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国際特許分類[H05H1/24]の内容

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【課題】コンパクト化を図ることが可能なプラズマ生成モジュールを提供する。
【解決手段】 プラズマ生成モジュール40は、陽極として機能するハース42と、ハース42の周囲に配置された磁石44と、磁石44によってチャンバ20内に形成されるリターンフラックスF上に配置されたプラズマガン46と、を備える。 (もっと読む)


【課題】無駄な放電を防止するための電極構造の大気圧プラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】電源供給手段50から放電電圧が印加される第1電極10と、第1電極10と所定間隔が離隔され、第1電極10を取り囲む誘電体30と、第1電極10と誘電体30との間の空間に充填される液体誘電体40と、誘電体30と所定間隔が離隔されるように設置される第2電極20と、を備える。さらに、第2電極20と所定間隔が離隔され、第2電極20を取り囲む第2誘電体と、第2電極20と前記第2誘電体との間の空間に充填される第2液体誘電体とを付加することもできる。 (もっと読む)


【課題】 高温の反応場を生成して処理効率を高めることができるプラズマ発生装置を提供すること。
【解決手段】 プラズマ発生装置11は、液体を導入可能な容器12と、超音波発生装置13と、マイクロ波発生装置14と、中性子照射装置16とを備える。超音波発生装置13は、容器12内の液体中に超音波を照射してキャビテーションを多発的に生じさせる。マイクロ波発生装置14は、液体におけるキャビテーション発生領域にマイクロ波を照射して放電プラズマを発生させる。中性子照射装置16は、液体における放電プラズマ発生領域に中性子を照射する。 (もっと読む)


【課題】隣接し、一箇所以上が接触した複数の被処理物をバッチ処理した場合において、全ての被処理物の被覆を高速に除去できるプラズマ処理方法及び装置を提供すること、また、プラズマにより短時間で被覆を除去することで、例えば圧着端子とのかしめのような、所望の金属部材との導通を確保しやすくなる導線を提供すること。
【解決手段】 上部電極1と下部電極2の間に絶縁体チャンバー3を設け、その内部にガス流路4を形成している。振動ユニット13で被処理物10を振動させつつ、処理ガス供給装置5より内部に処理ガスを供給し、高周波電源9より電極間に交流電界を供給することでプラズマ12を生成し、隣接し、一箇所以上が接触した複数の被処理物10を電極間から離して位置させることで、全ての被処理物の被覆を高速に除去できる。 (もっと読む)


【課題】放電プラズマにより励起された処理対象ガスを分解・合成・改質可能とし、ドライ洗浄装置やオゾン発生装置として使用可能にした大気圧プラズマ素子を提供する。
【解決手段】大気圧雰囲気中で処理対象ガスを流通可能とした筒状誘電体部材2の外周壁に電極を付設して外部電極6とし、該筒状誘電体部材2の内部に配され、螺旋状に正回転する第1羽根部分3、螺旋状に逆回転する第2羽根部分4とを交互に長手方向に延設してそれぞれを内部電極7とし、処理対象ガスと酸素を筒状誘電体部材2内で剪断力を受けて分割及び合流を繰り返すことにより両者が攪拌混合すると同時に両電極間6、7に高周波・高電圧を印加して放電プラズマを誘起することで筒状誘電体部材2内側の処理対象ガスの分解・合成・改質を可能とする。 (もっと読む)


【課題】電極の寿命を延ばし、電極の製造費用を下げるることができる常圧プラズマ発生用電極の製造方法及び電極構造とこれを利用した常圧プラズマの発生装置の提供。
【解決手段】プラズマの電極構造300は、プラズマの形成のための高周波電力を供給するため、上下部にお互いに平行を取って向き合う平板型の電源電極311及び接地電極321を具備し、電源電極311及び接地電極321の全表面にそれぞれ酸化被膜層310,320を均一に形成して、電源電極311及び接地電極321の間にプラズマの発生空間330を形成する。 (もっと読む)


【課題】 液体中にマイクロ波を効率よく照射することができるプラズマ発生装置を提供すること。
【解決手段】 超音波発生装置のトランスデューサ21は、容器12内の液体W中に超音波を照射してキャビテーションを多発的に生じさせる。マイクロ波発生装置の導波管29は、液体Wにおけるキャビテーション発生領域Rにマイクロ波を照射して放電プラズマを発生させる。導波管29は、先端が容器12内に突出するように配置された管本体31と、管本体31の先端の内部に配置されたマイクロ波透過体32とを有する。マイクロ波透過体32の先端部には、管本体31の長手方向に対して傾斜したテーパ面36が形成されている。 (もっと読む)


【課題】平面でない被処理面に対して、全面を一括処理することで処理時間を短縮できるプラズマ処理方法および装置、また、簡易的な構造あるいは汎用性の高い構造とすることで装置コストを低減できるプラズマ処理方法及び装置を提供すること。
【解決手段】上部電極1と下部電極2の間に異形被処理物11−aを載置し、独立したガス系統でガスを供給できる処理ガス供給装置4−a乃至4−f、ガス流路5およびガス噴出板6と、ガス噴出板6上のガス噴出面7と、ガス噴出面7の面内に設けた複数のガス噴出口8を経由して、異形被処理物11−aに対して処理ガスを供給する。また、両電極間に高周波電源9より電力を供給することで、異形被処理物11−aの被処理面にプラズマ10を生成でき、被処理面全体を一括で均一に処理できる。 (もっと読む)


【課題】プラズマを均一に生成することができる処理ガス吐出装置などを提供する。
【解決手段】処理ガス吐出装置20は、上部外周面に形成された供給穴23a、及び下部外周面に形成された吐出穴23bを有する管状の外部誘電体23と、外部誘電体23の外周面に設けられ、接地された接地電極24と、外部誘電体23の管内にこれと一定間隔を隔てて同軸に設けられる管状の内部誘電体25と、内部誘電体25の管内に設けられる内部電極26と、内部電極26と接地電極24との間に高周波電力を印加する高周波電源27と、外部誘電体23と内部誘電体25との間の、外部誘電体23の円周方向において供給穴23aと吐出穴23bとの間に、長手方向が外部誘電体23の軸線と平行に配設される棒状のガス流制御部材28と、供給穴23aに接続した供給管40aを介して外部誘電体23と内部誘電体25との間に処理ガスを供給するガス供給機構40とを備える。 (もっと読む)


本発明は、加工物、特に中空体加工物のプラズマ処理の方法に関する。この方法によれば、反応室内で処理区域が少なくとも部分的に排気され、処理区域内、特に加工物の中空体内にプロセスガスが導入され、放射される電磁エネルギーを用いて処理区域に導入されたプロセスガスでプラズマが点火される。本発明は、プラズマ処理中に、処理区域の両端間を通ってプロセスガスが流れることを特徴とする。 (もっと読む)


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