【課題】
本発明の目的は、荷電粒子線加工装置において、ビーム絞りから発生するスパッタ物によるチャージング現象に起因する加工不良を回避し、装置の稼働率を向上させることに関する。
【解決手段】
本発明は、ビーム絞りの材料として、ビーム絞りから放出されるスパッタ粒子により生成した、ビーム絞りの下流にある光学素子表面上の付着膜が、導電性を示す材料を用いることに関する。好ましくは、ビーム絞りの材質を、カーボンまたは、その化合物とする。また、好ましくは、ビーム絞りの下流側に、電位を与えた電極を配置する。 （もっと読む）

イオン源およびシステムおよび方法が開示されている。幾つかの実施形態では、イオン源、システムおよび方法は、不都合な振動を比較的わずかにしか示さず、および／または不都合な振動を十分に減衰することができる。これにより、性能を向上させることができる（例えば、確実性、安定性などを増大することができる）。
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イオン源、システムおよび方法が開示されている。幾つかの実施形態では、イオン源、システムおよび方法は不都合な振動を比較的わずかにしか示さず、および／または不都合な振動を十分に減衰することができる。これにより、性能を向上させることができる（例えば、確実性、安定性などを増大することができる）。幾つかの実施形態では、イオン源、システムおよび方法は、所望の物理的特性（例えば、先端部の頂部における原子数）を有する先端部を形成する能力を高めることができる。
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【課題】冷却機構によって生じる振動がガス電界電離イオン源のエミッタティップに伝達するのを防止することができるイオンビーム装置を提供する。
【解決手段】イオンビーム装置は、ガス電界電離イオン源とイオン照射光系と真空容器とを有する。ガス電界電離イオン源は、エミッタティップと引き出し電極とガス供給管とエミッタ電源と冷却機構とを有する。冷却機構は、冷媒を保持する容器と冷媒を冷却するための冷凍機とを有する。冷媒の温度が所定の作動温度範囲以上になったら、ガス電界電離イオン源によるイオンビームの生成を停止し、冷凍機の運転を行う。冷媒の温度が所定の作動温度範囲以下になったら、冷凍機の運転を停止し、ガス電界電離イオン源によるイオンビームの生成を開始する。 （もっと読む）

【課題】荷重の集中点を形成することなく、装置本体の振動を好適に抑制できる荷電粒子線装置を提供することを課題とする。
【解決手段】荷電粒子線銃２が備わる試料室４を含んでなる装置本体１０が、フレーム構造体である支持台１１に支持される荷電粒子線装置１であって、支持台１１に配設される除振装置６が、装置本体１０に取り付けられる支持部材５ａを下方から支持するとともに、装置本体１０の少なくとも一部は、除振装置６が支持部材５ａを支持する高さより低い位置にあることを特徴とする。 （もっと読む）

イオン注入の間の粒子汚染を低減させるための方法は、イオンビームを介してワークピースにイオンを注入するための注入システムであって、１つ以上の部材が任意の真空下であり、該１つ以上の部材上には１つ以上の第一状態の汚染物質が堆積されている注入システムを設けるステップを含む。気体を注入システムに導入することによって、該気体が１つ以上の汚染物質の少なくとも一部と反応し、該反応において、１つ以上の汚染物質の少なくとも一部が第二状態に変化する。１つ以上の第二状態の汚染物質の少なくとも一部は、１つ以上の部材上に堆積した状態で残留し、１つ以上のワークピース上に粒子汚染を引き起こさない。
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【課題】描画チャンバの自重によるフレームの屈曲を抑制し、この屈曲による描画チャンバの振動を抑制することで高精度な描画を行うことが可能な荷電ビーム描画装置を提供すること。
【解決手段】上部に電子光学鏡筒１７を有する描画チャンバ１３と、この描画チャンバ１３とゲートバルブ２０を介して連通した真空ロボットチャンバ１４と、この真空ロボットチャンバ１４及び描画チャンバ１３を載置するフレーム２２と、真空ロボットチャンバ１４と、描画チャンバ１３との距離を所定の距離に固定するステー２５と、を具備することを特徴とする電子ビーム描画装置１１。 （もっと読む）

【課題】透過型電子顕微鏡および走査透過型電子顕微鏡など、狭い真空経路を有する真空装置を、活性酸素ラジカルの化学的クリーニング作用により、真空装置を分解せずにクリーニングを行う装置を提供する。
【解決手段】内径１〜１０ｍｍの電子線通過経路を備えた真空装置の真空経路をクリーニングするクリーニング装置であって、活性酸素ラジカル発生装置と、前記真空経路内を０．１〜１．０ｈＰａの真空度に維持するプラズマ安定化装置と、０℃において１×１０⁻⁴Ｐａ・ｍ^３／ｓｅｃ以上の活性酸素ラジカル流量を得るための活性酸素ラジカル強制排気装置と、真空配管とを備えたことを特徴とする真空装置のクリーニング装置。 （もっと読む）

【目的】本発明は、磁気遮蔽特性を有する配管あるいは容器に設けられたフランジを相互に接続する磁気遮蔽フランジに関し、ＩＣＦの真空シールを保全したままで浮遊磁場を究極迄遮蔽することを目的とする。
【構成】磁気遮蔽特性を有する第１の材質で形成し、固定具で相互に圧接させる磁気遮蔽フランジ部と、磁気遮蔽フランジ部に溶接し、ガスケットを圧接して真空シールする、充分な磁気遮蔽特性を有しないが充分な圧接を繰り返し可能な第２の材質で作成したエッジ部と、エッジ部と磁気遮蔽フランジ部とが接触する両者の内側の部分に、エッジ部に繋がる部分に所定幅で所定高さに形成した第１の溶接部、および磁気遮蔽フランジ部に繋がる部分に所定幅で所定高さよりも若干高く形成した第２の溶接部とを備える。 （もっと読む）

【課題】容易に工作機械による表面の加工状態を観察することができる表面観察装置を提供する。
【解決手段】表面観察装置１は、シュラウド１１及びＳＥＭユニット１３を有している。シュラウド１１は、工作機械Ｍ１を用いて加工する試料Ｓ１、及び、工作機械Ｍ１のテーブルＴ１上に載置された試料Ｓ１を固定するための治具Ｊ１を覆うように工作機械Ｍ１のテーブルＴ１上に載置される。ＳＥＭユニット１３は、シュラウド１１上に配置される。このように、工作機械Ｍ１のテーブルＴ１上において、試料Ｓ１を治具Ｊ１に取り付けた状態で試料Ｓ１及び治具Ｊ１をシュラウド１１の内部に収めることによって、試料Ｓ１を治具Ｊ１から取り外すことなく、試料Ｓ１の表面の加工状態をシュラウド１１の上面に配置されたＳＥＭを用いて観察することが可能となる。 （もっと読む）