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国際特許分類[H01J37/28]の内容

国際特許分類[H01J37/28]に分類される特許

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【課題】使い勝手良く試料を荷電粒子技術及び光学技術にて的確に検査又は観察することが可能な検査装置、観察装置が提供される。
【解決手段】荷電粒子照射部から放出された一次荷電粒子線が試料に到達する間の少なくとも一部の領域となる真空状態に維持可能な第一空間の少なくとも一部を形成する第一の筐体と、該第一筐体に具備され前記試料を格納可能な第二空間の少なくとも一部を形成する第二筐体と、前記荷電粒子照射部から照射された一次荷電粒子線が試料上に照射する際の前記荷電粒子照射部の同軸上に配置され、前記第一空間と前記第二空間とを隔てる隔壁部と、前記試料に対し光を照射し、前記荷電粒子照射部と同方向から前記試料からの光を検出する光学式観察部と、を備える検査又は観察装置が提供される。 (もっと読む)


【課題】偏向位置によって電子ビームのショット形状が歪むのを抑制できる荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】電子ビーム描画装置100は、主偏向非点の補正とともに、XY差も補正して得られた偏向電圧を、主偏向器208と副偏向器209に印加し、試料216上に所望のパターンを描画する。このため、電子ビーム描画装置100には、主偏向器208に印加する偏向信号の補正量を算出する主偏向補正量演算部122と、副偏向器209に印加する偏向信号の補正量を補正する第2の補正量を算出する副偏向補正量演算部123と、第1の補正量を用いて主偏向器208に印加する偏向信号を生成し、第2の補正量を用いて副偏向器209に印加する偏向信号を生成する偏向信号生成部124とを有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、アスペクト比の大きなパターンの測定を実現することが可能な荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、荷電粒子源から放出された荷電粒子線を試料に走査することによって、当該試料から放出される荷電粒子の検出に基づいて、前記試料の画像を形成する荷電粒子線装置であって、前記試料の高さと、前記試料に対する予備帯電条件を関連付けて記憶する記憶媒体を備えた制御装置を備え、当該制御装置は、所望の試料高さの指定に基づいて、当該指定された試料高さに対応する予備帯電条件による予備帯電を実施する荷電粒子線装置を提案する。 (もっと読む)


【課題】半導体製造工程におけるプロセスマージン評価において、人手による作業負担を軽減すること。
【解決手段】ウェーハ上の観察対象の画像から得られた情報に基づいて前記観察対象の良否を自動的に判定し、判定結果を画面に表示するステップ402、観察対象の良否をユーザの指示に基づき修正することが必要な観察対象を判定結果の中から抽出して表示するステップ403、抽出して表示された観察対象に対する判定結果をユーザの指示に基づき修正する処理するステップ404を実行する。 (もっと読む)


【課題】ウェハ検査において異物や欠陥を見つけた場合に、これら異物等の発生原因を探求するための電子顕微鏡を用いたウェハエッジ観察に関する好適な方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェハWFを保持する試料ステージ24と、半導体ウェハに電子線を照射する電子光学系18〜22と、当該電子線の照射により得られる二次電子あるいは反射電子を検出する検出器15,23と、傾斜可能なカラム16とを備え、半導体ウェハのエッジ上におけるレシピあるいは位置情報に従って定まる位置に、試料ステージ24によってカラム8の撮像視野を移動し、半導体ウェハのエッジにカラム16を傾斜させた状態で電子線を照射して走査電子顕微鏡画像を撮像する。 (もっと読む)


【課題】大気圧空間と減圧空間とを分離するための薄膜周辺部の構成最適化することによって、試料6を大気雰囲気あるいはガス雰囲気で観察することが可能な荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】第一の筐体7を排気する真空排気ポンプ4と、第一の筐体7内で、照射により得られる荷電粒子線を検出する検出器3と、少なくとも第一の筐体7若しくは第二の筐体8のいずれかの一部か、若しくは別体として構成され、第一の筐体7内と第二の筐体8内との間の少なくとも一部を隔てる薄膜13と、薄膜13に設けられ、荷電粒子照射部側の開口面積が試料6側の開口面積よりも大きい開口部10aと、開口部10aの試料6側を覆い、一次荷電粒子線及び荷電粒子線を透過あるいは通過させる薄膜13と、を備える荷電粒子線装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】FIB鏡筒とSEM鏡筒を直角に構成した装置において、観察している試料の位置関係を作業者が把握しやすいFIB像とSEM像を表示すること。
【解決手段】FIB鏡筒1と、FIB鏡筒1と略直角に配置されたSEM鏡筒2と、試料4を載置する試料ステージ3と、試料4から発生する二次粒子を検出する二次電子検出器5と、検出信号からFIB像とSEM像を形成する観察像形成部15と、FIB像内の試料の左右の向きとSEM像内の試料の左右の向きが同じであるFIB像とSEM像を表示する表示部9と、を有する複合荷電粒子ビーム装置を用いる。 (もっと読む)


【課題】 試料内複数点の測定時に生じる像ドリフトを低減する。
【解決手段】 測長画像の取得後に測長画像取得より低倍走査での電子ビーム照射により除電を行う。その際に、走査領域が20μm角以上、200μm角以下の倍率に設定される。 (もっと読む)


【課題】直交に配置された2つの荷電粒子ビーム鏡筒を有する装置において、試料ステージ移動の操作性向上を図る。
【解決手段】集束イオンビーム鏡筒4と、それと直交する電子ビーム鏡筒5と、試料11を移動させる試料ステージ2と、試料11を観察する光学顕微鏡14と、集束イオンビーム像及び電子ビーム像並びに光学顕微鏡像を表示可能な表示部9,10と、各像の座標系に合わせて試料ステージ2を移動させるステージ制御部3と、を有する複合荷電粒子ビーム装置を用いる。 (もっと読む)


【課題】低プローブ電流であっても、反射電子と二次電子とを弁別検出できる低加速の走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】
電子銃29と、アパ−チャ26と、試料台3と、電子線31を試料2上に収束するための電子光学系4−1と、偏向手段10と、二次電子検出器8、反射電子検出器9と、電子銃29と試料2の間となる位置に筒状の電子輸送手段5を備え、反射電子検出器9は電子輸送手段5の内部であって、二次電子検出器8及び偏向手段10よりも電子銃29に対して遠方側に設置され、反射電子検出器9の感受面9−1は電子輸送手段5と同電位となるように電気的に配線されている。 (もっと読む)


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