【課題】 これまでの有機ＥＬ封止に用いられた方法では、有機ＥＬ素子の性能を低下させる水分を除くために、封止材に除湿材或いは吸湿材等の水分を除去するための物質を添加したり、除湿性の保護膜等で素子を保護する等の手段を講じなければならなかった。そこで、本発明の課題は、水分を除去するための物質を添加する必要のない有機ＥＬ素子封止材を提供することにある。
【解決手段】 下記式（１）


（式中、Ｒ_１は、水素原子又は炭素数１〜２のアルキル基、Ｒ_２は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表わす。）
で表される繰り返し単位を３０モル％以上含む樹脂からなる有機ＥＬ封止材により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】バースト調光を行う発光素子点灯回路において、発光素子からの可聴音の発生を抑えた発光素子点灯回路を提供する。
【解決手段】本発明の発光素子点灯回路は、調光レベルを設定するコントローラから入力される調光信号に応じたデューティ比のＰＷＭ調光信号によって発光素子を調光する発光素子点灯回路であって、基本周波数と該基本周波数の整数倍の周波数とを用いてそれぞれ表される交流波信号の総和演算によって前記ＰＷＭ調光信号を生成するＰＷＭ調光信号生成部（２４）を備え、前記ＰＷＭ調光信号生成部は、前記発光素子入力される交流波信号の周波数と前記発光素子から発せられる音圧レベルとの相関スペクトルにおいて可聴域で音圧レベルが最大となる時の周波数以上の周波数を前記基本周波数として用いる。該構成を採用することで、発光素子から発生する可聴音圧レベルを低くできる。 （もっと読む）

【課題】通常発光時における最大輝度よりも高輝度で有機ＥＬ素子を発光させることが可能な表示装置の製造方法等を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子１３と駆動トランジスタ１１８からなる直列回路、容量素子１２３、グラウンド線ｇｎｄおよび電源線１２０を備え、グラウンド線ｇｎｄが直列回路における駆動トランジスタ１１８のソース電極側の端部に電気的に、電源線１２０がドレイン電極側の端部にそれぞれ電気的に接続された表示装置の製造方法において、グラウンド線ｇｎｄの電位を、ゲート電極とソース電極間の電圧が通常発光時よりも高くなるような電位にすることにより、容量素子１２３を通常発光時よりも高い電圧で充電する充電工程と、充電工程において充電された容量素子１２３の充電電圧に基づき、有機ＥＬ素子１３を通常発光時における最高輝度よりも高輝度で発光させる高輝度発光工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】外光反射が防止され、光取り出し効率を向上させて画面の明るさを向上した有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供する。
【解決手段】少なくとも構成要素として、保護フィルム１８、偏光子１７、λ／４位相差フィルム１６、中間層１４，１５、粘着剤層Ａ１３及び有機エレクトロルミネッセンス素子Ｅをこの順に有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置Ｄであって、前記中間層１４，１５の平均屈折率が、前記有機エレクトロルミネッセンス素子Ｅの表面層の平均屈折率より０．０１以上高く、前記λ／４位相差フィルム１６の平均屈折率より０．０１以上低いことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置Ｄ。 （もっと読む）

【課題】高アスペクト比、高精細の障壁を備えた蛍光体基板を提供する。
【解決手段】本発明の蛍光体基板１は、基板２と、基板２上に設けられ、入射された励起光により発光する蛍光体層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと、蛍光体層の側面を囲む障壁４と、を備え、蛍光体層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと障壁４とを有する第１の領域Ｍ１と、第１の領域Ｍ１の外側に位置する第２の領域Ｍ２と、を備え、第２の領域Ｍ２には、第１の領域Ｍ１に形成された障壁４を構成する全ての部材あるいは一部の部材で形成された構造物５が設けられ、障壁４と構造物５の少なくとも一部とが連続体をなしている。 （もっと読む）

【課題】 有機化合物層の上にマスク層を形成し、マスク層に被覆されていない領域をドライエッチングにてパターニングする有機ＥＬ装置の製造方法において、電荷注入層が有機化合物からなる場合、エッチングガスに曝されて電荷注入層の表面が分解され、電荷注入性が低下する恐れがある。
【解決手段】 有機化合物層のパターニングに用いるエッチングガスに対するエッチングレートも小さく、エッチングガスに曝されても分解されない無機化合物で電荷注入層を形成することにより、電荷注入性を低下させずに有機化合物層のパターニングを可能とする。 （もっと読む）

【課題】透光性電極層、複数の散乱層からなる散乱層積層体、透光性基板が積層された電子デバイス用基板であり、基板内での多重反射を抑制し、光取り出し効率を高めることを目的とする
【解決手段】透光性基板と、前記透光性基板上に設けられ、屈折率が異なる複数の散乱層からなる散乱層積層体と、前記散乱層積層体上に設けられる透光性電極層とが積層され、前記透光性電極層、前記散乱層積層体、前記透光性基板の順に屈折率が低くなっており、前記散乱層積層体を構成する複数の散乱層は、透光性電極層側から順に、散乱層毎に屈折率が漸次低減するように構成されていることを特徴とする電子デバイス用基板を提供する。 （もっと読む）

【課題】透光性基板、散乱層、被覆層、透光性電極層が積層された電子デバイス用基板であり、散乱層界面での全反射を抑制することによって、光取り出し効率を高めることを目的とする
【解決手段】透光性基板、散乱層、被覆層、透光性電極層が積層された電子デバイス用基板の製造方法であって、
（ａ）透光性基板上に、散乱層の原料と、前記散乱層の原料の焼成温度で消失する球状樹脂との混合物を配置、焼成して散乱層を形成する工程、
（ｂ）前記（ａ）工程で形成した前記散乱層上に被覆層の原料を配置、焼成して被覆層を形成する工程、
を有しており、前記透光性基板の屈折率が最も低く、散乱層、被覆層、透光性電極層の順に屈折率が高くなるように各層が構成されていることを特徴とする電子デバイス用基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】燐光発光を利用した有機ＥＬ素子の光の取出し効率を向上させることが可能な有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】透明支持基板１０、第一の凹凸が形成されている凹凸層からなる回折格子１１、並びに、第一の凹凸の形状が維持されるようにして、回折格子１１上に順次積層された透明電極１２、少なくとも発光層１３１を備える有機層１３、及び、金属電極１４を備える有機ＥＬ素子であって、（Ａ）第一の凹凸の形状のフーリエ変換像が、円状又は円環状の模様を示しており、且つ、該模様が波数の絶対値が１０μｍ^−１以下の範囲内となる領域内に存在する、（Ｂ）第一の凹凸と、金属電極の有機層に対向する面の表面に形成された第二の凹凸とがいずれも、凹凸の深さ分布の標準偏差が１５〜５０ｎｍとなる、（Ｃ）第一の凹凸の深さ分布の標準偏差に対する第二の凹凸の深さ分布の標準偏差の変化率が＋１５％〜−１５％である、ことを満たしている有機ＥＬ素子。 （もっと読む）

【課題】電子注入層の形成に際し、ウェットプロセスを用いることで製造に際しての煩雑さを回避しながら、輝度ムラの発生が抑制された有機ＥＬデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬデバイス１の製造では、基板１０上に、アノード１１、ホール注入層１２、ホール輸送層１３、有機発光層１４、電子注入層１５、およびカソード１６を、順に積層する。ここで、電子注入層１５の形成は、ＴｉＯ_ＸゾルまたはＴｉＯ_Ｘゲルと、炭酸セシウムとの混合溶液を、有機発光層１４上に塗布し、大気雰囲気下でベークした後、さらに、窒素雰囲気下でベークすることにより行われる。 （もっと読む）