【解決手段】 トリプルジャンクション破壊に起因するイオン注入装置における不安定性を防ぐ高圧絶縁装置を開示する。一実施形態によると、イオン注入装置におけるトリプルジャンクションの不安定性を防ぐ装置が提供される。本実施形態によると、第１の金属電極と、第２の金属電極とが設けられている。第１の金属電極と第２の金属電極との間に、絶縁体が配設されている。当該絶縁体は、第１の金属電極と第２の金属電極との間において、イオン注入装置が生成するイオンビームを輸送する真空にさらされる面を少なくとも１つ有する。第１の金属電極と絶縁体との間に、第１の伝導層が配設される。第１の伝導層は、第１の電極、絶縁体、および真空の界面におけるトリプルジャンクション破壊の発生を防ぐ。第２の金属電極と絶縁体の第１の伝導層に対して反対側との間に、第２の伝導層が配設される。第２の伝導層は、第２の電極、絶縁体、および真空の界面におけるトリプルジャンクション破壊の発生を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子源および引出電極と筐体との間で放電が発生しにくい荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子１５を放出するための荷電粒子源３と、筐体１の外部から荷電粒子源３に通電するために、筐体１の外部から内部にかけて配置された荷電粒子源端子１４ａ、１４ｂと、荷電粒子源３から荷電粒子１５を引出すための引出電極４と、筐体１の外部から引出電極４に通電するために、筐体１の外部から内部にかけて配置された引出電極端子１４ｃと、荷電粒子源端子１４ａ、１４ｂと引出電極端子１４ｃを筐体１から絶縁する端子絶縁体１２と、引出電極４を支持し、引出電極４を筐体１から絶縁する引出電極絶縁体１３とを有し、端子絶縁体１２と引出電極絶縁体１３の少なくとも一方は、１０^６Ωｍ以上１０^１０Ωｍ以下の抵抗率を有する。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能でかつコストの低減が可能なビーム加工装置を提供すること。
【解決手段】ビーム加工装置は、ワーク２の加工を行うためのビームを出射するビーム出射源と、ワーク２に向けてビームを出射する出射部２５ａを有しビーム出射源からワーク２に向かうビームが通過するビーム通過部材２５と、ワーク２が固定される固定面６ａを有し所定方向へ移動可能な固定部材６と、３次元方向に変形可能にかつ中空状に形成され、ビーム通過部材２５が内部に配置される中空部材２３とを備えている。中空部材２３は、少なくとも、互いに接続される第１の中空部２６と第２の中空部２７とから構成されている。また、中空部材２３の一端には開口部３７が形成され、中空部材２３の一端は固定面に当接するとともに、中空部材２３の内部は真空状態とされる。 （もっと読む）

【課題】装置の簡略化および小型化を図ることができるイオンビーム分析装置を提供すること。
【解決手段】試料８にイオンビーム７を照射して、前記試料８から放射される放射エネルギーを検出するイオンビーム照射装置１であって、基端部から先端部に向かって先細となるように形成されて、その内周面側に到達した前記イオンビーム７を集光させるキャピラリー５と、前記キャピラリー５の外周面側および先端側を取り囲むとともに、前記試料８と当接させられる先端が、前記キャピラリー５の先端から前記試料８の側に向かって所定距離Ｌ離間するように構成されたキャピラリーガイド６とを備えている。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線装置における絶縁体への帯電を防止することである。
【解決手段】荷電粒子線装置１の帯電防止構造８であって、内部に荷電粒子線ＥＢを通過させる絶縁体８１と、前記絶縁体８１の少なくとも内周面８１ａに形成され、比抵抗値が１０^４Ω・ｃｍ〜１０^１０Ω・ｃｍである帯電防止膜８２と、を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 設置環境における外乱を検知することにより、その時点で得られる分解能が予めオペレータに知らせることのできる電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】 電子光学鏡筒１及び試料室２を備える装置本体１５と、装置本体１５の動作制御を行う制御システム１６とを有する電子顕微鏡において、装置本体１５が設置される環境の状態を検知するセンサ８〜１０が備えられており、各センサ８〜１０による環境の状態の検知結果に基づいて、制御システム１６が装置本体１５において観察可能な分解能を算出し、該分解能を表示することによりオペレータに通知する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、対物レンズの磁界や電極板の電界に吸い寄せられ、対物レンズ表面や電極板表面に付着した異物が試料観察時に試料表面に落下し付着することを防止することにある。
【解決手段】
上記目的を達成するために、走査電子顕微鏡の対物レンズ、或いは電子ビームを加速するための加速円筒への励磁電流、或いは印加電圧を、測定対象試料を対物レンズ下から離間させたときに、励磁電流をオフ、或いは離間させる前に比べて弱励磁、又は印加電圧をオフ、或いは離間させる前に比べて低電圧とする電子顕微鏡を提案する。 （もっと読む）

【課題】 膜を介して試料に電子線等の一次線を照射して試料検査を行う際に、該一次線の膜への照射による膜の損傷を検知し、これにより圧力差による膜の破壊を防止することのできる試料検査方法及び試料検査装置を提供する。
【解決手段】 膜４を介して試料５２０に一次線５０７を照射する手段５０１と、該一次線５０７の照射に応じて該試料５２０から発生する二次的信号を検出する信号検出手段５０４とを有する試料検査装置において、該一次線５０７の照射に応じて得られる該膜４の情報を検出する情報検出手段５０４と、検出された該膜の情報をモニタするモニタ手段５２２とを備える。 （もっと読む）

【課題】
電子ビーム描画装置において、試料ステージの案内および駆動機構に永久磁石を用いた場合における上記永久磁石からの漏洩磁場により電子ビーム軌道が影響を受けるのを防止すること。
【解決手段】
試料ステージ１６の案内機構にエアベアリングガイド等を用い、定盤１８上に浮上したステージ１６を永久磁石１７で定盤１８側に引き付けてステージ姿勢を保持する。永久磁石１７からの漏洩磁場が試料７上への電子ビーム４の照射位置に影響を及ぼすのを避けるために、永久磁石１７をシールド部材２１で磁気シールドする。また、電子レンズ５からの漏洩磁場中をシールド部材２１が移動することによって生じる試料７上方での磁場変動を小さく抑えるために電子レンズの下方にもシールド部材２２を設ける。 （もっと読む）

【課題】安価な材料を用いてパーマロイ等の高透磁率の軟磁性材料を用いたのと同様の磁気シールド性能を得ること、電子線に影響を与えることなく外部磁場を遮蔽することである。
【解決手段】電子線装置１を収容する鉄又は珪素鋼等の低透磁率の磁性材料からなるケーシング３と、当該ケーシング３（の側壁に）巻回され、電流Ｉが流されることにより当該ケーシング３を磁化する励磁コイル４と、を備え、前記励磁コイル４が、前記電子線装置１の電子線ＥＢに沿うように磁界を生じさせるものであり、さらに前記ケーシング３を磁気飽和しないように前記ケーシング３を磁化するものである。 （もっと読む）