【課題】所定の材料を真空チャンバー内部の任意の箇所に正確に搬送する真空フィードスルーを提供する。
【解決手段】真空フィードスルー１０Ａは、パイプ１１とその内部空間に位置するシャフト１２とパイプ１１の外周面を長さ方向へスライド可能なマグネットスライダー１３とシャフト１２の後端部に取り付けたマグネットホルダーとを有し、パイプ１１の内部空間前端部に取り付けたシャフト１２を径方向中央に保持する固定ホルダーと、シャフト１２の後端部に取り付けたシャフトを径方向中央に保持する移動ホルダーとを含み、固定ホルダーは、シャフト１２の外周面をスライド可能に支持するスライドベアリングを備えた支持ハウジングを有し、移動ホルダーは、弾性変形可能なアームと、長さ方向へ回転可能なローラと、アームをパイプの内周面に向かって強制的に弾性変形させてローラをパイプの内周面に押し当てるテーパープラグとを有する。 （もっと読む）

【課題】試料室空間に突き出た対物レンズを有する構造であっても、磁気シールド機能を高めることが可能な電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】電子線を収束させて試料４に照射する対物レンズ６と、試料４を収納する試料室を形成する試料室容器５と、試料室容器５の内部に設けられた試料室磁気シールド７と、対物レンズ６の周囲を囲む筒形の対物レンズ磁気シールド８とを備える。試料室容器５の上部壁となる上板１０と試料室磁気シールド７の上部シールド９には、電子線の進行方向で対向する第１、第２の穴が設けられる。対物レンズ６は、上板１０に設けられた第１の穴の内側で保持される。対物レンズ６の下端は、上板１０の下端よりも低い位置に、かつ上部シールド９に設けられた第２の穴の位置またはこの位置に接近した位置に配置される。対物レンズ磁気シールド８は、第１の穴の内側に位置して、その下端が上部シールド９と接続される。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子線による描画動作に支障を与えることなく、ストッピングアパーチャに堆積される汚染物質を効率よく除去する。
【解決手段】 荷電粒子線描画装置は、荷電粒子線を偏向するブランキング偏向器１８と、前記ブランキング偏向器で偏向された荷電粒子線を遮断するストッピングアパーチャ１９と、前記ストッピングアパーチャに堆積された堆積物を分解する活性種を気体から生成するための触媒２４と、前記触媒に前記気体を供給する供給機構２５と、を備える。前記堆積物を除去する除去動作では、前記荷電粒子線描画装置は、前記供給機構によって前記気体を前記触媒に供給しながら、パターンを描画する描画動作では前記荷電粒子線が照射されない領域に前記荷電粒子線を照射することによって、少なくとも前記領域に位置する前記触媒によって前記気体から前記活性種が生成され、該生成された活性種により前記堆積物を分解して除去する。 （もっと読む）

【課題】精密機器が配設されたブース内の圧力の変動を防止して測定精度の低下を抑制しつつ、省エネをも実現できる温調装置を提供する。
【解決手段】精密機器Ｆが配設されたブース１内に温調用空気Ｐを供給して温調する温調手段２の運転を制御する制御手段３を備えた温調装置Ｅにて、ブース１内の圧力Ｋ₁を検出する圧力検出手段９をブース１内に備え、温調手段２が温調用空気Ｐをブース１内に送り込む送風手段４を備え、制御手段３が、送風手段４を運転させてブース１内に温調用空気Ｐを送り込みブース１内の圧力Ｋ₁を大気圧Ｋ₀よりも大きな圧力にし、精密機器Ｆの運転開始時ｔ１又は運転開始前に圧力検出手段９によりブース内１の圧力Ｋ₁である基準圧力Ｋ_1aを検出させ、送風手段４の運転を制御して、精密機器Ｆの運転開始時ｔ１から運転停止ｔ２までの間、ブース１内の圧力Ｋ₁を基準圧力Ｋ_1aに維持する。 （もっと読む）

【課題】 観察対象物に加工を施すことなく現状状態そのままでの観察を可能とする走査型電子顕微鏡の提供。
【解決手段】 鏡筒の開口先端部に観察対象物と接触させるシール部材を設け、真空ポンプにより鏡筒内が真空に引かれた場合にシール部材を介して当該鏡筒に観察対象物を吸着させ、鏡筒を観察対象物に直接接触させた状態で密着固定するようにした。すなわち、試料室がないかわりに吸着により観察対象物と鏡筒とが相対的に移動しないように密着固定させる。こうすると、試料室がないにも関わらず、鏡筒内を真空状態に確保することができ、また振動により鏡筒と観察対象物とは相対的に移動しないことから観察時の悪影響が生じない。こうして鏡筒を観察対象物に対し直接マウントすることで、従来では試料室に入りきらない観察対象物であっても加工を施すことなく現状状態そのままで観察を行うことができるようになる。 （もっと読む）

【課題】 偏向器アレイに含まれる電極に電位を与えるデバイスの少なさの点で有利な描画装置の提供。
【解決手段】 複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、前記複数の荷電粒子線を偏向するための偏向器アレイと、前記偏向器アレイに対して複数の電位をそれぞれ与える複数のデバイスと、前記偏向器アレイに含まれる複数の電極のそれぞれを前記複数のデバイスのいずれかに接続し、かつ、前記複数の電極のうち与えられる電位が等しい電極どうしを接続する接続部と、を有し、前記複数のデバイスに含まれるデバイスの数が前記偏向器アレイに含まれる電極の数より少ない、描画装置とする。 （もっと読む）

【課題】従来、防音カバー、特にクリーンルームで用いられる防音カバーにおいて、環境騒音によってもたらされる騒音の周波数を想定し、当該周波数に特化した構造によって騒音を吸収するものはなく、効率的に吸音を行うことができなかった。
【解決手段】そこで、荷電粒子線装置の持つ固有振動数を基準とする第一の周波数領域に対して吸音性能が特化した第一の吸音体と、カバー内に発生する音響定在波の周波数を基準とした第二の周波数領域に対して特化した第二の吸音体のどちらか一方、或いはその両方を荷電粒子線装置のカバー内に対して設けることを特徴とする荷電粒子線装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】
試料へのダメージが少なく加工効率に優れたイオンミリング装置、更には平面加工および断面加工にも柔軟に対応できる処理能力の高い装置を提供する。
【解決手段】
個別に制御可能な複数のイオン銃3を一つ試料室5に設け、このイオン銃3に対応して複数の試料1を試料ステージ8に設置する。複数のイオン銃3および試料ステージ8は制御装置９によって個別に制御可能であり、複数のイオン銃3を同時に作動させ、試料ステージ8をスイング又は傾斜・回転するすることで、複数の試料を同時に平面加工もしくは断面加工する。 （もっと読む）

【課題】 イオンビームを試料に照射してミリングを行う際、試料におけるイオンビームの照射面を直接冷却することができるイオンミリング装置とイオンミリング方法とを提供する。
【解決手段】試料Sが設置される試料台1と、試料Sに照射するイオンビームを発生させるイオン源2と、試料台1の収納空間を所定の真空に保持する試料チャンバ3と、試料Sを冷却するための気体冷媒を試料チャンバ3内に供給する冷媒供給手段5とを備えるイオンミリング装置である。気体冷媒を試料チャンバ内に供給することで、試料Sにおけるイオンビームの照射面を直接気体冷媒で冷却することができる。 （もっと読む）

【課題】ユーザーの要求する性能を備えた、コンパクト且つ安価な除振装置を提供する。
【解決手段】定盤を支持するトッププレート１１と、床に載置されるベースプレート２１と、トッププレート１１とベースプレート２１との間でこれら両板に取り付けられ、精密機器の載置される定盤を床に対してコイルばね１３により除振支持するばねユニット３と、を備えた除振装置１である。鉛直加速度センサ１５と鉛直ＶＣＭとがモジュール化された鉛直ユニット５、及び／又は、水平加速度センサと水平ＶＣＭとがモジュール化された水平ユニット７を、トッププレート１１とベースプレート２１との間の空間に収まるように、トッププレート１１に対して着脱することが可能に構成されている。 （もっと読む）