【課題】試料に断面を形成した後、試料ステージの移動等の動作を行うことなく、直ちに当該断面についての断面情報を取得することのできる試料解析装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム鏡筒７と、イオンビーム鏡筒１７と、制御手段２５，２３とを備え、イオンビーム１５の照射により試料９が切削加工され、これにより露出された試料９の断面を解析対象面として該断面に電子ビーム５を照射し、これによる試料９の断面情報を検出する試料解析装置において、電子ビーム５の光軸６に直交する面に対して所定の傾斜角度となる断面が試料９に形成されるように、試料９へのイオンビーム照射時におけるイオンビーム走査のスキャンローテーション量が制御部２５，２３により設定可能とされ、該スキャンローテーション量に基づくイオンビーム走査により試料９に形成された断面に対して正面側に、試料９の断面情報を検出するための検出器９が配置されている。 （もっと読む）

【課題】位相差像におけるアーティファクトを低減することが可能な位相板を提供する。
【解決手段】位相板１００は、第１面１０ａと、第１面１０ａとは反対側の第２面１０ｂと、を有する第１電極層１０と、第２面１０ｂと対向する第３面１２ａと、第３面１２ａとは反対側の第４面１２ｂと、を有する第２電極層１２と、第４面１２ｂと対向する第５面１４ａと、第５面１４ａとは反対側の第６面１４ｂと、を有する第３電極層１４と、少なくとも第１電極層１０の第１面１０ａに形成された被覆層２０と、を含み、第１電極層１０、第２電極層１２、および第３電極層１４は、透過波W１の上流側から第１電極層１０、第２電極層１２、第３電極層１４の順に配置され、貫通孔２を有する積層体として形成され、被覆層２０の材質は、タンタル、タングステン、レニウム、またはモリブデンである。 （もっと読む）

【課題】 電子線の遮断による像情報の欠落の問題を低減し、かつ電位分布が異方的となる問題を改善した、電子顕微鏡に用いる位相板を提供する。
【解決手段】 一つにつながった開口部２３を持ち、開口部に、開口部の外郭部から開口部中心へ向かう複数の電極１１を配置する。それぞれの電極１１の断面は、導体もしくは半導体でなる電圧印加層２４を、絶縁層２５を介して導体もしくは半導体からなるシールド層２６で覆った構造とする。これにより、電極１１による電子線遮断を低減し、さらに電位分布が異方的となる問題を改善する事が可能な位相板を構成する。 （もっと読む）

【課題】安定で、かつ高分解能の位相差電子顕微鏡像の取得が可能な位相板及びその製造方法、並びに位相差電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】開口部を有する支持体１２上に、その開口部１２ａの少なくとも一部を覆うように、例えば非晶質炭素などからなる導電性の芯位相板１１が担持されると共に、裏面及び開口部を覆うように、例えば非晶質炭素などからなる導電性強化薄膜１３を形成して位相板１０とする。その際、導電性強化薄膜１３は、斜め方向から膜材料を飛来させて形成する。そして、この位相板１０を、位相差電子顕微鏡の対物レンズ及び試料を通過した電子の通路に配置する。 （もっと読む）

【課題】ノイズなどを含む不完全な回折パターンに対しても、オリジナルに近い実像を再構成することができる、フーリエ反復位相回復法を提供する。
【解決手段】フーリエ反復位相回復法の基本アルゴリズムによって得られる複数の計算結果をもとに、フーリエ空間の振幅に対して平均操作を行い、得られた振幅平均を新たな振幅とし、この新たな振幅をもとにして前記基本アルゴリズムを適用し、位相を求める。 （もっと読む）

【課題】 透過型電子顕微鏡で、微弱な素子内部の磁化分布や電場分布、及びその変化の観察、素子配置の周期性の解析などを実施するために、これらの電磁場から電子線が受ける偏向を高精度で検出し、電子回折像として観察可能とする。
【解決手段】 従来、短焦点距離で使用されてきた試料３直下の第１段目（電子線の進行方向で試料の下流側第１段目）の電子レンズを、長焦点距離対物レンズ５１として用いることにより、照射レンズ系４１，４２により結像された光源の像１１を、結像レンズ系６１〜６４の物面に結像させ、実効的に試料の回折像を拡大し、１０^−６ｒａｄ程度の小散乱角電子線の回折像の観察を可能ならしめる。 （もっと読む）

【課題】透過型電子顕微鏡おいて、光学素子をセンタリングする際にコントラスト向上素子の汚染や損傷を防止する方法の実現。
【解決手段】透過型電子顕微鏡５００の複数の光学素子を用いることにより非散乱電子ビームを偏向して、回折平面に配置されたコントラスト向上素子５１８に該電子ビームが照射されないように調節する。更に、該電子ビームを逆戻りに偏向する事により再び光軸に戻すように調整して光学素子のセンタリングを行う。 （もっと読む）

【課題】電子回折断層撮影の方法を提供する。
【解決手段】当該発明は、透過電子顕微鏡における電子回折断層撮影のための方法を記載する。知られた方法は、走査透過電子顕微鏡を使用することを伴うと共に、ＳＴＥＭの回折の走査されたビームを使用する。当該発明は、結晶と比べてわずかにより大きい直径を備えた静止のビーム（２００）で回折パターンを形成することを提案するが、それの結果としてＳＴＥＭユニット無しのＴＥＭは、使用されることができる。結晶を見出すことは、ＴＥＭのモードにおいてなされる。当該発明に従った方法の利点は、走査するユニット無しのＴＥＭが、使用されることができると共に、全体の結晶が、回折パターンを得る一方で、照明される際に、回折のボリュームが、結晶の配向に依存するものではないというものである。 （もっと読む）

【課題】 印加電圧当たりの電子線の偏向角が大きな電子線バイプリズムを提供する。
【解決手段】 光軸方向に電子線バイプリズムのフィラメント電極を多段に重ねることにより、それぞれのフィラメント電極がもつ偏向の効果を重ね合わせ、全体として電子線に大きな偏向角を与える。 （もっと読む）

【課題】純粋な透過情報を得ながら、観察領域に自由度を与え、さらに最適化した照射条件により、精度の高い干渉像を高い倍率で得ることを目的とする。
【解決手段】電子源１から発せられた電子線は収束レンズ3の下に配備されたバイプリズム１１によって分離され、試料を透過する電子線６、真空を通過する電子線７として対物レンズ４に入る。電子線は、対物レンズ４の前磁場で曲げられ、試料位置と真空をそれぞれ適当な距離はなれた状態で、平行ビームにて照射する。 （もっと読む）