【課題】α"Fe₁₆N₂などの窒化物膜を生産性よく製造可能な窒化物膜の製造方法及び窒化物膜の製造装置、並びに窒化物膜を提供する。
【解決手段】窒化物膜の製造装置1は、エアロゾル生成部10により原料粉末をエアロゾル化し、エアロゾルをチャンバ100内に高速で射出して基板Bに衝突させ、原料を破砕し、破砕片を基板Bに堆積させて成膜する。製造装置1は、窒素プラズマをエアロゾルに照射するプラズマ生成部20と、生成された窒化物などに磁場を印加する超電導磁石30とを更に具える。窒素プラズマにより、常温でα"Fe₁₆N₂などの窒化物を生成可能であり、磁場の印加により、N原子の進入方向を規制してα"Fe₁₆N₂などを効率よく生成可能であると共に、破砕片を構成する窒化物を配向させられ、配向性が高い窒化物膜を成膜できる。従って、製造装置1は、α"Fe₁₆N₂などの窒化物膜を生産性よく製造できる。 （もっと読む）

【課題】書き換え回数が十分に維持され、高速で再現性良く記録・再生が可能な透明磁性膜とその再生方法、透明磁性膜の製造方法及び磁化パターンを提供する。
【解決手段】支持体上に、分散剤で覆われたチタニアナノシート(透明且つ印加磁界により支持体面に対し垂直方向に磁気異方性を発現可能なもの)と水溶性高分子を含む分散液を塗工法又は印刷法により連続膜形状又はパターン膜形状で設け磁界を印加(、磁力線方向が支持体に平行)しながら乾燥してチタニアナノシート積層膜を形成（例えば、波長依存性を有する複数のナノシートを分割配置又は厚さ方向積層して形成）して透明磁性膜とする。透明磁性膜に情報を磁化パターンとして磁気又は／及び光により記録・再生する。 （もっと読む）

【課題】高周波をかけた場合でも高い透磁率を有し、比較的厚膜な軟磁性膜を提供すること。そのような軟磁性膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】基材の少なくとも一方面に、絶縁層により表面被覆された多数の軟磁性粒子が付着・堆積されて形成されている軟磁性膜とする。当該軟磁性膜は、絶縁層により表面被覆された軟磁性粉末を、圧縮気体により加速させて噴射し、基材上に多数の軟磁性粒子を衝突させて付着・堆積させる工程を経れば得ることができる。上記軟磁性粉末の噴射方式は、コールドスプレー法、ＨＶＡＦ法、および、ＨＶＯＦ法から選択される１種または２種以上のメカニカルデポジション方式を好適に採用することができる。 （もっと読む）

【課題】 非磁性基板の少なくとも一方の表面に、磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体において、従来の物理的な磁気層加工型と比較しその磁性層除去工程を排除することにより格段に製造工程を簡略化し、かつ汚染リスクがすくない製造方法と、ヘッド浮上特性に優れた有用なディスクリートトラック型磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 磁気記録媒体の製造方法を、非磁性基板に磁性層を形成する工程、磁性層の上にマスク層を形成する工程、マスク層の上にレジスト層を形成する工程、レジスト層に前記磁気記録パターンのネガパターンを、スタンプを用いて転写する工程、マスク層で磁気記録パターンのネガパターンに対応する部分を除去する工程、レジスト層側表面から磁性層にイオンを注入し、磁性層を部分的に非磁性化する工程、レジスト層およびマスク層を除去する工程をこの順で有するようにする。 （もっと読む）

【課題】高密度に記録可能で、Ｓ／Ｎ比が高い磁気記録媒体及びその効率的な製造方法、並びに情報記録再生能に優れた磁気記録再生装置の提供。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、化学合成により作製した磁性ナノ粒子を少なくとも含む分散液を、被加工面上に塗布して磁性膜を形成する磁性膜形成工程と、該磁性膜に対し、磁場中にて熱処理を行う第１熱処理工程と、該第１熱処理工程の後、前記磁性膜上に磁性材料をスパッタ法により堆積させる磁性材料堆積工程と、該磁性材料が堆積された前記磁性膜に対し、非磁場中にて熱処理を行う第２熱処理工程とを、少なくとも含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高周波領域で高機能性を示す高周波軟磁性体膜に関し、特に、軟磁性金属及び合金クラスターを堆積させた集合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】高周波領域でフェライトを凌駕する複素透磁率が実現できるように、平均サイズ10nm以下の磁性金属及び合金クラスターを直接に基材（基板）上に堆積したことを特徴とする高周波軟磁性体膜。更にクラスター堆積中に、基材上に磁場を印加することにより作製すると、クラスター集合体膜中に磁気異方性が付与され、格段に優れた電磁波吸収特性を示す。 （もっと読む）

【課題】均質で磁石特性に優れた永久磁石を提供する。
【解決手段】本発明による永久磁石の製造方法は、Ｒ−Ｔ−Ｂ系合金を用意し、９００℃以上１１００℃以下の温度で１時間以上の間、保持する工程と、前記Ｒ−Ｔ−Ｂ系合金に水素を吸蔵させることにより、脆化させる水素処理工程と、脆化されたＲ−Ｔ−Ｂ系合金を粉砕し、平均粒径１０μｍ以上１００μｍ以下の粉末を形成する微粉砕工程と、前記粉末を溶射することによってＮｄ₂Ｆｅ₁₄Ｂ化合物を主相とする膜状永久磁石を形成するプラズマ溶射工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】高周波数領域で透磁率が高く、磁気ヒステリシス損失が小さい磁性膜及び該磁性膜を有する磁気デバイスを提供する。
【解決手段】磁性膜は、コバルト及びイリジウムを含有する合金からなる磁性粒子を含有し、コバルト及びイリジウムを含有する合金の磁気異方性定数は、負である。 （もっと読む）

【課題】 反強磁性相と強磁性相との交換結合を有する磁性材料において、交換結合をより強固にし、保磁力を向上させること。
【解決手段】 反強磁性−強磁性（又は、フェリ磁性）転移を起こすＡＦ−ＦＭ合金からなる第１粉末と、強磁性体（又は、フェリ磁性体）からなる第２粉末とを混合し、混合粉末を得る混合工程と、前記混合粉末に磁界を印加した状態で、前記混合粉末を、前記ＡＦ−ＦＭ合金が反強磁性−強磁性（又は、フェリ磁性）転移を起こす転移温度（Ｔ_ｔ）以上、かつ、ブロッキング温度（Ｔ_{ｂｌｏｃｋ}）以上の温度に加熱し、次いで少なくともブロッキング温度（Ｔ_{ｂｌｏｃｋ}）以下の温度まで冷却する磁場中熱処理工程とを備えた磁性材料の製造方法、及び、このような方法により得られる磁性材料。 （もっと読む）