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国際特許分類[H01L51/50]の内容

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装置の細部
材料の選択
このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置

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【課題】有機発光ダイオードにおける表面レリーフ出力カップリングのための方法及び装置を提供する。
【解決手段】エラストマー310の表面にパターンを形成し、パターンの少なくとも一部を有機発光ダイオード305の表面に直接に共形接触するように積層する。 (もっと読む)


【課題】光取り出し効率を向上でき、且つ、信頼性を向上できる発光装置を提供する。
【解決手段】発光装置は、透光性基板10と、透光性基板10の一表面側に形成され陽極22と陰極24との間に介在する発光層が備えられた有機EL層23を有する有機EL素子20と、透光性基板10の他表面側に設けられ有機EL素子20から放射された光の反射を抑制する凹凸構造部30と、透光性基板10の上記他表面側に配置されたパッケージ用基板40と、有機EL素子20への水分の到達を阻止する保護部50とを備える。パッケージ用基板40は、ガラス基板である。透光性基板10は、プラスチック基板である。保護部50は、無機材料の薄膜あるいは、薄膜の積層膜で構成され、陽極22、陰極24それぞれは、発光層と重ならない部位まで延長して形成してあり、これらの延長された部位の一部が保護部50により覆われずに露出し、露出した部位がパッドを構成している。 (もっと読む)


【課題】有機EL材料をはじめとした薄膜の特性を劣化させることなく、大型化かつ高精度の微細パターニングを可能とするデバイスを提供すること。
【解決手段】基板と、前記基板上に形成された絶縁層と、少なくとも前記絶縁層の間に形成された薄膜層とを有し、前記薄膜層は転写により形成されたものであり、隣り合う絶縁層間の開口幅をA、該開口に対応する領域に存在する薄膜層の幅をE、絶縁層のピッチをPとしたとき、A+4(μm)≦E(μm)≦P−10(μm)であり、かつ、幅方向に隣り合う薄膜層が異なる材料を含むものであり、当該隣り合う薄膜層間の間隔がほぼ一定であるデバイス。 (もっと読む)


【課題】高効率かつ長寿命な燐光発光性の有機ELエレクトロルミネッセンス素子を提供すること。
【解決手段】 陰極と陽極との間に、1層または複数層からなる有機薄膜層を備え、前記有機薄膜層に下記式(1)で表される有機化合物と、燐光発光材料とを含み、下記式(1)で表される有機化合物の3重項エネルギーEg(T)が前記燐光発光材料の3重項エネルギーEg(T)よりも大きいことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【化1】


(式中、Arは、置換基を有してもよいベンゾフェナントレン環、ジベンゾフェナントレン環、クリセン環、ベンゾクリセン環、ジベンゾクリセン環等から選択される縮合芳香族炭化水素環である。前記置換基とは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、シアノ基、アリールシリル基、アルキルシリル基、アルキルアリールシリル基、又は複素環基等である) (もっと読む)


【課題】有機化合物と無機化合物とを複合した複合材料であって、キャリア輸送性の高い複合材料を提供する。また、有機化合物へのキャリア注入性の高い複合材料を提供する。また、電荷移動相互作用による吸収が生じにくい複合材料を提供する。また、該複合材料を発光素子に適用することにより、発光効率の高い発光素子を提供する。また、駆動電圧の低い発光素子を提供する。また、長寿命の発光素子を提供する。
【解決手段】ジベンゾチオフェン骨格又はジベンゾフラン骨格を有する複素環化合物と、該複素環化合物に対して電子受容性を示す無機化合物とを含む複合材料を提供する。また、一対の電極間に発光物質を含む層を有し、該発光物質を含む層は、該複合材料を含む層を有する発光素子を提供する。 (もっと読む)


【課題】光透過率制御の可能な表示装置を提供する。
【解決手段】少なくとも一面に光を放出する第1領域、及び第1領域と隣接して外光を透過する第2領域を含む画素を備える透明表示素子;透明表示素子の一面に対応する方向に配されて、外光を線形偏光させて透過する第1偏光板;第1偏光板と透明表示素子の一面との間に配されて、外光の位相を遅延させて透過する第1リターダー;透明表示素子の一面の反対側である他面に対応する方向に配されて、外光を線形偏光させて透過する第2偏光板;第2偏光板と透明表示素子の他面との間に配されて、印加される電源により外光の波長を第1位相ないし第2位相の範囲で遅延させて透過する変換リターダー;を備える光透過率制御の可能な表示装置。 (もっと読む)


【課題】側壁スペーサを形成することなく、且つ、工程数を増やすことなく、自己整合的にLDD領域を少なくとも一つ備えたTFTを提供する。また、同一基板上に、工程数を増やすことなく、様々なTFT、例えば、チャネル形成領域の片側にLDD領域を有するTFTと、チャネル形成領域の両側にLDD領域を有するTFTとを形成する作製方法を提供する。
【解決手段】回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルをゲート電極形成用のフォトリソグラフィ工程に適用して膜厚の厚い領域と、該領域より膜厚の薄い領域を片側側部に有する非対称のレジストパターンを形成し、段差を有するゲート電極を形成し、ゲート電極の膜厚の薄い領域を通過させて前記半導体層に不純物元素を注入して、自己整合的にLDD領域を形成す
る。 (もっと読む)


【課題】表示装置の高精細化に伴い、画素数が増加し、ゲート線数、及び信号線数が増加
する。ゲート線数、及び信号線数が増加すると、それらを駆動するための駆動回路を有す
るICチップをボンディング等により実装することが困難となり、製造コストが増大する
という問題がある。
【解決手段】同一基板上に画素部と、画素部を駆動する駆動回路とを有し、駆動回路の少
なくとも一部の回路を、酸化物半導体を用いた逆スタガ型薄膜トランジスタで構成する。
同一基板上に画素部に加え、駆動回路を設けることによって製造コストを低減する。 (もっと読む)


【課題】電流型アクティブマトリックスOLEDを改良すること。
【解決手段】電流型アクティブ・マトリックスOLEDデバイスの製造方法は、基板の上方に、半導体層と、導電層と、その半導体層と導電層の間に挟まれた絶縁層を設け;上記半導体層または上記導電層の上方に有機発光ダイオードを画素ごとに設け;第1の電流としてのデータ信号を受け取って対応する画素から出る光の明るさを調節するため、上記半導体層の中に形成されたチャネル領域と、上記導電層の中に形成されたゲートとを備える第1のトランジスタを画素ごとに形成する操作を含んでいる。この方法は、第1の電流に応答して上記有機発光ダイオードの中を流れる電流を調節するため、上記導電層の中に形成されたゲートと、上記半導体層の中に形成されたチャネル領域とを備える第2のトランジスタを画素ごとに形成し;パルス式レーザーを用いて半導体層の特定の領域をアニーリングする操作も含んでいる。 (もっと読む)


【課題】安定した電気特性を持つ、酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタを有する、信
頼性の高い半導体装置の作製方法の提供を目的の一とする。
【解決手段】絶縁表面上において、ゲート絶縁膜を間に挟んでゲート電極上に酸化物半導
体膜を形成し、酸化物半導体膜上に、チタン、モリブデンまたはタングステンを含む第1
の導電膜を形成し、第1の導電膜上に、電気陰性度が水素より低い金属を含む第2の導電
膜を形成し、第1の導電膜及び第2の導電膜をエッチングすることでソース電極及びドレ
イン電極を形成し、酸化物半導体膜、ソース電極及びドレイン電極上に、酸化物半導体膜
と接する絶縁膜を形成する半導体装置の作製方法。 (もっと読む)


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