本発明は、有機発光素子の製造方法に関する。製造方法は、Ａ）基板（１）上に第１の電極層（２）を準備するステップと、Ｂ）第１の電極層（２）上に、金属を含有する構造化された導電層（３）を被着するステップと、Ｃ）第１の電極層（２）に接していない導電層（３）の表面（３１）上に、金属の酸化によって、導電層（３）の金属の酸化物を含有する絶縁層（４）を形成するステップと、Ｄ）第１の電極層（２）および絶縁層（４）の上に、少なくとも１つの有機機能層（５）を被着するステップと、Ｅ）少なくとも１つの有機機能層（５）上に第２の電極層（８）を被着するステップとを有する。
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【課題】第１電極上に異物や突起部が存在したとしても、第１電極と第２電極との間で短絡が生じることがない構成、構造を有する発光素子を提供する。
【解決手段】発光素子は、第１電極２１、有機発光材料から成る発光層を備えた有機層２３、半透過・反射膜４０、抵抗層５０、及び、第２電極２２が、順次、積層されて成り、第１電極２１は、発光層からの光を反射し、第２電極２２は、半透過・反射膜４０を透過した光を透過し、有機層２３上における半透過・反射膜４０の平均膜厚は、１ｎｍ乃至６ｎｍである。 （もっと読む）

【課題】トップエミッション型の発光装置において発光素子の導電性が劣化することを抑制する。
【解決手段】第１基板１０と、第１基板１０上に形成された光反射層１４と、光反射層１４上に形成された画素電極１６と、画素電極１６上に形成された発光機能層１８と、発光機能層１８上に形成された電子注入層２０と、電子注入層２０上に形成されて半透過反射性を有する対向電極２２と、を具備し、対向電極２２はＡｇ合金で形成され、そのＡｇの含有量は、対向電極２２の抵抗率が３１×１０^−８Ω・ｍ以下になるように設定される。 （もっと読む）

【課題】本発明によれば、画質の優れた画像表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る画像表示装置は、基板と、前記基板上に設けられ、複数の画素回路をマトリックス状に配列した表示部と、前記基板上であって前記表示部と隣接して設けられる駆動ＩＣと、前記駆動ＩＣと前記表示部とを接続するように設けられ、前記駆動ＩＣから前記複数の画素回路に駆動信号を伝達する複数の駆動信号線と、前記複数の駆動信号線のうち隣接する駆動信号線の間に設けられ、前記複数の画素回路に対して電源電圧を前記駆動ＩＣ側から前記表示部側に向って供給する給電線と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】発光特性の低下を抑制しつつ、第一電極上の異物による電界集中や上下電極間の短絡が生じにくい有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板１０の上に、陽極２０、
発光層５０を含む有機材料からなる有機材料層が積層された有機層、陰極８０を積層してなる有機ＥＬ素子１００において、有機層は、基板１０の表面に形成される陽極２０の表面に形成されるものであり、その陽極２０上の凹凸を平坦化するために所定の温度で加熱される平坦化処理がなされた平坦化層３０を含む。そして、陽極２０は、その平坦化層３０と接する表面の表面粗さが０．５ｎｍ以上である。 （もっと読む）

【課題】開口率が高く、寿命が長い有機ＥＬディスプレイパネルを提供すること。
【解決手段】駆動ＴＦＴを内蔵した基板と、前記基板上に配置され、ライン状の領域を規定するバンクと、前記ライン状の領域のそれぞれに一列に配列された２以上の有機ＥＬ素子と、を有する有機ＥＬディスプレイパネルであって、前記有機ＥＬ素子のそれぞれは、前記基板上に配置され、前記駆動ＴＦＴのドレイン電極と接続された陽極、前記陽極上に配置された金属酸化物からなる正孔注入層、前記正孔注入層上に配置された有機発光層、前記有機発光層上に配置された陰極を有し、前記正孔注入層は、前記バンクによって規定された領域内に配置され、前記陽極および前記正孔注入層は、凹曲状または凸曲状である、アクティブマトリクス型の有機ＥＬディスプレイパネル。 （もっと読む）

【課題】外部からの衝撃に強いフレキシブルな発光装置およびその作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】一対の可撓性基板の間に繊維体に有機樹脂を含浸させてなる構造体を挟んで形成されたＴＦＴ等を含む第１の素子形成層と、発光素子等を含む第２の素子形成層とを有する構造とすることにより外部からの衝撃に対する耐久性を高めることができる。また、第１の素子形成層と第２の素子形成層とは、構造体の内部に形成された配線を介して電気的に接続されており、また配線は、構造体に開口部を形成することなく構造体内部に形成されているため、構造体の耐衝撃層としての機能を弱めることなく形成することができる。 （もっと読む）

【課題】製造工程を複雑化することなく、各画素において目的とする色の輝度を高い色純度で上げる。
【解決手段】カラー画素１は、赤色光（Ｒ）を出射するサブ画素２ｒと、緑色光（Ｇ）を出射するサブ画素２ｇと、青色光（Ｂ）を出射するサブ画素２ｂと、白色光（Ｗ）を出射するサブ画素２ｗを備える。白色用のサブ画素２ｗは、赤色光（Ｒ）を出射する第１領域３ｒと、緑色光（Ｇ）を出射する第２領域３ｇと、青色光（Ｂ）を出射する第３領域３ｂに区分される。サブ画素２ｒ，２ｇ，２ｂの各々と、サブ画素２ｗの第１〜第３領域３ｒ，３ｇ，３ｂの各々には、発光層からの出射光を光反射層と半透過反射層との間で共振させる共振器構造が形成される。サブ画素２ｗの第１領域３ｒはサブ画素２ｒと共振器構造が同じであり、サブ画素２ｗの第２領域３ｇはサブ画素２ｇと共振器構造が同じであり、サブ画素２ｗの第３領域３ｂはサブ画素２ｂと共振器構造が同じである。 （もっと読む）

【課題】冷電子放出源や有機ＥＬ等の素子へＣ１２Ａ７エレクトライドを応用するために
、大気中でも界面が劣化することが少ない、オーミック表面を形成すること。
【解決手段】１２ＣａＯ・７Ａｌ_２Ｏ_３エレクトライドを導電性素子材料として、その表
面に金属を蒸着してオーミック接合を形成する方法において、該素子材料表面をリン酸処
理して改質した後、該素子材料表面に金属を蒸着することによって、該素子材料表面と該
金属との界面の接触抵抗を０．５Ω・ｃｍ^２未満とすることを特徴とするＣ１２Ａ７エレ
クトライドからなる導電性素子材料表面に対するオーミック接合形成方法。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ層を全面蒸着しながら、簡便に補助電極と第２電極との接続を行いうる有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】複数のＴＦＴが形成された基板上に複数の画素が形成されるトップエミッション型有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記有機ＥＬ素子が、第１電極と、第１電極に対向して設けられた透明な第２電極と、第１電極と第２電極の間に挟まれる有機ＥＬ層とを有し、前記第１電極の端部は絶縁膜により覆われており、前記第２電極が前記絶縁膜上にパターン形成された金属膜と接続されてなり、絶縁膜上に金属膜パターンを形成する工程と、形成された金属膜パターンに重ねるようにワイヤマスクを、張力をかけた状態で設置する工程と、ワイヤマスクが設置された基板全面に有機ＥＬ層を形成する工程と、基板からワイヤマスクを除く工程と、ワイヤマスクを除いた基板全面に第２電極を形成する工程を有することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）