【課題】 膜の評価方法及び強誘電体メモリの製造方法に関し、表面に凹凸の多い薄膜の膜厚等をＸ線反射率法により精度良く測定する。
【解決手段】 膜を構成する結晶粒の平均粒径が２００ｎｍ以上、或いは、平均粒径が２００ｎｍ以上の結晶粒同士の一部が融合した融合結晶粒を含む被膜を被測定膜の表面に成膜する工程と、前記被膜及び前記被測定膜にＸ線を照射する工程と、前記被膜及び前記被測定膜から反射したＸ線の強度を測定してＸ線反射率法によって前記被測定膜の少なくとも膜厚を測定する工程とを設ける。 （もっと読む）

【課題】強誘電体キャパシタの強誘電体膜の上面および上部電極の上面が平坦であり、かつ、強誘電体キャパシタの分極状態を低電圧で変化させることができる半導体記憶装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体記憶装置は、半導体基板と、半導体基板上に設けられた複数のトランジスタと、複数のトランジスタを被覆する層間絶縁膜と、層間絶縁膜上に設けられ、下部電極と上部電極との間に設けられた強誘電体膜を含む複数の強誘電体キャパシタとを備え、強誘電体膜は、Ｐｂ_ｘ（Ｚｒ_ｙ，Ｔｉ_{（１−ｙ）}）Ｏ_３（以下、ＰＺＴ）（ｘ、ｙは正数）からなり、その表面に突出部を有し、突出部の下にある前記強誘電体膜の底部の鉛濃度は、ＰＺＴの化学量論的組成の鉛濃度よりも高く、かつ、強誘電体膜の表面のＰＺＴの鉛濃度は、ＰＺＴの化学量論的組成の鉛濃度以下である。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の高集積化と供に、メモリ装置のキパシタで容量値の確保のために、酸素欠損のない高誘電率膜を形成する装置の製造方法を提供する。
【解決手段】誘電体膜を形成する工程と、酸化性ガスを供給して誘電体膜に対して酸化処理を行う工程を複数回、断続的に繰り返す熱処理工程と、を有する誘電体膜を備えた半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】圧電体の上部電極端面の近傍部分における電荷集中と応力集中が緩和され、耐久性に優れた圧電素子を提供する。
【解決手段】本発明の圧電素子１は、圧電体３０と、圧電体３０に電界を印加する下部電極２０及び上部電極５０とを備えた素子であり、上部電極５０はパターン形成されており、上部電極５０の端部５０Ｅの領域は、圧電体３０への電界印加時に、圧電体３０の中心側から外周面側に向けて圧電体３０にかかる電界強度が徐々に低下する構造を有している。 （もっと読む）

Ｐｂ_{１．００＋ｘ}（Ｚｒ_０．５２Ｔｉ_０．４８）_{１．００−ｙ}Ｏ_３Ｎｂ_ｙ（式中、ｘ＞−０．０２且つｙ＞０）の組成を有する圧電アクチュエータが記載される。この圧電材料は、アクチュエータにバイアスを印加した際に良好な屈曲作用を呈することができるペロブスカイトを有しうる。
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【課題】容量素子の酸素雰囲気中での焼結を制限を設けず実施した場合も、スタックコンタクトの信頼性や製造歩留まりを向上できる半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置は、半導体基板1と、その上に形成された第１の層間絶縁膜1,2および第２の層間絶縁膜3,4,5と、第１の層間絶縁膜1,2中に形成された第１のプラグ8bおよび第２のプラグ8aと、第２の層間絶縁膜3,4,5中に形成され第１のプラグ8bと接続された容量素子たるメモリセル30と、第２の層間絶縁膜3,4,5中に形成され第２のプラグ8aと接続された第３のプラグ19とを備え、第２のプラグ8aの中央部の上面は第１の層間絶縁膜1,2の上面よりも半導体基板1側に位置するように構成する。 （もっと読む）

【課題】 配向の揃った強誘電体膜を下部電極上に形成することが可能な、強誘電体キャパシタを備えた半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 半導体基板１０上に下部電極形成用の貴金属膜３１を形成し、貴金属膜３１に酸処理を施すことにより該貴金属膜の表面を酸化する。その後、酸化された貴金属膜表面上に強誘電体膜３２を成膜し、該強誘電体膜を結晶化する。好ましくは、酸処理の後に、半導体基板上に残留した酸を乾燥させることなく水で置換し、且つ半導体基板上に残留した水を乾燥させることなくＩＰＡで置換する。 （もっと読む）

【課題】
磁気結合された強磁性体と反強磁性体との結合および交換バイアスを使用して２進および多状態の磁気メモリ装置を提供する磁気材料および方法。
【解決手段】
本出願では、強磁性層とこれに隣接する反強磁性層との磁気結合によって発生する磁気交換バイアスに基づいて高密度の磁気記憶を実現するための技術、材料、装置を開示する。この磁気結合を使用すると、２進の磁気メモリ装置を安定させ、多状態の磁気メモリ装置を構成することができる。 （もっと読む）

【課題】 磁気記憶層、基準層及び基準層と記憶層の間に挿入された絶縁層から成る磁気トンネル接合部と、磁気トンネル接合部の一方の端を第一の選択用トランジスタと横方向に接続する第一のストラップ部分とを有する、熱アシストスイッチング書込手順による磁気ランダムアクセスメモリ（ＭＲＡＭ）の記憶素子である。
【解決手段】 この記憶素子には、第一のストラップ部分と逆側に延びるとともに、磁気トンネル接合部の前記の一方の端を第二の選択用トランジスタと横方向に接続する第二のストラップ部分が更に設けられており、これらの第一と第二のストラップ部分は、第一と第二の選択用トランジスタを介して電流が流れるように構成されている。ここで開示した記憶素子の電気消費量は、従来のＭＲＡＭ記憶素子よりも少ない。 （もっと読む）

【課題】複数の出力電圧のバラつきを低減可能なスピン流回路を提供する。
【解決手段】スピン流回路は、スピン流を発生する第1スピン注入素子ＳＩＥと、第1スピン注入素子ＳＩＥにおいて発生したスピン流が流れる非磁性のチャンネル層５Ａと、チャンネル層５Ａ上の異なる位置に設けられた複数の磁化自由層４，６と、チャンネル層５Ａとそれぞれの磁化自由層４，６との間に介在するトンネル障壁１９Ｂ，１９Ｃとを備えている。それぞれの磁化自由層４，６とチャンネル層５Ａの間の電圧が、それぞれ検出される。各フリー層４，６とチャンネル層５Ａとの間にトンネル障壁１９Ｂ，１９Ｃを介在させておくことで、各フリー層４，６とチャンネル層１９Ｂ，１９Ｃとの間の出力電圧のバラつきを低減させることができる。 （もっと読む）