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国際特許分類[H01B5/14]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | ケーブル;導体;絶縁体;導電性,絶縁性または誘導性特性に対する材料の選択 (29,859) | 形を特徴とする非絶縁導体または導電物体 (4,138) | 絶縁支持体上に導電層または導電フイルムを有するもの (2,176)

国際特許分類[H01B5/14]に分類される特許

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【課題】 本発明の目的は、エッチング性に優れ、低抵抗値、高い透過率、良好な表面平滑性を併せ持つ透明電極及び透明電極の製造方法を提供することである。
【解決手段】 透明基材上に透明高屈折率層と金属粒子とを交互に積層し、総膜厚が30nm以上、100nm以下であって、かつ表面抵抗値が1Ω/□以上、13Ω/□以下であることを特徴とする透明電極。 (もっと読む)


極細導電繊維の含有量を少なくして透明性を向上させても良好な導電性を発揮でき、極細導電繊維の含有量を増やしても透明性を低下させない導電性成形体を提供する。樹脂やガラス等よりなる基材1の少なくとも片面に、極細導電繊維を含んだ透明な導電層2を形成した導電性成形体Pであって、導電層2が、極細導電繊維が凝集することなく分散して互いに接触しているか、或は、それぞれの繊維が分離した状態で若しくは繊維の束が分離した状態で分散して互いに接触している導電性成形体Pとする。
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【課題】 高電導度と高透光性の導電性膜を提供すること。高いEMIシールド性と高い透明性とを同時に有する電磁波シールド膜を提供すること。安価に大量生産できる導電性膜、とくに透過性電磁波シールド膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】 支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有する黒白ハロゲン化銀写真感光材料に露光と現像処理を施して金属銀部を形成し、続いて該金属銀部を活性化液で処理したのち15秒以上10分以下の時間で無電解銅めっき処理を行うことにより厚さ1μm以上のめっき層を設けたことを特徴とする透光性導電性膜の製造方法。とくに一般式(A)、(B)、(C)または(D)で表される特定のメルカプト又はチオン化合物を含むめっき液を用いる上記方法。 (もっと読む)


【課題】 高電導度と高透光性の導電性膜を提供すること。さらに細線パターン形成された高いEMIシールド性と高い透明性とを同時に有する電磁波シールド膜を提供すること。電磁波シールド能を劣化させることなく膜を安価に大量生産できる透過性電磁波シールド膜及び導電性膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】 支持体上に銀塩を含有する乳剤層と保護層とをこの順で有する感光材料を露光し、特定構造のメルカプト化合物を含有する現像液で処理を施して金属銀部および光透過性部を形成させ、該金属銀部に物理現像および/またはメッキ処理を施すことによって金属銀部に導電性金属を担持させたことを特徴とする透光性電磁波シールド膜、及びこれに準じた導電性膜並びにそれらの製造方法。 (もっと読む)


大気圧もしくはその近傍の圧力下、高周波電界Aを発生させた第1の放電空間に放電ガスを供給して励起し、前記励起した放電ガスのエネルギーを薄膜形成ガスに伝えて励起し、基材を、前記励起した薄膜形成ガスに晒すことにより、前記基材上に薄膜を形成する第1の工程と、高周波電界Bを発生させた第2の放電空間に酸化性ガスを含有するガスを供給して励起し、前記第1の工程で形成された前記薄膜を、前記励起した酸化性ガスを含有するガスに晒す第2の工程とを有することを特徴とする薄膜形成方法。
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【課題】成膜が容易であり低温焼成でも優れた導電性を有するITO膜を容易に形成できる技術を提供する。
【解決手段】インジウム塩とスズ塩を溶解した有機溶媒母液中で生成したインジウム錫複合沈殿物からなるインジウム錫酸化物前駆体であって、該前駆体は分散液あるいは粘性液として用いることができ、これを基板に塗布し焼成して透明ITO導電膜を形成することができ、また該前駆体の製造方法では有機溶媒母液の酸化処理と共にpH調整して沈澱を生成させると良い。 (もっと読む)


【課題】高いEMIシールド性と高い透明性とを同時に有する電磁波シールド膜を安価に大量生産できる透過性電磁波シールド膜及び導電性膜の製造方法を提供する。
【解決手段】ハロゲン化銀写真感光材料に露光と現像処理を施して金属銀部を形成し、続いて該金属銀部を活性化液で処理した後めっき処理又は物理現像処理して得られる導電性膜であって、該活性化液が現像処理中に現像銀表面中に形成されるハロゲン化物及び/又は硫化物を除去することを特徴とする透光性導電性膜。 (もっと読む)


【課題】 高電導度と高透光性の導電性膜を提供すること。高いEMIシールド性と高い透明性とを同時に有する電磁波シールド膜を提供すること。安価に大量生産できる透過性電磁波シールド膜及び導電性膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】 ハロゲン化銀写真感光材料に現像処理を施して金属銀部を形成し、続いて該金属銀部を貴金属化合物を含有する活性化液で処理した後めっき処理又は物理現像処理して得られる透光性導電性膜であって、該活性化液中の貴金属化合物濃度D(g/L)、活性化浴の処理時間t(min)及び温度T(℃)が3≦DtT≦10を満たすことを特徴とする導電性膜並びにそれらの製造方法。 (もっと読む)


【課題】 高い電磁波シールド性と高い透明性とを同時に有する導電性膜を製造することができ、かつ、圧力性が改善された導電性膜形成用感光材料を提供すること。
【解決手段】 支持体上に銀塩乳剤を含む乳剤層を有し、前記乳剤層を露光して現像処理を施し、さらに物理現像および/またはメッキ処理を施すことにより導電性膜を製造可能な導電性膜形成用感光材料であって、
前記乳剤層が実質的に最上層に配置され、前記乳剤層に酸化防止剤を含有することを特徴とする導電性膜形成用感光材料。 (もっと読む)


本発明は光透過性および導電性がバランス良く改善された透明導電性基板を提供する。本発明による透明導電性基板は、透明な基体と、この基体上に形成された導電性の金属酸化物膜とを含み、この金属酸化物膜は錫およびフッ素を含有する。この金属酸化物膜をSIMSにより測定した深さ方向プロファイルにおいて、錫の感度に対するフッ素の感度の比の最大値Imaxから最小値Iminを引いた値は0.15以上であり、Imaxは1よりも大きく、Iminは1よりも小さい。また、Imaxを示す位置はIminを示す位置よりも金属酸化物膜の表面に近い。
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