【課題】成膜面積の拡大を可能とし、かつ、膜厚分布をより均一化できるシート状プラズマ発生装置と、これを用いた成膜装置を提供する。
【解決手段】プラズマガンから収束コイルにより引き出したプラズマビームを、プラズマビームの進行方向に対して直交する方向に延び、対向して互いに平行に配置されて対になっている永久磁石からなるシート化マグネットによって形成される磁場の中に通過させてシート状に変形させるシート状プラズマ発生装置において、シート化マグネットには、プラズマビームの中心側に対応する部分における反発磁場強度の方が、プラズマビームの外縁側に対応する部分における反発磁場強度より強いシート化マグネットが少なくとも一つ含まれている。 （もっと読む）

【課題】プラズマの加熱状態を維持できる電流波形を発生することができる高電圧パルス発生部を備えた極端紫外光光源装置を提供すること。
【解決手段】高電圧パルス発生部２０の負荷Ｌとして極端紫外光光源装置の一対の主放電電極が接続される。固体スイッチＳＷをｏｎとし、磁気スイッチＳＲ２を介してコンデンサＣ２１、Ｃ２２、Ｃ２３を充電する。ついで磁気スイッチＳＲ３がＯＮとなりコンデンサＣ２１〜Ｃ２３の電荷はそれぞれコイルＬ１〜Ｌ３及び負荷を介して放電する。コイルＬ１〜Ｌ３とコンデンサＣ２１〜Ｃ２３の各直列回路のパラメータを異ならせておけば、負荷Ｌに流れる電流波形は変極点（折曲点）を有する波形となる。したがって、この変極点で電流を増大させ、プラズマがピンチされた状態で電流を増大させるようにすれば、プラズマの加熱状態を維持して、ＥＵＶ光の出力エネルギーを大きくすることができる。 （もっと読む）

【課題】電子放出特性に優れた電極を製造するプラズマＣＶＤ装置を提供する。
【解決手段】チャンバー１０内の陽極１１ａの載置面に基板１が載置される。陽極に対向する陰極１３には流路１３ａが形成され、冷却水が通される。陽極１１ａと陰極１３とに電圧を印加して、プラズマにより基板１上に、カーボンナノウォールの層を形成し、その後、陽極１１ａを冷却部材１２で冷却して基板１を所定の温度に急冷する。 （もっと読む）

【課題】印刷物に形成した画像（文字を含む）を、低コストで、容易かつ迅速に消去する方法、並びにそれを用いる装置を提供すること。
【解決手段】印刷物の画像（文字を含む）を形成している色素からなる着色部にリモートプラズマ装置により発生した酸化性ガスを接触させて画像を消去する。 （もっと読む）

【課題】ＶＨＦ帯を利用した誘導結合方式でマイクロプラズマジェットを生成するマイクロプラズマジェット発生装置において、さらに効率良くプラズマを発生させしかも小型化する。
【解決手段】基板２と、基板２上に配設されたマイクロアンテナ３と、マイクロアンテナ３の近傍に配設された放電管４と、ＶＨＦ帯の高周波をマイクロアンテナ３に供給する高周波電源と、高周波電源からの高周波を入力し反射波を調整する整合回路７と、整合回路７とマイクロアンテナ３との間に接続された位相回路６とを備え、位相回路６はその回路定数を、定在波の電流振幅の最大値の位置がマイクロアンテナ近傍となるように、または定在波の電圧振幅の最小値の位置がマイクロアンテナ近傍となるように設定した。 （もっと読む）

【課題】被処理物の大面積化に対応できるとともに、正規の放電処理開始地点での処理の良好性確保できる大気圧プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】大気圧プラズマ処理装置のステージ２０の第１ステージ部２１の第１金属表面２１ａを露出させ、誘電体製被処理物Ｗを設置する。第１ステージ部２１の周縁には第２ステージ部２２を設ける。この第２ステージ部２２の第２金属２４の上に固体誘電体層２５を設け、この固体誘電体層２５の内側誘電部２６に被処理物Ｗの周縁部を設置する。電極１１は、第２ステージ部２２上の第２移動範囲Ｒ２で助走放電Ｄ２を形成したうえで、第１ステージ部２１上の第１移動範囲Ｒ１へ移動し、正規のプラズマ放電Ｄ１を形成する。 （もっと読む）

【課題】簡単な装置構成でプラズマ処理を行なうことができる、プラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】第１のステップにおいて、電圧を印加するＨＯＴ電極２２の表面を覆う誘電体２４に対向して、導電性を有する被処理物１０を配置する。第２のステップにおいて、誘電体２４と被処理物１０との間２５に処理ガスを供給する。第３のステップにおいて、ＨＯＴ電極２２に電圧を印加してＨＯＴ電極２２と被処理物１０との間２５で放電を発生させ、放電によりプラズマ化した処理ガスを被処理物１０の表面１１に接触させて、被処理物１０の表面１１をプラズマ処理する。 （もっと読む）

【課題】複数の被処理面を、小さいスペースで簡単な設備を用いて効率よくプラズマ処理することができる、プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理ヘッド１０は、互いに対向する少なくとも一対の電極１２，１４と、電極１２，１４の間の空間１１ｘ（以下、「放電空間」という。）に連通する複数の吹出口１１ａ，１１ｂとを有する。複数の吹出口１１ａ，１１ｂは、被処理物１の異なる被処理領域１ａ，１ｂにそれぞれ対向するように配置される。複数の吹出口１１ａ，１１ｂから、電極１２，１４に電圧を印加して放電空間１１ｘにおいて放電を発生させながら放電空間１１ｘを通過させてプラズマ化した処理ガスがそれぞれ異なる方向に流出し、吹出口１１ａ，１１ｂが対向する被処理物１の異なる被処理領域１ａ，１ｂにそれぞれ処理ガスが接触して被処理領域１ａ，１ｂをプラズマ処理する。 （もっと読む）

【課題】線状に連続する被処理物の表面を効率良く連続的にプラズマ処理することができる、プラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】第１の工程において、連続する被処理物４が真っ直ぐに延在する部分において、実質的に細長い開口１１を有するプラズマ処理ヘッド１０を、開口１１の長手方向が被処理物４の延在方向と略平行になるように、開口１１を被処理物４の表面５に沿って隙間を設けて配置する。第２の工程において、被処理物４の延在方向に、プラズマ処理ヘッド１０の開口１１に対して被処理物４を相対的に移動させながら、プラズマ化した処理ガスをプラズマ処理ヘッド１０の開口１１から被処理物４の表面５に吹き付ける。 （もっと読む）

本発明は、過酸化水素の当初の水溶液を、グロー放電プラズマ又はコロナ放電のような、非熱的放電プロセスに付すことにより入手可能な、過酸化水素を含む活性化殺生物性水溶液（活性化パーオキシド溶液）を開示する。０．０５〜２０％（重量／重量）過酸化水素を含む、結果する活性化パーオキシド溶液は、２〜４の範囲のｐＨ、４００〜６００ｍＶの範囲の酸化還元電位（ＯＲＰ）を有し、そして、０．０５％〜０．５％（重量／重量）の範囲のパーオキシド含量を有するときの該溶液は、１００〜５００μジーメンス／ｃｍの範囲の電気伝導度を有し、０．１％〜５％（重量／重量）の範囲のパーオキシド含量を有するときの該溶液は、１００〜４５０μジーメンス／ｃｍの範囲の電気伝導度を有し、及び５％〜２０％（重量／重量）の範囲のパーオキシド含量を有するときの該溶液は、１００〜３５０μジーメンス／ｃｍの範囲の電気伝導度を有する。該ｐＨ、ＯＲＰ及び電気伝導度は、該溶液中に追加の化合物の存在が実質的に無い条件下で計測可能である。該溶液の殺生物活性は、一般のパーオキシド溶液のそれより実質的に高い。該殺生物性溶液は、殺菌活性及び／又は消毒活性及び／又は洗浄活性及び／又は漂白活性及び／又は防腐活性が必要とされるところの任意の目的の為に用いられうる。本発明は更に、該活性化パーオキシド溶液の調製のための、非熱的放電処理、特にパルスコロナ誘起低周波数パルスＤＣプラズマ放電処理を開示する。 （もっと読む）