【課題】既存のシリコン集積回路との親和性の高い薄層シリコン層を用いた発光素子で、発光波長が変更できるようにする。
【解決手段】この半導体発光素子は、シリコンから構成されて量子効果が示される範囲の層厚とされた発光層１０１と、発光層１０１にキャリアを注入するキャリア注入部１０２と、発光層１０１に印加する電界を制御する電界制御部１０３とを備える。こ半導体発光素子では、キャリア注入部１０２によりキャリアを注入することで発光する発光層１０１に、電界制御部１０３により任意の電界を印加し、量子閉じ込めシュタルク効果（ＱＣＳＥ）を生じさせることで、発光と同時に発光波長の変調を行う。 （もっと読む）

【課題】特定の波長に対して感度を持たせた素子を材料の選定を行うことなく容易に作製可能なエレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】順方向バイアス電圧を印加することによりｐ層とｎ層の接合部に拡散電流を発生させ、発生された拡散電流により生じるジュール熱に基づいて何れかの層の表面形状及び／又はドーパント分布を変化させることを繰り返し、近接場光が発生した箇所では反転分布に基づき非断熱過程により複数段階で誘導放出させることにより、拡散電流を減少させてジュール熱を低下させることにより表面形状及び／又はドーパント分布を固定させる。 （もっと読む）

【課題】屈折率の高い領域から低い領域へ効率よく光を取り出すことができる光学素子を提供する。または該光学素子を用いた発光装置を提供する。または、該発光装置を用いた高効率な照明装置を提供する。
【解決手段】紫外域から赤外域の間の波長の光が入射される光学素子であって、気泡が内包されている媒質を有し、光が入射される面を光入射面とし、他方の面を光射出面とし、気泡は媒質内において、光入射面から光射出面まで、光が進む方向に沿って数密度が高くなるように分布しており、気泡の直径は、光学素子に入射される光の波長以下である光学素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】小型のレーザ照射装置で光干渉がなく、連続した結晶成長を実現することである。
【解決手段】メガヘルツレーザビームを用い、分割したレーザビームを半導体膜に照射して、半導体膜を結晶化する。その際に分割ビームに光路差を設けて光干渉を抑える。光路差はメガヘルツレーザビームのパルス幅に相当する長さ以上、パルス発振間隔に相当する長さ未満に設定され、非常に短い光路差で光干渉を抑えることができる。そのためレーザのエネルギー劣化がなく効率的に且つ連続的にレーザビームを照射することができる。 （もっと読む）

【課題】アクティブマトリクス型ＥＬ表示装置において、画素を構成するＴＦＴの特性のバラつきや、表示装置を使用する環境温度の変化に対して、輝度表示のバラつきを抑えることを課題とする。
【解決手段】時間階調方式を用いる。且つＥＬ駆動用ＴＦＴを、オン状態において飽和領域で動作させることにより、ＥＬ駆動用ＴＦＴのドレイン電流を一定に保つことができる。これにより、ＥＬ素子に一定の電流を流すことができ、正確な階調表示の高画質なアクティブマトリクス型ＥＬ表示装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置の作製工程においてマスク枚数を追加することなく、反射電極の散
乱構造を作製する。
【解決手段】層間膜に感光性樹脂膜を用いる。フォトマスク１００の第１の透光部１０１
を通して露光してパターニングしてコンタクトホール１０３〜１０６を得る。フォトマス
ク１００の第２の透光部１０２を通して露光すると、感光性樹脂膜が解像不能となり、感
光性樹脂膜の表面に凹凸ができる。これにより一枚のフォトマスクでコンタクトホール形
成と層間膜表面に凹凸を有する散乱構造とができる。 （もっと読む）

【課題】第１電極の側面と第２電極との短絡を抑えると共に、材料および工程数を削減することが可能な表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】第１電極材料膜の上に感光性材料膜を形成し、この感光性材料膜に対して１回目の露光および１回目の現像を行うことにより、第１電極形成予定領域に未焼成マスクを形成する。未焼成マスクを用いて第１電極材料膜をエッチングすることにより第１電極を形成したのち、未焼成マスクに対して２回目の露光，２回目の現像および焼成を行うことにより、第１電極１３の上面の周縁部に第２絶縁膜１４を形成する。第２絶縁膜１４は、第１電極１３の側面１３Ａよりも張り出した庇部１４Ｃを有している。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性能、耐久性に優れた透明ガスバリアフィルムを提供すること。
【解決手段】透明ガスバリアフィルム１は、透明な樹脂からなる基材フィルム２と、該基材フィルム２の両面に形成され、該基材フィルム２の表面を平坦化する一対の平坦化層３と、一対の平坦化層３の表面にそれぞれ形成され、ガスの透過を防ぐ一対のバリア層４とを有する。バリア層４には、圧縮応力がかかっている。圧縮応力は、８００ＭＰａ以下である。 （もっと読む）

【課題】画素アレイ部の周辺回路の回路規模の縮小化を可能にする、シフトレジスタを用いて成る走査回路、当該走査回路を用いる表示装置、当該表示装置の駆動方法、及び、当該表示装置を有する電子機器を提供する。
【解決手段】書込み走査回路４０を有する有機ＥＬ表示装置において、書込み走査回路４０を構成するシフトレジスタ４１の１つのシフト段から出力されるシフト信号を基に複数の走査信号を生成する。そして、当該複数の走査信号によって複数の画素行を単位として同時に走査を行う構成を採ることで、シフトレジスタ４１のシフト段の段数を削減する。 （もっと読む）

【課題】ＥＬ膜、陰極の断線を防止する技術を提供することを課題とする。陰極と陽極に挟まれた部分で、ＥＬ膜の膜厚が局所的に薄くなることを抑えることができ、ＥＬ膜に局所的に電界が集中することを防ぐことができる。
【解決手段】絶縁表面上に形成された第１の電極と、第１の電極の端部を覆って形成された絶縁膜と、絶縁膜及び第１の電極を覆って形成されたＥＬ膜と、第１の電極上で、且つ、ＥＬ膜上に形成された第２の電極を有する発光装置であって、絶縁膜は、第１の電極上の下端部で下に凸の曲面状の断面を有し、下端部と上面の間に中央部を有し、中央部と上面の間に上に凸の曲面状の断面を有する発光装置。 （もっと読む）