【課題】
本発明の目的は、吸音材もしくは制振材から発生する異物の飛散を抑制してクリーンルームで使用可能にするとともに、吸音材もしくは制振材で効率良く音波を減衰するのに好適な荷電粒子線装置を提供することである。
【解決手段】
上記目的を達成するため、荷電粒子線装置の鏡体，試料から発生する二次信号粒子を検出する検出手段，二次信号粒子検出手段の信号により試料像を取得する試料像取得手段，試料ホールダ，試料ステージを包囲する外装カバーと、外装カバーの内面に防塵繊維で包囲された吸音材もしくは制振材を取付ける取付け手段とを具備したものである。 （もっと読む）

【課題】従来の電子顕微鏡は、あまりにも大きい為、試料を電子顕微鏡で観察する必要が生じた場合、これを、電子顕微鏡がある研究所などに持って行って観察しなければならず時間的、空間的に不便であった。本発明は、このような問題点を解決するために、マイクロカラムを使用して携帯または移動可能な電子顕微鏡を提供することをその目的とする。また、本発明は、時間的および空間的制限なしに、移動しながら試料を観察することが可能な顕微鏡を提供することを目的とする。
【解決手段】マイクロカラムを利用したポータブル電子顕微鏡を提供する。このポータブル電子顕微鏡は、マイクロカラム；低真空用ポンプ；高真空用ポンプ；超高真空用イオンポンプ；マイクロカラムおよび測定対象試料が収容固定され、前記ポンプによって真空が形成される第１チェンバー；コントローラー；および前記ポンプ、前記チェンバー、および前記コントローラーを収容するケース；を含む。 （もっと読む）

【課題】 高電圧部の隔離とイオン加速部のＸ線遮蔽を可能にすると同時にプラズマ発生部のメンテナンスが容易になる荷電粒子ビーム発生及び加速装置を提供する。
【解決手段】 プラズマ発生手段１と、その出口側に設けられた荷電粒子ビーム引き出し手段２と、その下流側に設けられた荷電粒子ビーム加速手段３と、プラズマ発生手段１へプラズマ発生に必要な電流、電圧、ガスなどを導入する導入手段１０と、プラズマ発生手段１と荷電粒子ビーム引き出し手段２と荷電粒子ビーム加速手段３と導入手段１０とからなる高電圧部を囲むように設置された接地カーバを備え、接地カーバは所定壁厚を有し、荷電粒子ビーム加速手段３を覆う第一接地カーバ７と、第一接地カーバ７に対して脱着可能に設けられ、プラズマ発生手段１を覆うと共に第一接地カーバ７より壁厚が薄くされた第二接地カーバ８とから構成される。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子線装置において試料を観察する際に、試料を対物レンズや対物レンズ周辺の検出器と接触させ、試料または電子レンズを傷つけたり、検出器を破損させたりすることがある。
【解決手段】 電子線を発生させる電子銃１と、電子銃１により発生させた一次電子線２を細く絞るための集束レンズ系３と、対物レンズ４と、試料５を載せ試料５を移動させることができる移動機構を有する試料ステージ６と、対物レンズ４がその中に設けられるとともに観察時に試料５および試料ステージ６を収容し、その近傍を高真空に保つための真空容器７と、試料ステージ６を真空容器７から引き出すための機構８と、を含む荷電粒子線装置において、真空容器７に設けられた試料ステージ引き出し用の開口部Ｏに対物レンズ４を試料５の引き出し方向、すなわち、水平方向に投影させた対物レンズ４の水平投影形状を有する干渉検出用部材９が設けられている。 （もっと読む）

【課題】イオン・ビーム光軸上に磁場が存在し、更に磁場が変動する場合でもイオン・ビームが試料上で同位体分離を生じることが無く、磁場が無い場合のビーム・スポット位置へ集束する集束イオン・ビーム装置を提供する。
【解決手段】補正磁場発生部10からイオン・ビーム３の光軸上に補正磁場を発生させ、外部磁場によるイオン・ビームの偏向を相殺する。 （もっと読む）

【課題】気圧変動がある場合でも高精度の描画でき、かつスループットが維持でき、しかも安価な電子線描画方法、および電子線描画装置を提供すること。
【解決手段】電子ビームにより試料に描画を行う電子線描画方法において、前回描画較正時に計測された気圧との気圧差および前回描画較正時からの経過時間を逐次計測し、前記経過時間に対する前記気圧差の割合が、気圧変動割合規定値以上のときには、描画精度の較正を実行することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 真空シールしながら複数の真空部材を高い位置精度で配置する真空機器組立装置を提供する。
【解決手段】 第１部材としてのデバイス１０１と第２部材としてのベース１０２との間に真空シール材１０３を挟み真空シールするとともに、デバイス１０１とベース１０２の相対位置を所望の位置に固定する真空機器組立装置であって、真空シールするために真空シール材１０３を変形させる第１の方向であるＺ方向と直交するＸＹ平面内で、デバイス１０１を固定したまま、Ｚ方向に該デバイス１０１を移動させる機構を有する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、振動に起因する描画の誤差による基材の良品不良製品を識別することの可能な描画システム、情報処理装置、電子ビーム描画装置、基材の検査方法、その方法を実行するためのプログラム、プログラムを記録した記録媒体、描画方法、及び基材の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の描画システムは、ビームにより基材に対して描画を行う描画装置（３）と、描画装置による振動ないしは外部からの振動を計測する振動計測装置（５００）と、振動計測装置にて計測された振動と、前記基材に対するドーズ量に応じた前記振動による描画位置ずれの影響度に基づいて、前記基材の描画の品質を判定するように制御する品質判定制御装置（６００）と、含む。 （もっと読む）

【課題】 ビーム通路の内壁を保護する保護板からの金属汚染を低減することができるイオン注入装置を提供すること。
【解決手段】 保護板２７の表面に対して実質的に垂直方向に延び且つ不要なイオンビーム１１Ｂが衝突する垂直壁面３０を有する突出壁部２８を、ビーム通路２６の延在方向に沿って保護板２７の表面に連続して形成する。これにより、不要なイオンビーム１１Ｂが突出壁部２８の垂直壁面３０に衝突したとき、これに伴って発生する壁面の構成粒子などの不純物３２が、選択したイオンビーム１１Ａの軌道に向かって飛来することなく保護板２７の表面に堆積する。よって、当該保護板２７からの金属汚染を従来よりも大幅に低減することができる。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子ビーム露光装置において、チャンバ内を真空状態とするためのポンプからの輻射熱による影響を抑制し、露光精度の低下を防ぐことを目的とする。
【解決手段】 露光処理が行われるチャンバ１２と、チャンバ１２内で被露光試料１０を搭載するステージ１１と、荷電粒子ビームＥＢを発生し収束させ偏向させて被露光試料１０上に照射するための電子光学手段を内蔵するコラム１３と、露光時にチャンバ１２内を真空状態とするためのポンプ１４とを備え、チャンバ１２の下部の開口部の近傍においてチャンバ１２内で該チャンバの内壁から所定の距離の位置に、ポンプ１４からの輻射熱ＲＨをシールドする熱反射板１６を設ける。 （もっと読む）