【課題】本発明は、複数の傾斜方向からのビーム走査が可能な荷電粒子線装置において、高分解能の維持と、ステージ構造の簡素化の両立を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、試料の２つの移動方向に対し、垂直な方向に荷電粒子線光軸を有する第１の荷電粒子光学系と、試料ステージの移動方向に対し、傾斜した方向に荷電粒子線光軸を有する第２の荷電粒子光学系と、試料を真空雰囲気内に保持する試料チャンバと、真空雰囲気内にて回転させると共に、第１の荷電粒子光学系光軸と平行な回転軸を持ち、試料を回転する回転機構と、回転機構と試料ステージとの間で、当該試料を搬送する搬送機構を備えた荷電粒子線装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】質量分析器の内側表面をより広くクリーニングできるようにしたイオン注入装置のクリーニング方法及びクリーニング装置を提供する。
【解決手段】イオンビームを引出す引出し電極と、磁界により前記イオンビームの軌道を偏向させる質量分析器と、を備えるイオン注入装置のクリーニング方法であって、前記質量分析器の内側表面に前記イオンビームを照射する工程を含み、前記イオンビームを照射する工程では、前記引出し電極に印加する引出し電圧を変動させるとともに、前記磁界の強度を変動させる。 （もっと読む）

【課題】耐用年数を増加し、機器の停止時間を減少させるイオンビームを生成する方法および装置を提供すること。
【解決手段】イオン源（４００）の耐用年数は、反応性ハロゲンガス（ＦまたはＣｌ）を使用して、イオン源（４００）および引出し電極（４０５）のインサイチュでのエッチング洗浄の備えを有する供給源によって、ならびに洗浄間のサービス期間を延長する特徴を有することによって強化または延長される。後者は、正確な蒸気流制御、イオンビーム光学素子の正確な集束、および沈着物の形成を防止するか、または電極の破壊を防止する引出し電極の熱制御を含む。半導体ウェハ処理用のドーパントイオンを生成するためのイオン源から成る装置は、遠隔プラズマ源に結合され、このプラズマ源は、第１イオン源および引出し電極内の沈着物を洗浄することを目的として、第１イオン源にＦイオンまたはＣｌイオンを供給する。 （もっと読む）

【目的】本発明は、発生された粒子線ビームをレンズにより集束して細く絞って試料上に照射した状態で当該粒子線ビームを偏向器により偏向して平面走査する粒子線鏡筒に関し、粒子線鏡筒を金型によって作るので、量産できること、生産コストが低く、研削盤等によって精度を向上させ、従来の複数回の組立て誤差が無くなり、精度が上がるので、精密な粒子線鏡筒の各パーツの生産ができ、粒子線鏡筒を用いた高分解能用の顕微鏡は高分解能エネルギアナライザ等に適用ができる粒子線鏡筒を作成したり、粒子線鏡筒を透明な素材で作成し、利用者は粒子線ビームの走行状態などを直接に見ることを実現することを目的とする。
【構成】レンズを構成する軸中心に孔を有する複数毎の同軸円板からなるレンズ電極を軸に沿って半割りして一体作成した半割りレンズと、一体作成した半割りレンズの２つを、軸に沿って接合して作成したレンズとを備える。 （もっと読む）

【課題】コストを上昇させることがなく，且つ高速の振動にも追従することが可能な制振機能に優れたビーム照射装置を提供すること。
【解決手段】加速器より射出されるイオンビーム若しくは電子ビームを，電界及び／若しくは磁界による質量分離装置及びビーム収束装置を備えたビームラインを経てチャンバ中の試料に入射するビーム照射装置に関する発明であり，前記ビームライン中を通過するビームの前記試料に対する振れを直接または間接的に検出し，検出されたビームの試料に対する振れに基づいて振れを消去するように質量分離装置及び／若しくはビーム収束装置を制御するビーム照射装置。 （もっと読む）

【課題】 環境外乱による像移動に対する鏡筒各部の影響度を電子光学的観点から重み付けし、また慣性力によるモーメントを考慮して最も耐振性に影響を及ぼす部分の剛性を重点的に高める設計を行なうことにより、顕著に耐振性を向上させたＴＥＭを提供する。
【解決手段】 ポールピースから試料までのループ剛性を高めるため、外ヨークａ２５と内ヨーク２７をつなぐ補強フランジ３２と補強リング３３の２つの部材を配置する。２つの部材間はボルト３４による締結がなされ、それぞれの内ヨーク２７、外ヨークａ２５との接合部の全面を接着等により固定する。 （もっと読む）

【課題】 試料を有するカートリッジを受け取るように備えられたその場試料ホルダを用いた試料の交換、及び全体が取り外されるホルダを用いた試料の交換に適した荷電粒子光学系のより簡便な構成を提案する。
【解決手段】 たとえば電子顕微鏡のような荷電粒子光学系(100)は、操作用に多数の試料のうちの特別な1つを収容するための空間(104)を備えた真空チャンバ(102)を有する。当該荷電粒子光学系は、前記空間に対して出し入れできるように動かすことのできる部分(108)を備えた装着体(106)を有する。前記部分は、当該光学系外部から運ばれる試料キャリア(110)を第1ホルダ(112)へ取り付け、又は前記第1ホルダから前記キャリアを外して当該光学系内部から前記キャリアを取り外すように備えられている。前記キャリアは第1試料を収容する。当該光学系は、前記第1ホルダ又は上に第2試料がマウントされる第2ホルダを取り外し可能なように供するため、前記チャンバの壁内にインターフェースを有する。 （もっと読む）

【課題】電子顕微鏡において、電子線を照射している試料部へ蓄積していくコンタミネーションを軽減させるためベーキングが必要になった際に、大掛かりな電顕筐体の分解やメンテナンスを必要とせず、簡単かつ安全に、試料室回りのベーキングを実施できる機構を提供する。
【解決手段】好ましい１つ目の実施形態では、試料ホルダーの試料取り付け位置近傍に配し、付帯する試料駆動装置に挿入することで、筐体内の真空領域を保持したまま、対物レンズポールピース近傍に運び入れる発光源から、２つ目の実施形態では、試料室の主筒部材に既存する多目的アクセスポートに、装着可能なポート型部材内に配した発光源から、試料室周りの真空領域に面した部材表面に照射する。熱光線は、各部材の表面にて、反射、屈折、拡散して、領域内全体へ照射されるので、前記部材の表面温度を上昇させ、付着した残留分子を、真空領域に拡散させ、真空排気装置にて排出される。 （もっと読む）

【課題】試料を保持している膜の損傷が発生しても、鏡筒の先端部に配置された性能上重要な部分である対物レンズの内部の汚染を防止することができるとともに、鏡筒内での汚染部位を簡便に取り除くことができる粒子線装置を提供する
【解決手段】粒子線装置は、粒子線源と粒子線源からの粒子線が通過するための粒子線通過パイプとを有し、粒子線通過パイプを通過した粒子線を先端から放出する鏡筒と、鏡筒の先端と繋がる真空室とを備え、鏡筒から放出された粒子線を試料に照射する粒子線装置において、鏡筒の先端側に位置する粒子線通過パイプ内部に管状部材が着脱自在に配置されている。 （もっと読む）

本発明は、物質（１００，２００）を電子ビーム誘起エッチングする方法に関し、本方法は、少なくとも１種類のエッチングガスを、物体（１００，２００）に電子ビームが衝突する位置と同じ位置において、物体（１００，２００）に供給する方法ステップ、および、同時に、少なくとも１種類のエッチングガスによる自発的エッチングを減速または抑制するようにした少なくとも１種類のパッシベーションガスを供給する方法ステップを含むものである。 （もっと読む）