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国際特許分類[G11B5/851]の内容

国際特許分類[G11B5/851]に分類される特許

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【課題】高いSNRを確保しつつ信頼性を向上することが可能な垂直磁気ディスクの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる垂直磁気ディスクの製造方法の構成は、基板上に、第1の圧力の雰囲気ガス下でRuまたはRu合金からなる第1下地層を成膜する第1下地層成膜工程と、第1の圧力より高い第2の圧力の雰囲気ガス下でRuまたはRu合金からなる第2下地層を成膜する第2下地層成膜工程と、第1の圧力より高く且つ第2の圧力よりも低い第3の圧力の雰囲気ガス下で、RuまたはRu合金を主成分とし酸化物を副成分とする第3下地層を成膜する第3下地層成膜工程と、第3下地層より上層に、柱状に成長したCoCrPt合金を主成分とする磁性粒子の周囲に酸化物を主成分とする非磁性物質が偏析して粒界部が形成されたグラニュラ磁性層を成膜するグラニュラ磁性層成膜工程と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】凹凸構造を有する基板表面の膜厚分布の改善を図ることができる成膜装置及び成膜方法を提供すること。
【解決手段】本発明の成膜装置1は、被成膜面上の一方向である第1の方向に沿って形成された凹凸構造を有する基板Wを成膜対象とし、ステージ3と、成膜源4と、検出部10と、成膜源制御部16とを具備する。成膜源4は、成膜材料Tから成膜粒子を生成させ、ステージ3に支持された基板Wに第2の方向から成膜粒子を照射する。検出部10は、ステージ3の回転角度を検出する。成膜源制御部16は、検出部10の検出結果に基づいて、第1の方向と、第2の方向を被成膜面に投影した第3の方向とが平行となる回転角度のときは、成膜速度が第1の成膜速度となり、第1の方向と第3の方向とが垂直となる回転角度のときは、成膜速度が第1の成膜速度より小さい第2の成膜速度となるように成膜源4を制御する。 (もっと読む)


【課題】基板を回転させる機構のコスト低減に寄与する基板回転装置を提供する。
【解決手段】センタ孔を有する基板9を回転させてキャリアに支持された基板9の支持位置を変化させる基板回転装置は、駆動源に連結され、進退動、上下動及び左右動が可能なシャフトと、シャフトの端部側に固定され、センタ孔内側の縁部分を載せて基板9を鉛直姿勢で支持するための、上方に開放された支持溝が形成されたピック32とを有してなり、ピック32の回転中心とピック32との距離は、シャフトの上下動に伴い変化させることでピックの回転前後でキャリアに対する基板の位置の変化を抑え、基板9のワイパー動作を抑制できる。 (もっと読む)


【課題】シリカ粒子等の無機酸化物粒子の飛散を低減できるスパッタリングターゲット及びその製造方法等を提供することを目的とする。
【解決手段】Co及びPtを含む金属相と、金属相に分散したシリカ粒子又はチタニア粒子と、を備えるスパッタリングターゲットであって、シリカ粒子又はチタニア粒子は、スパッタリングターゲットの主表面に垂直な断面において、スパッタリングターゲットの主表面に平行な方向に延びる扁平な形状を有するスパッタリングターゲットである。 (もっと読む)


【課題】表面の平坦性が高く、安定な記録書き込み再生が可能な磁気記録媒体、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】サーボ領域2を有し、前記サーボ領域2は、第1の領域24及び第2の領域25がパターンをなす磁気記録層7で形成され、前記第1の領域24は磁化の向きが第1の方向を向いた複数の第1の磁性粒子26とその周囲の非磁性体マトリックス28とを含み、前記第2の領域25は磁化の向きが前記第1の方向とは反対の方向を向いた複数の第2の磁性粒子27とその周囲の非磁性体マトリックス28とを含み、前記第1の磁性粒子26の大きさは、前記第2の磁性粒子27の大きさよりも小さいことを特徴とする磁気記録媒体。 (もっと読む)


【課題】補助記録層としての機能を維持しつつ薄膜化を図り、SNRの向上の向上を図ることを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる垂直磁気ディスク100の製造方法の構成は、基板110上に、柱状に成長したCoCrPt合金を主成分とする磁性粒子の周囲に酸化物を主成分とする非磁性物質が偏析して粒界部が形成されたグラニュラ磁性層160を成膜するグラニュラ磁性層成膜工程と、グラニュラ磁性層より上方に、CoCrPtRu合金を主成分とし膜厚が1.5〜4nmである補助記録層180を成膜する補助記録層成膜工程と、補助記録層を成膜した基板を210〜250℃に加熱する加熱工程と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 PTFを改善することができる磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 非磁性酸化物、CrおよびPtを含有し、残部:Coおよび不可避不純物からなる成分組成を有するスパッタリングターゲットであって、その組織が、CoとCrとPtとを含むCo−Cr−Pt粒相4と、PtとCoとCrと非磁性酸化物とを含む結合相であるマトリックス相3との複合組織からなり、マトリックス相3のCo濃度が、25質量%以下である。 (もっと読む)


【課題】良好な記録再生特性を有し、高密度の情報の記録再生が可能な磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録層がグラニュラ膜型記録層と連続膜型記録層とを含み、グラニュラ膜型記録層は膜面内の磁気結晶粒子が3nmから7nmの平均結晶粒径を有する第1のグラニュラ膜型記録層と、第1のグラニュラ膜型記録層の平均結晶粒径よりも大きい膜面内の平均結晶粒子をもつ磁気結晶粒子を有する第2のグラニュラ膜型記録層を含む。 (もっと読む)


【課題】 組織のさらなる微細化が可能であると共にコンタミネーションが少ない磁気記録膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 非磁性酸化物、CrおよびPtを含有し、残部がCoおよび不可避不純物からなるターゲットの製造方法であって、Co、CrおよびPtの各元素を単体として又はこれらのうち2種以上の元素を含む合金として粉末にした原料粉末と非磁性酸化物の原料粉末との各原料粉末が混合された一次混合粉末を焼結させて一次焼結体を得る一次焼結工程と、一次焼結体を粉砕して一次焼結体粉末を得る粉砕工程と、前記各原料粉末が混合された二次混合粉末1と一次焼結体粉末2とを混合および粉砕後、焼結させる二次焼結工程と、を有し、二次混合粉末1の平均粒径が0.05〜30μmであり、一次焼結体粉末2の最大粒径が200μm未満である。 (もっと読む)


【課題】 FePt合金の素地にSiO等の酸化物を含む高密度の磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 一般式:(FePt(100−x)(100−y)(SiO、ここで40≦x≦60(単位:モル%)、5≦y≦30(単位:モル%)で表される組成を有する焼結体からなるターゲットであって、その組織が、SiO相と、FeとPtとの固溶体からなるFePt合金相と、SiO相とFePt合金相との界面において、Si、O、FeおよびPtの各元素が相互に拡散することによって形成するSi、O、FeおよびPtを含有する相互拡散相と、で構成されている。 (もっと読む)


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