【課題】塗布膜液量を５ｃｃ／ｍ² 以下に薄膜塗布する場合でも、帯状支持体と計量用のロッドとが接触しないようにできるので、塗布層表面に欠陥を発生させることがない。
【解決手段】連続走行する可撓性の帯状支持体１４に給液流路１０から塗布液を所望塗布液量よりも過剰に塗布した直後、帯状支持体１４の塗布面側を、帯状支持体１４がラップされるロッドラップ面の下流側端部近傍が切り欠かれた切欠き部４２Ａを有すると共に、塗布中は回転しないように固定された切欠きロッドにラップさせる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、生産性が高く、高感度であり、汚れ回復性に優れる印刷版材料を提供することにある。
【解決手段】 基材上に画像形成層を有する印刷版材料において、該基材と該画像形成層との間に、真比重４．５以上である顔料粒子を含有する層Ａと該層Ａに隣接する層Ｂとを有し、該層Ａ及び該層Ｂが、層Ａ用塗布液及び層Ｂ用塗布液を用い連続搬送される帯状基材上に重層塗布用スライド型コーターにより同時に塗布され設層された層であって、該層Ａ用塗布液が塗布直前に分散処理されていることを特徴とする印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】半導体基板上に設けられている有機反射防止膜上に高精度なフォトレジストパターンを安定的に形成する。
【解決手段】省レジスト用シンナー吐出時において、スピンチャックを１００ｒｐｍの低速回転で回転させながら吐出を行い、かつ吐出時間を６．０秒間持続させる。この後、２０００ｒｐｍの中速回転にて１秒間シンナーの振り切りを行い、フォトレジストの滴下ステップを行う。フォトレジスト滴下終了後、一旦１００ｒｐｍの低速回転を２．５秒間行った後、所望のレジスト膜厚を得るための乾燥ステップを２２４０ｒｐｍの中速回転にて１５秒間行い、エッジリンスを１５００ｒｐｍの中速回転にて１１秒間行い、塗布作業を完了する。その後、フォトレジストの露光、現像を行い、レジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストコーティング工程中、基板上に異物質が存在しても均一なフォトレジストを具現できるだけでなく、ノズルまたは基板の破損を防止することができる。
【解決手段】本発明に係るフォトレジストコーティング装置は、基板にフォトレジストをコーティングするノズル１００と、ノズルの下端に一体に形成されフォトレジストを排出する先端吐出部１００ｂと、先端吐出部１００ｂの前方に位置し、基板上の異物質からノズル１００の先端吐出部１００ｂを保護する異物質防止段差１００ａとを含む。 （もっと読む）

【課題】適切な寸法安定性基板のカスタマイゼーションを提供する。
【解決手段】（ａ）無機バインダーの微粉砕粒子、
（ｂ）Ｃ_1-10のアルキルアクリレート、Ｃ_1-10のアルキルメタクリレート、スチレン、置換スチレン、またはそれらの組合せを含む非酸性コモノマー、およびエチレン性不飽和カルボン酸含有部分を含む酸性コモノマーを含む、コポリマー、インターポリマー、またはそれらの混合物を含み、このコポリマー、インターポリマーまたは混合物は、少なくとも１５重量％の酸分を有する有機ポリマーバインダー、 （ｃ）ポリマーバインダーに対する可塑剤の比が、４：２３から７：９の範囲である可塑剤、 （ｄ）光開始剤、 （ｅ）光硬化性モノマー、 （ｆ）有機溶媒 を含む有機組成物であり、 前記組成物は、化学線に像様露光した場合に、０．４〜２．０重量％の塩基を含有する希薄な塩基性水溶液内で現像可能である。 （もっと読む）

【課題】ウエハ上の汚染の低減，及び処理費用の削減を測りつつ，その表面への流の供給,除去を効率良く行う装置並びに方法を提供する。
【解決手段】 多数の実施形態の１つとして、基板を処理するための方法と該方法に使用する近接型プロキシミティプロセスヘッドが開示される。該方法は、第１の流体メニスカスと、該第１の流体メニスカスを少なくとも部分的に取り囲む第２の流体メニスカスと、を生成する工程を含み、第１の流体メニスカスおよび第２の流体メニスカスは、基板の表面上に生成される。 （もっと読む）

【目的】電着レジストを高精度に形成できるスプレーレジスト法による水晶ウェハに対するレジスト膜の電着機構を提供する。
【構成】レジスト液を収容するレジスト容器と、前記レジスト液を霧状に噴霧する吐出ノズルと、前記吐出ノズルの先端に前記レジスト液を帯電させる電極針とを備えた電着機構において、前記レジスト容器に加圧ガスを供給するとともに前記レジスト液を吸引して噴霧するアトマイジングスプレーノズルを設け、前記アトマイジングスプレーノズルから噴霧されたレジスト粒子のうちの重量の大きいレジスト粒子を前記レジスト液に落下させ、前記レジスト粒子のうちの重量の小さいレジスト粒子を前記レジスト容器の上方に設けられて前記吐出ノズルに連通する流出口から排出する。又、前記電極針は複数本として前記吐出ノズルの外周に均等間隔で配置された構成とする。 （もっと読む）

【課題】 ワークに凹凸があっても、ピンホールの発生を防ぎながら、ほぼ均一な膜厚でレジストの塗布を行なうこと。
【解決手段】 ノズル１から気体と混合したレジスト微粒子を霧状に噴霧してワークＷに塗布する。噴霧されるレジスト微粒子を運ぶ気流の速度を高速にし、ワークＷに入射する前でのレイノルズ数Ｒｅが４３００を超えるようにする。また粒子レイノルズ数Ｒｅ’が０．２７を超えるようにする。Ｒｅ及びＲｅ’は（ｖ×ｄ）／γで計算される。ここで、ｖはレジスト微粒子を運ぶ気流の速度（ｍｍ／秒）でＮ／π（Ｌ・ｔａｎθ）² で計算される［Ｎは気体の流量（ｍｍ³ ／秒）、Ｌはノズルからワークまでの距離（ｍｍ）、θは噴霧されるレジストの広がり角（°）］。またＲｅの計算には上記ｄとして上記距離Ｌを用い、Ｒｅ’の計算にはレジスト粒子径Ｄを用いる。またγは気体の動粘性係数（ｍｍ² ／秒）である。 （もっと読む）

ホログラフィック回折パターンを生成する方法およびホログラフィックリソグラフィシステムが開示され、この方法は少なくとも１つの幾何学的形状を定義するステップと、少なくとも１つの幾何学的形状を表すために少なくとも１つの線セグメントを生成するステップと、線幅の制御項および線長の制御項を有する少なくとも１つの線セグメントを表すインパルスに対するフレネル回折式の計算を含め、ホログラム面上の線回折パターンを計算するステップと、２つ以上の線セグメントがある場合にホログラフィック回折パターンを形成するために線回折パターンをベクトル的に加算するステップとを含む。この方法およびシステムによって、記録すべき物理的物体を生成することなくホログラフィックマスクを生成することができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、作業性が高く、また網点再現性、汚れ回復性に優れた印刷版及び点質の優れた印刷物を与える感光性平版印刷版の製造方法及び使用方法を提供することにある。
【解決手段】 支持体上に（Ａ）波長７００ｎｍ〜１２００ｎｍの範囲に吸収をもつ色材及び（Ｂ）ラジカル発生剤を含有する画像形成層を有し、波長７００ｎｍ〜１２００ｎｍの範囲に発光波長を有するレーザー光によって露光される感光性平版印刷版の製造方法であって、少なくとも塗布工程、乾燥工程、断裁工程、検査・選別工程を有し、該塗布工程、該乾燥工程、該断裁工程、該検査・選別工程の何れかの工程が、発光波長極大が４００ｎｍ〜５００ｎｍにある発光ダイオード及び該発光ダイオードの発光光を吸収して黄色発光する蛍光体を有する光源灯下に行われることを特徴とする感光性平版印刷版の製造方法。 （もっと読む）