【課題】
電子ビーム応用装置では，複数の電子ビーム検出器および電磁波発生手段をもつことにより性能向上が図れるが，空間的制約により同時に配置することが困難である。
【解決手段】
電子ビーム検出器（１０２，１０５）と電磁波発生手段（１０２，１０４，１０８，１０９）を両立した構成１００により，電子ビーム応用装置内部に多数の電子ビーム検出器及び電磁波発生手段を配置することができ，電磁波発生手段による試料表面の電位の制御やコンタミネーションの除去により，長期間安定した像観察が可能になる。 （もっと読む）

【課題】太陽光などの光励起によるレーザー光の増幅器の提供。
【解決手段】ネオジウム（Ｎｄ）イオンを含有するネオジウム塩水溶液からなるレーザー媒質、好ましくは、さらに、クロム（Ｃｒ）イオンを含む。
上記のレーザー媒質を使用したレーザー増幅器およびそれを備えたレーザー装置。
上記のレーザー媒質を用いた、励起光線源を自然太陽光線とするレーザー増幅方法であって、前記レーザー媒質を冷却装置により所定の温度範囲に冷却しながらレーザーセルに循環させ、レーザーセルに自然太陽光線からの励起光を照射するレーザー増幅方法。
上記のレーザー媒質を用いたレーザー増幅方法であって、レーザー媒質が封入または循環供給されるレーザーセルの大きさに応じて液体レーザー媒質の濃度調整を行うことにより増幅率を調整するレーザー増幅方法。 （もっと読む）

デバイスが提供される。本デバイスは、第１の有機発光デバイスを含み、この有機発光デバイスは、第１の電極と、第２の電極と、第１の電極と第２の電極の間に配置された有機発光層とをさらに含む。本デバイスはまた、第１のレーザデバイスを含み、この第１のレーザデバイスは、光共振器と、この光共振器内に配置された有機レイジング材料をさらに含む。焦点機構が、第１の有機発光デバイスによって放射される光を第１のレーザデバイス上へ集束させるように配置されている。好ましくは、焦点機構は、第１の有機発光デバイスによって放射される光よりも強度が少なくとも１０倍大きな、より好ましくは少なくとも１００倍大きな、第１のレーザデバイスへの入射光を供給する。
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【課題】 種光として所定周期の光パルスを増幅する際、光パルスのパルス幅拡大に伴って増大する非線形好学現象を効果的に抑制するための構造を備えたパルス変調方法等を提供する。
【解決手段】 変調器(51)は、種光源(41)であるレーザ光源に対し、又は、レーザ光源から出力された光に対してパルス変調を行う。変調器(51)から出力される変調電圧(E)の変調パターンは、光パルスの周期に相当する変調周期内に、光パルス生成パターン(P)として、光パルスのパルス幅よりも短い信号幅をそれぞれが有する複数のパルス成分（P1,P2,P3）を含むよう、調整されている。 （もっと読む）

【課題】光ファイバレーザにおける光ファイバの温度上昇を抑え、レーザ光の高出力化を図った光ファイバレーザ用光ファイバ及びその製造方法、並びに光ファイバレーザを提供する。
【解決手段】希土類元素が添加された希土類添加コア２と、希土類添加コアの周囲に形成されたクラッド３とを備え、クラッド３の端部から励起光Ｌｅを入射し、希土類元素を励振させて高出力のレーザ発振光Ｌを出力する光ファイバレーザ用光ファイバ１において、 希土類添加コア２が長手方向に沿って複数個のコア領域２ａ，２ｂ，…，２ｎ−１，２ｎに分割されており、各コア領域２ａ，２ｂ，…，２ｎ−１，２ｎに添加された希土類元素の添加濃度が異なるものである。 （もっと読む）

レーザは、コアを規定するクラッディングを有する光ファイバと、この光ファイバのコア内にあるレーザアクティブ媒体と、光ファイバの少なくとも一部でキャビティを規定する第１反射器および第２反射器と、励起システムとを有する。この励起システムはレーザアクティブ媒体と結合されており、光ファイバのコア内でレーザ活動を励起する。前記レーザアクティブ媒体はガス、液体、または固体を含む。
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【課題】 キラル液晶を用いた光共振器を必要としないレーザー発振光デバイスにおいて、光励起エネルギーしきい値の低いレーザー発振光デバイスを提供しようというものである。
【解決手段】 キラル液晶にレーザー発振発光性材料を添加して、キラル液晶を光励起してレーザーを発振させる従来のシステムは、キラル液晶に直線偏光で光励起していたが、本発明は、キラル液晶の分子掌性と逆方向の円偏光で光励起することによって高効率にレーザー発振させる。 （もっと読む）

【課題】短パルスレーザーを高出力化するにつれて 主パルスの先行部に自発光増幅作用などによる高ピーク出力部の主パルスに付随した低ピークパルス部のプリパルスの発生が見られるようになる。これは主パルスと同軸上に発せられるので このプリパルスの効果的な除去法を提供する。
【解決手段】本発明は、可飽和色素溶液を薄膜状のジェット流にノズルにより形成し、薄膜溶液中を薄膜に交差する方向にパルスを通過させることで、可飽和色素にプリパルス部だけを選択的に吸収させる装置により実現した。薄膜の厚さをプリパルス部のエネルギーに合わせて制御するようにしたので、プリパルスの含有度合いに応じて主パルスだけの選択放射を可能にできた。これにより、短パルスの加工分野での加工精度向上や加工能率向上を図ることが可能になった。 （もっと読む）