側の表面に適用し、それによってフォトレジスト素子を形成する工程を含む、フォトレジスト素子を形成する方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表裏両面に所定の機能集積デバイスが形成される半導体、ガラス、金属、プラスチック等のウエハの加工工程で薄膜を形成する薄膜形成装置に関し、表裏両面に所定処理がなされるウエハ上への薄膜形成の均一化を図り、品質向上、歩留り向上を図ることを目的とする。
【解決手段】吸引固定回転部１２の回転ステージ１２Ａ上に設けられる載置部１３の周縁部分に所定数の突部載置部材１５，１６が形成され、当該突部載置部材１５，１６上に、搬送されるウエハをその周縁で載置させ、吸引固定した後に回転させて当該ウエハ上に供給ノズル１７より薄膜形成材を供給させる構成とする。 （もっと読む）

【課題】ウエブ表面の凹凸に倣うように塗布膜を形成することができるので、塗布膜の膜厚み分布を小さくすることができる。
【解決手段】塗布と乾燥により製造される塗布膜製品を製造するための塗布液は、 （Ａ）前記乾燥工程での塗布膜の乾燥により前記塗布液中の固形分濃度が１５質量％以上に増加した以降の乾燥過程において、又は塗布時での塗布液中の固形分濃度が１５質量％以上のときには乾燥開始以降の乾燥過程において、（Ｂ）前記塗布液の剪断粘度が剪断速度１０³ ｓｅｃ^-1以下で５ｍＰａｓ以上になること、（Ｃ）前記固形分濃度の増加割合に対する前記剪断粘度の増加割合の増加係数である１次微分係数を、平均粘度で割った値が０．１５以上であること、（Ｄ）前記増加係数の前記固形分濃度に対する更なる増加係数である２次微分係数が正であること、の４つの液物性を満足するように設計される。 （もっと読む）

【課題】簡単な工程及び構成で、長尺状感光性ウエブの感光材料層を基板の所望の部位に正確に貼り付けすることを可能にする。
【解決手段】製造装置２０は、ウエブ送り出し機構３２、加工機構３６、ラベル接着機構４０、リザーバ機構４２、剥離機構４４、基板搬送機構４５及び貼り付け機構４６を備えるとともに、前記貼り付け機構４６の上流近傍には、感光性ウエブ２２の境界位置を直接検出する検出機構４７が配設され、前記検出機構４７による検出情報に基づいて、貼り付け位置における前記境界位置と前記ガラス基板２４との相対位置を調整する制御が行われる。 （もっと読む）

【課題】 感光性組成物塗布液を支持体上に塗布した際に、面状の安定した感光層が形成される感光性フィルムの製造方法を得ることができ、プリント配線板、高密度多層板及び半導体パッケージ等の製造に好適に用いられる感光性フィルムを提供すること。本発明はまた、この感光性組成物からなる感光層を支持体に積層し、優れた耐熱性、耐湿熱性、密着性、機械特性、電気絶縁性を有する硬化膜が得られる感光性フィルムの提供。更に、青紫色レーザーダイレクト露光方式に最適な永久パターンを提供すること。
【解決手段】 バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含む塗布液（Ａ）を調製し、熱架橋剤を含む塗布液（Ｂ）を調製し、前記塗布液（Ａ）及び前記塗布液（Ｂ）を混合し、該混合から４時間以内に、支持体上に塗布して感光層を形成することを特徴とする感光性フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 高い熱安定性と、薄膜で高度の遮光性能を付与する。
【解決手段】 樹脂及びその前駆体と共に、Ａｇの割合が３０〜８０モル％の銀錫合金部を有する金属粒子を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】簡単な工程及び構成で、気泡の混入を可及的に阻止し、積層体を基板に効率的にラミネートすることを可能にする。
【解決手段】ラミネート機構４２は、感光性ウエブ２２をガラス基板２４に熱圧着するラミネートローラ９０ａ、９０ｂと、前記感光性ウエブ２２を前記ガラス基板２４に重ね合わせる直前に、感光性樹脂層２９側から冷却処理を施す冷却機構９４とを備える。冷却機構９４は、ノズル部材９４ａを備え、このノズル部材９４ａから感光性樹脂層２９に冷却風を供給することにより、前記感光性樹脂層２９の温度が低下して粘度が高くなり、該感光性樹脂層２９が所定の剛性を有する。一方、クッション層２７は、冷却処理が施されず、比較的温度が高くなって粘度が低下して軟化する。 （もっと読む）

【課題】試料の複数の表面に対してレジスト溶液を均一な膜厚でもって塗布することができるレジスト塗布装置およびレジスト塗布方法を提供する。
【解決手段】レジスト塗布装置１を、密閉型の装置本体２と気体導入部３とで構成する。装置本体２は、内部がシリコン製の試料４を収納する試料室５と、レジスト溶液６を収納するレジスト溶液室７と、レジスト溶液６を霧化させ霧状の粒子を発生させる超音波発生装置８を収納する超音波発生部９および試料室５とレジスト溶液室７とを接続する搬送部１０とに仕切られている。試料室５は、搬送部１０を挟んでレジスト溶液室７の上部に設けられている。 （もっと読む）

【課題】 微粒子が分散された塗布液を支持体上に塗布する際に、所要の高速薄層塗布適正を得ると共に、画像記録層中に分散された微粒子に変形や破壊が発生することを防止する。
【解決手段】 アルミウエブ５９上へ塗布装置３により画像記録層塗布液を塗布する際には、塗布装置３の塗布ヘッドとアルミウエブ５９の間に形成される液溜りにおける画像記録層塗布液に作用する圧力ＰＬと剪断応力τとの和が、０．５×１０⁵Ｎ／ｍ²以上で、１．５×１０⁵Ｎ／ｍ²以下とされる。これにより、塗布液の塗布時における画像形成層に分散された微粒子の変形及び破壊が防止される。圧力ＰＬと剪断応力τとの和を低減するには、例えば、塗布位置におけるアルミウエブ５９の張力を低下させること、画像記録層塗布液の粘度を下げること、又はアルミウエブ５９の搬送速度を低下することが有効である。 （もっと読む）