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国際特許分類[H01L33/00]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 半導体装置,他に属さない電気的固体装置 (445,984) | 光の放出に特に適用される少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有する半導体装置;それらの装置またはその部品の製造,あるいは処理に特に適用される方法または装置;それらの装置の細部[2,8,2010.01] (19,444)

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【課題】
白色発光素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
白色発光素子(LED)及び、有機蛍光体が溶解され、無機蛍光体が分散されたポリマー樹脂にてLEDを被膜してなる製造方法は白色LEDを作り出し、それによって、ポリマー樹脂との相溶性の問題を生み出すことなく優れた輝度と色座標を実現する。
本発明は、有機及び無機蛍光体、有機及び無機混合蛍光体、及び、有機シリケートを含有するポリマー組成物を用いて高輝度で長い耐用年数を有する白色LEDを作り出し、既存素子の製造プロセスにさらなるプロセスを追加することなしに輝度及び信頼性に関して画期的な進歩を生み出し、それによって、コスト削減による価格競争力の達成を可能とする。 (もっと読む)


【課題】 半導体素子を封止する封止体の量を常に一定にした発光装置を提供すること。
【解決手段】 半導体素子と、半導体素子を載置するステムと、半導体素子を覆う封止体と、を有し、ステムは半導体素子が載置される底面と側面を持つ第1の凹部が形成されており、さらに第1の凹部の外側に第2の凹部が形成されており、第1の凹部と第2の凹部は、第1の凹部の側壁により互いに分離されている半導体装置に関する。ステムの第1の凹部内に樹脂を注入すると余分な樹脂が溢れ出て、第2の凹部内に溜まり、第1の凹部内には常に一定量の封止体が配置されることとなる。 (もっと読む)


【課題】 発光層の材料をInGaNとした紫外線発光素子の構造を最適化することによって、より高出力で長寿命の紫外線発光素子を提供すること。
【解決手段】 結晶基板Sの表面に凹凸1Sを加工し、該凹凸に、GaN系半導体低温バッファ層1を介してまたは直接的に、GaN系結晶層2を気相成長させる。該GaN系結晶層は、前記凹凸の凹部内を実質的に充填しかつ該凹凸を埋め込んで平坦化するまで成長させ、その上に、紫外線を発生し得る組成のInGaN結晶層を発光層として成長させて、紫外線発光素子とする。 (もっと読む)


【課題】 長波長紫外線発光ダイオード及び自己発光型液晶ディスプレイなどに適用され色純度の改善を可能とし発光効率を高める。
【解決手段】 Sr2−SiO4:Eu2+x(0.001≦x≦1)と表示されるストロンチウムシリケート系蛍光体及びその製造方法。
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部品用アッセンブリシステムは、長手方向に細長いテープキャリアと、長手方向に細長いサブマウントキャリアと、アッセンブリマシンとを含んで設けられている。複数の部品は、テープキャリアに取り付けられる。そのアッセンブリマシンは、部品が取り付けられた状態でそのテープキャリアを収容し、そのサブマウントキャリアを収容するようにしたものである。さらに、そのアッセンブリマシンは、そのサブマウントキャリアにごく接近してテープキャリアを動かし、そのサブマウントキャリアにおけるサブマウントに部品を取り付けるようにしたものである。
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フリップチップ(210)をプリント配線板(230)に装着する方法を提供する。バンプが形成された光電子、又は電気機械フリップチップ(210)を提供する。フリップチップ(210)の第一の部分(250)にアンダーフィル材(240)を塗布し、フリップチップ(210)の第二の部分(260)はアンダーフィル材(240)を有さない。このフリップチップ(210)をプリント配線板(230)上に配置して、同フリップチップ(210)のバンプ形成部分を加熱することによってフリップチップ(210)をプリント配線板(230)に電気接続する。フリップチップ(210)がプリント配線板(230)に電気接続される際に、フリップチップ(210)の第二の部分(260)は、アンダーフィル材(240)を有さない状態に維持される。
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成長用基板(例えばInP基板)を基板支持具により保持し、有機金属気相成長法により前記成長用基板上に3元素または4元素からなる化合物半導体層(例えばInGaAs層、AlGaAs層、AlInAs層、AlInGaAs層等のIII−V族化合物半導体層)を成長させるエピタキシャル成長方法において、基板の有効利用領域全体にわたって、(100)方向からの傾斜角度が0.00°〜0.03°、または0.04°〜0.24°となるように研磨し、該成長用基板を用いて基板上に前記化合物半導体層を0.5μm以上の厚さで形成するようにした。
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発光半導体基板2のAlGaInPから成るn型半導体層11の表面に遷移金属層を介してAu層を設ける。GaとAuとの共晶点よりも低い温度の熱処理によってAuを遷移金属層17を介してn型半導体層11に拡散させ、20〜1000オングストロームの厚みを有し且つ光吸収率の小さいオーミックコンタクト領域4を形成する。遷移金属層及びAu層を除去し、n型半導体層11及びオーミックコンタクト領域4の表面にAlから成る導電性を有する光反射層5を形成する。光反射層5に第1及び第2の接合金属層6,7を介して不純物がドープされたSiから成る導電性支持基板8を貼り合せる。
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半導体発光デバイスは、発光面を有する半導体発光素子と、発光面の少なくとも一部の上に設けられた、透過性シリコーン及び蛍光体を含むパターニング可能な皮膜とを備える。パターニング可能な皮膜は、透過性シリコーン及び蛍光体を含む光パターニング可能な皮膜でもよいし、かつ/又は印刷可能な皮膜でもよい。パターニング可能な皮膜は、その内部に発光面の一部を露出させる開口を備え、開口内の発光面上にボンドパッドが設けてある。ボンドパッド上にワイヤボンドを設けることができる。これに関連する、半導体発光デバイスを作製する方法も提供する。
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効率の高いIII族窒化物発光ダイオードを開示する。このダイオードは、半導体及び導体材料からなる群から選択した基板と、基板の上又は上方にあるIII族窒化物発光領域と、発光領域の上又は上方にあり炭化珪素を含有するレンズ状表面とを含む。 (もっと読む)


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