【課題】大気圧プラズマにて被処理物を間欠的に処理する場合にもガスの使用量を必要最小限に抑制しながら安定して処理を行えるようにする。
【解決手段】所定の空間にガスを供給し、前記所定の空間に高周波電圧を印加して大気圧近傍でプラズマを発生させ、プラズマにて被処理物を処理する大気圧プラズマ処理方法において、処理開始認識手段５からの信号にて処理開始を決定し、ガスの流量を増加させるとともにプラズマを点火して被処理物２をプラズマ処理し、処理終了認識手段６からの信号にて被処理物２に対する処理終了を決定し、ガスの流量を減少させるとともにプラズマ１１を消灯しかつ微量のガスを流し続けて前記所定の空間内の雰囲気を保持するようにした。 （もっと読む）

【課題】 交流電源を用いたスパッタリング装置を、その設置場所と交流電源の設置場所との間の距離に依存せず、精度の良く電力投入できるように構成する。
【解決手段】 真空チャンバ１１内に、一対のターゲット４１ａ、４１ｂと、この一対のターゲットに対し所定の周波数で交互に極性をかえて電圧を印加する交流電源Ｅとを設ける。交流電源Ｅを、電力の供給を可能とする電力供給部６と、この電力供給部からの電力ラインに接続された発振用スイッチ回路７２を有する発振部７とに分けて構成し、この発振部と各ターゲットとをブスバー８によって連結する （もっと読む）

【課題】電気力線の集中を緩和して放電の集中を抑制することができる処理ガス吐出装置などを提供する。
【解決手段】処理ガス吐出装置２０は、上部外周面に形成された供給穴２３及び下部外周面に形成された吐出穴２４を有する管状の外部誘電体２２と、外部誘電体２２の外周面に設けられ、接地された外部電極と、外部誘電体２２の管内にこれと一定間隔を隔てて同軸に設けられる管状の内部誘電体３５と、内部誘電体３５の管内に設けられる内部電極３７と、内部電極３７と外部電極との間に高周波電圧を印加する高周波電源３９と、外部誘電体２２の軸線方向における外部電極の両端部に外部誘電体２２と同軸に配置されて該外部電極にそれぞれ接続するとともに、外部誘電体２２を間隔を隔てて囲むラッパ状の導電部材２９と、供給穴２３から外部誘電体２２と内部誘電体３５との間に処理ガスを供給するガス供給機構５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】外部誘電体と内部誘電体との間に供給される処理ガスの流量などを均一にしたり、外部誘電体の強度を高めることができる処理ガス吐出装置などを提供する。
【解決手段】処理ガス吐出装置は、上部外周面に形成された供給穴２３及び下部外周面に形成された吐出穴を有する管状の外部誘電体２２と、外部誘電体２２の外周面に設けられ、接地された外部電極２６と、外部誘電体２２の管内にこれと一定間隔を隔てて同軸に設けられる管状の内部誘電体と、内部誘電体の管内に設けられる内部電極と、内部電極と外部電極２６との間に高周波電圧を印加する高周波電源と、供給穴２３から外部誘電体２２と内部誘電体との間に処理ガスを供給するガス供給機構とを備える。供給穴２３は、長手方向が外部誘電体２２の軸線に沿うように一列に形成された複数のスリット穴から構成され、各スリット穴の両端部には丸穴２３ｂが形成される。 （もっと読む）

【課題】リモートプラズマ処理方法において、プラズマ処理効率を向上させることである。
【解決手段】相対向する一対の電極４Ａ、４Ｂ、および一対の電極のうち少なくとも一方の電極の対向面に設置された固体誘電体層５もしくは６を備えているプラズマ処理装置を使用する。放電空間８中に大気圧以上の圧力の処理ガス９を導入し、一対の電極へのパルス電圧の印加による放電を用いて処理ガス９を活性化し、活性化した処理ガスを被処理物１１に照射する。放電空間のギャップ間隔ｄが０．３ｍｍ以下であり、電極間の平均電界強度が１０ｋＶ／ｃｍ以上であり、パルス電圧のパルス幅が５マイクロ秒以下である。 （もっと読む）

【課題】大気圧プラズマにて被処理物を間欠的に処理する場合に、ガスの使用量を必要最小限に抑制しながら安定して処理を行えるようにする。
【解決手段】所定の空間にガスを供給し、前記所定の空間に高周波電圧を印加して大気圧近傍でプラズマを発生させ、プラズマ１１にて被処理物２を処理する大気圧プラズマ処理において、処理開始認識手段５からの信号にて処理開始を決定し、ガスの流量を増加させて被処理物２に対してプラズマ処理し、処理終了認識手段６からの信号にて被処理物２に対する処理終了を決定し、ガスの流量を減少させ、かつ減少させたガスの流量においてもプラズマ１１を点灯維持するようにした。 （もっと読む）

【課題】プラズマの発生により誘電体のプラズマ照射面側とその裏面の金属電極側との温度差により生ずる反り量をできるだけ低減して均一性の高いプラズマプロセス装置を提供する。
【解決手段】略Ｕ字型の誘電体３ａの側壁部分（側壁部）において、金属電極２ａとの間に隙間が開くように部分的に熱伝導率の小さい断熱材、遮熱物あるいは絶縁材料等を挟むなどの方法で調整する。略Ｕ字型の誘電体３ａの底面側（底面部）の表裏の温度差よりも、略Ｕ字型の誘電体３ａの側壁部のＺ方向（鉛直方向）の温度差を小さくして、略Ｕ字型の誘電体３ａの側壁部でのＺ方向の反りを低減する。これにより、側壁部と結合されている略Ｕ字型の誘電体３ａの底面部のＺ方向の反りを抑制する。表裏の底面部だけの温度差では生じてしまうＺ方向の反りをＵ字型の誘電体の側壁部分を用いることにより抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】水系塗液を塗布する塗布工程において、塗布条件や材料の種類に影響を受けることなく、塗膜の耳高を効果的に抑制する。
【解決手段】ウェブＷに水系塗液を塗布する方法であって、水系塗液塗布前に、ウェブＷにおいて塗膜Ｃが形成される領域の縁部Ｔのみにプラズマを照射する。 （もっと読む）

【課題】ワークの形態、形状、数等に係わらず、プラズマ処理によるワークの表面改質を均一かつ安定的に行う。
【解決手段】プラズマ処理装置１は、電極２と、電極２の下面に形成された誘電体層３と、ワーク１００を載置すると共に電極２の対向電極としての機能を併有する金属パレット４と、金属パレット４を支持する非金属製のテーブル６と、電極２に対しワーク１００をテーブル６ごとＸ方向に移動する移動手段と、プラズマ処理用のガスを供給するガス供給手段１１とを備える。金属パレット４は、ワーク１００を挿入する複数の凹部４１を有し、金属パレット４の上面４２の凹部４１以外の箇所には、誘電体材料で構成された被覆層５が形成されている。電極２、金属パレット４間に高周波電圧を印加しつつ、ワーク１００と電極２との間にガスを供給してプラズマを発生させ、ワーク１００の被処理面１０１をプラズマ処理する。 （もっと読む）

本発明は概ね、種々の液体（例えば水）の少なくとも１つの表面の内部に、且つ／又は表面に近接してエネルギー場を形成することにより、前記液体との種々の反応、及び前記液体中の種々の反応に影響を与え、これらの反応を制御し、且つ／又はこれらの反応を導く新規の方法に関する。本発明の重要な観点は、プラズマの形成であり、このプラズマは、液体表面よりも上方に配置された少なくとも１つの電極と、少なくとも１つの第２電極として機能する液体自体の表面の少なくとも一部との間に形成される。液体表面の少なくとも一部が第２電極として効果的に機能するのを可能にするために、少なくとも１つの付加的な導電電極が典型的には、前記液体内部に（例えば少なくとも部分的に前記液体内部に潜らせて）配置される。プラズマは結果として、液体の再構成、及び／又は前記液体内部の少なくとも１つの活性種の存在をもたらす。 （もっと読む）