説明

国際特許分類[G03F7/16]の内容

国際特許分類[G03F7/16]の下位に属する分類

国際特許分類[G03F7/16]に分類される特許

381 - 390 / 458


【課題】 印刷版最表面層部分に異なる樹脂組成物が選択的に配置された液状感光性樹脂多層化フレキソ印刷版を製造するための成型工程において、画像領域に応じて印刷版最表面層部分を成す液状感光性樹脂を塗工する際に生じる作業性、作業時間、不要な製版資材の問題を解消する、塗工樹脂の厚み精度に優れた塗工技術の提供。
【解決手段】 液状感光性樹脂を用いた多層化フレキソ印刷版の製造方法の成型工程において、整膜機能を有する可とう性ノズルと可とう性ボトルから成る容器に充填された液状感光性樹脂を画像形成領域に帯状に塗布することを含むことを特徴とする液状感光性樹脂多層化フレキソ印刷版の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 基板を平坦性良く保持することができ、更なる基板の大型化に対応可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】ガラス基板Sの表面S1に向けて塗布部20の吐出口21からレジスト液RLが吐出されると共に、ガラス基板Sが吐出口21の延長方向に対して垂直な方向Aに移動し、ガラス基板Sの表面S1全体にわたってレジスト液RLが塗布される。保持部10の多孔質層11からガラス基板Sの裏面S2に向けてガスが噴出し、これによりガラス基板Sが多孔質層11との間に間隙G1をあけて保持される。この間隙G1はガラス基板S自身の重力負荷により変化し、ガラス基板Sの厚みの厚い部分では間隙G1は小さくなり、薄い部分では間隙G1は大きくなる。ガラス基板Sの厚みに不均一性があっても、ガラス基板Sの表面S1は平坦になり、良好なレジスト膜RFが形成される。 (もっと読む)


【課題】簡単な構成の塗布装置を用いて、基体表面上の凹凸を十分に平坦化させることができるレジスト塗布方法を提供する。
【解決手段】凹凸形状を有する基体11表面上にレジスト膜22を形成する方法において、基体表面が凹凸形状を有しており、凹凸形状を有する基体11表面上にインクジェットヘッドを用いてレジストを塗布する際に、レジスト材料の塗布量を凹部25と凸部26とで変化させて塗布することによりレジスト膜22の表面を平坦にする。 (もっと読む)


【課題】 スリットコータのノズルに付着したレジスト成分の溶解性が高く、洗浄後に良好なレジスト膜を形成させることができる洗浄剤を提供すること。
【解決手段】 カルボン酸の一価アルコールエステルを少なくとも1種含む有機溶剤からなり、常圧、25℃における蒸発速度指数が70〜90で、粘度が0.9〜1.5mPa・sであるスリットノズル洗浄剤。(ここで、蒸発速度指数は、酢酸n−ブチルを100とする相対蒸発速度のことである。)好ましくは、前記常圧、25℃における蒸発速度指数が75〜90であり、さらに、粘度が1.0〜1.5mPa・sである。 (もっと読む)


【課題】 スペース的に有利で、1本のスリットノズルで連続してガラス基板に塗布液を塗布することができる塗布装置を提供する。
【解決手段】 ガラス基板Wの表面への塗布液の塗布が終了したならば、門型移動機構4をそのまま他方の待機部10の洗浄部12まで移動させ、洗浄部12においてスリットノズル6を洗浄し、次の塗布に備える。この間にシリンジポンプ44には次に塗布する1回分の塗布液を供給し、また基板載置ステージ3上からは塗布後のガラス基板Wを払い出し新たなガラス基板Wをセットする。新たなガラス基板Wがセットされたならば、門型移動機構4を他方の待機部10のプリディスペンス部11まで移動させ、プリディスペンス部11においてスリットノズル6の予備塗布を行った後、門型移動機構4を左方向に移動し、新たなガラス基板Wの表面に塗布液を供給する。 (もっと読む)


【課題】 配線の保護膜、絶縁膜等、プリント配線基板、半導体等の分野において好適に用いられ、十分な膜厚を有し、優れた耐薬品性、表面硬度、又は耐熱性を発現する永久パターン及び該永久パターンの形成方法の提供。
【解決手段】 基材上に最終的に形成される永久パターンにおける硬化膜厚の1.2〜3.0倍の乾燥膜厚となるように前記基材の表面に感光性組成物を塗布し、乾燥して感光層を形成した後、露光し、現像する永久パターン形成方法である。該感光性組成物が、アルカリ可溶性バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含む液状の感光性組成物である態様、該感光性組成物が、無水マレイン酸共重合体の無水物基に対して0.1〜1.2当量の1級アミン化合物を反応させて得られる共重合体と、重合性化合物と、光重合開始剤と、を少なくとも含む液状の感光性組成物である態様などが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 保存安定性に優れ、液晶表示素子製造用の大型で角状の基板においても、平坦性に優れたレジスト膜を形成することができるポジ型フォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂(a)、キノンジアジド基含有化合物(b)及び有機溶剤(c)を含有してなるポジ型フォトレジスト組成物であって、有機溶剤(c)が、プロピレングリコールモノアルキルエーテルのエステル化合物(c1)75〜98重量%及びアルコール性水酸基を含有する化合物(c2)2〜25重量%からなる混合溶剤であることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】 非回転型の塗布装置を用いて大型の基板に塗布した場合でも平坦性の良好な塗布膜を得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。また、この感光性樹脂組成物を用いるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂、感光剤及び溶媒を含有してなる感光性樹脂組成物であって、これをモリブデン被覆ガラス基板に滴下したときのモリブデン被覆ガラス基板に対する動的接触角の経時変化率の時間微分値が0となるまでに要する時間が、滴下直後から200〜800ミリ秒の範囲内にあることを特徴とする感光性樹脂組成物。上記感光性樹脂組成物を、基板上に塗布し、乾燥して感光性樹脂膜を形成する工程、この感光性樹脂膜を所定形状のフォトマスクを介して露光する工程、及び露光された感光性樹脂膜を現像して感光性樹脂パターンを形成する工程を有するパターンの形成方法。 (もっと読む)


【課題】ステンレス基材に対する濡れ性が良好で、各種の表示装置用に有効で有り、且つ、スリットコートにも適用できる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】オキセタニル基に代表される硬化性を有し、(メタ)アクリル酸などとの共重合によるアルカリ可溶性樹脂(A)、キノンジアジド化合物(B)、溶剤(C)、シリコーン系界面活性剤(D)およびフッ素系界面活性剤(E)を含有する感放射線性樹脂組成物、露光・現像後に加熱する。 (もっと読む)


【課題】ステンレス基材に対する濡れ性が良好な感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂(A)、キノンジアジド化合物(B)、溶剤(C)およびシリコーン系界面活性剤(D)を含有する感放射線性樹脂組成物において、シリコーン系界面活性剤(D)が、HLB値が1以上9以下であるシリコーン系界面活性剤(D1)と、HLB値が9を超えるシリコーン系界面活性剤(D2)とを含有する感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


381 - 390 / 458