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国際特許分類[G11B5/851]の内容

国際特許分類[G11B5/851]に分類される特許

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【課題】基板ホルダへの電圧印加効率の向上を図り、長期に渡って安定的に使用できる電圧印加装置を提供する。
【解決手段】電圧印加装置は、真空処理チャンバーと、真空処理チャンバ内に設けられた基板ホルダー20と基板ホルダに電圧を印加するための給電部材13と、給電部材の先端部に設けられた、ダイヤフラム式給電部22と、真空処理チャンバーの外部に設けられ、かつ給電部材を可動して、ダイヤフラム式給電部を基板ホルダに接触又は非接触させる可動機構18と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 CCPターゲットの利用効率を高めるため、厚くても漏れ磁束が大きいCCPターゲットを提供することを課題とする。
【解決手段】 非磁性酸化物、CrおよびPtを含有し、残部がCoおよび不可避不純物からなる磁気記録膜形成用スパッタリングターゲットであって、Co、CrおよびPtの各元素を単体として又はこれらのうち2種以上の元素を含む合金として粉末にした原料粉末と非磁性酸化物の原料粉末との各原料粉末が混合された一次混合粉末を焼結させて一次焼結体を得る一次焼結工程と、前記一次焼結体を粉砕して一次焼結体粉末を得る粉砕工程と、前記各原料粉末が混合された二次混合粉末と一次焼結体粉末とを混合後、焼結させる二次焼結工程と、を経て製造され、二次混合粉末の焼結体からなる組織中に、一次焼結体粉末の焼結体からなる組織が分散している。 (もっと読む)


【課題】 強磁性層における磁性結晶粒子を適切に微細化する。
【解決手段】 垂直磁気記録に用いる磁気ディスク10であって、基体12と、下地層18と、グラニュラー構造の微細化促進層20(非磁性グラニュラー層)と、グラニュラー構造の強磁性層32を有する磁気記録層22とを備え、微細化促進層20は、無機酸化物のマトリックスと、非磁性の金属結晶粒子とを有し、強磁性層32は、無機酸化物のマトリックスと、金属結晶粒子の結晶方位に応じた所定の方位に磁化容易軸が向く磁性結晶粒子とを有する。 (もっと読む)


【課題】低温プロセスで短時間に作製可能であり、高[100]垂直配向、高L1規則度、低キュリー温度、及び高結晶磁気異方性を有する、L1FePt薄膜を備えた磁気記録媒体を製造できる方法、並びに、該方法によって得られるL1FePt薄膜を備えた磁気記録媒体を提供することを課題とする。
【解決手段】FePt合金とCu酸化物とを含む薄膜を形成する薄膜形成工程、及び該薄膜を加熱する加熱工程を経て、L1規則構造を有したFePt合金とCu酸化物とを含有した磁気記録層を形成する磁気記録媒体の作製方法、および該製造方法で得られる磁気記録媒体とする。 (もっと読む)


【課題】ハードディスクドライブ磁気媒体用の部分酸化キャップ層を提供する。
【解決手段】部分酸化キャップ層を有する垂直磁気記録媒体は、第2酸化物層を第1キャップ層と結合して単一の部分酸化キャップを形成する。部分酸化層の酸化部分および非酸化部分は、同じターゲットからスパッタリングされ、金属元素の組成が同じである。酸化部分のMsは非酸化部分の約2倍である。酸化部分は、厚さが約5〜25Åの範囲である。層組成はCoPtCrBTaを含むことができ、Crのat%は約18〜24%、Ptは約13〜20%、Bは約4〜10%、Taが約0〜2%である。 (もっと読む)


【課題】 マグネトロンスパッタリングにおける使用効率改善やターゲット板厚を厚くすることが可能である透磁率の低いFe−Co−Ni系合金スパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 原子比でFe:Ni=90:10〜65:35、かつ(Fe+Ni):Co=90:10〜10:90の組成比を有する焼結体からなるFe−Co−Ni系合金スパッタリングターゲット材であって、前記ターゲット材の焼結組織中に、35原子%以下のNi、15原子%以下のCoを含有するFeを主体とする結晶相を有し、かつ該Feを主体とする結晶相のFeを主体とするfcc相の(200)面からのX線回折ピーク強度(Ifcc(200))とFeを主体とするbcc相の(200)面からのX線回折ピーク強度(Ibcc(200))との比Ifcc(200)/Ibcc(200)が10以上であるFe−Co−Ni系合金スパッタリングターゲット材である。 (もっと読む)


【課題】耐環境性、特に耐腐食性を高めることを可能とした磁気記録媒体の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】複数のチャンバと、複数のチャンバ内で非磁性基板を保持するキャリアと、キャリアを複数のチャンバの間で順次搬送させる搬送機構とを備えたインライン式成膜装置を用いて、非磁性基板80の少なくとも一方の面上に形成された磁性層83に、磁気的に分離された磁気記録パターン83aが形成されてなる磁気記録媒体を製造する際に、キャリアが各チャンバの間を通過する間に、各チャンバ内を減圧雰囲気とし、大気と遮断された状態で各工程を連続して行うと共に、保護層84を形成する前に、磁性層83の表面を水素プラズマに曝し、この磁性層83の表面に形成された酸化膜を還元除去する。 (もっと読む)


【課題】キャリアとベアリングとの耐摩耗性を向上させることによって、生産性の更なる向上を可能としたインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】キャリア4に保持された基板Wを複数のチャンバの間で順次搬送させながら成膜処理を行うインライン式成膜装置であって、キャリア4を非接触状態で駆動する駆動機構20と、駆動機構20により駆動されるキャリア4をガイドするガイド機構21とを備え、ガイド機構21は、キャリア4に設けられたガイドレール29に係合された状態で、駆動機構20により駆動されるキャリア4を鉛直方向にガイドする主ベアリング28と、キャリア4を挟み込んだ状態で、駆動機構20により駆動されるキャリア4を水平方向にガイドする副ベアリング30とを有して、これらベアリング28,30とキャリア4との何れかの接触面に、コルモノイ系合金による耐摩耗処理が施されている。 (もっと読む)


【課題】高いSNR、熱安定性、記録性能を同時に満たす垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】基板上に、磁性層軟磁性下地層、磁性層の配向と偏析を制御するための下地層、その下地層上に形成された酸化物を含有するCoとCrとPtを主体とする合金磁性材料からなる磁性層、その磁性層の上に形成された酸化物を含まないCoとCrとPtを主体とする強磁性金属層とを有する。酸化物を含む磁性層は二層以上の層から構成され、強磁性金属層に隣接する層のCr濃度が23at.%以上32at.%以下であり、隣接する層間のCr濃度の差が25at.%以下であり、最もCr濃度の低い層は酸化物が強磁性粒子を取り囲んだグラニュラー構造を有し逆磁区核形成磁界が159.2kA/m以上である。 (もっと読む)


【課題】電磁変換特性が高く、かつ、耐腐食性が高い磁気記録媒体、その製造方法及び磁気記録再生装置を提供することを目的とする。
【解決手段】非磁性基板1の一面1a上に、軟磁性下地層2と、直上の層の配向性を制御する配向制御層3と、非磁性下地層8と、一面1aに対して主に垂直に配向された磁化容易軸を有する垂直磁性層4と、保護層5とがこの順序で積層された磁気記録媒体であって、垂直磁性層4は2層以上の磁性層45、46を備えており、磁性層45、46のうち最も保護層5の磁性層46に非磁性材料が分散された分散領域48が設けられており、前記非磁性材料の濃度が保護層5側から非磁性基板1側に向けて少なくされている磁気記録媒体50を用いることにより、上記課題を解決できる。 (もっと読む)


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