【課題】基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、プラズマの点灯状態を正確に反映した制御や表示を可能にする。
【解決手段】プラズマ発生部３０に複数個のプラズマ発生ノズル３１が設けられていることに対応して、このプラズマ発生部３０から離間し、ワークＷの搬送の邪魔にならず、かつ総てのプラズマ発生ノズル３１を見通し可能な固定位置に、プルームＰの発光光量だけを正確に測光できるようなスポット測光手段１０１を設け、全体制御部９０のＣＰＵ９０１は、このスポット測光手段１０１を、変位手段１０２によって首振り走査させ、読取った明るさに対応して、処理ガスの流量制御弁９２３を制御する。したがって、プラズマの点灯状態を反映した制御や表示を行うことができ、またプラズマの点灯状態を検出する検出手段を、複数のプラズマ発生ノズル間で共用することができる。 （もっと読む）

【課題】基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、複雑な調整を行うことなく、リアルタイムで、プラズマ発生ノズルから放射されるプラズマエネルギーを最適値に調整できるようにする。
【解決手段】全体制御部９０のＣＰＵ９０１は、温度センサ２４によって検出されるマグネトロン２１のフィラメントの温度値に応じて、メモリ９０３に予め記憶されている最適なマイクロ波パワーを得ることができるフィラメント電流値となるように、電流センサ２５によって検出されるバイアス電源２３からフィラメントに与える電流値をフィードバック制御する。したがって、温度や経年などに対しても、フィラメント電流値を、各プラズマ発生ノズル３１から放射されるプラズマエネルギーを一定の理論値に維持することができる電流値に調整することができる。 （もっと読む）

【課題】ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、導波管が使用されることで用いられるスタブチューナやスライディングショートの調整を自動化する。
【解決手段】全体制御部９０のＣＰＵ９０１は、パワーメータ１００の各パワーメータユニット１００Ａ，１００Ｂによって測定されるプラズマ発生部３０への入射電力と反射電力との差、すなわちマイクロ波の伝搬効率が最大となるように、受信アンテナでのインピーダンス整合のために設けられるスタブチューナ７０のスタブの導波空間への出没量を調整し、また導波管１０内のマイクロ波の定在波パターンを調整するために設けられるスライディングショート４０の反射ブロックの位置を調整する。したがって、自動的に細かな調整を精度良く行うことができ、プラズマ発生ノズル３１を異なる形状のものに付け替えた場合にも、容易にプラズマ（プルームＰ）点灯させることができる。 （もっと読む）

【課題】基板の改質等、ワークの処理などに使用され、マイクロ波発生手段からのマイクロ波を導波管によってプラズマ発生ノズルに伝搬するプラズマ発生装置において、マイクロ波の漏洩に対する安全性を向上する。
【解決手段】プラズマ発生部３０の第３導波管ピース１３には、多数のプラズマ発生ノズル３１が取付けられ、その重みによる撓みによって、地震や作業ミスなどで振動や衝撃が加わると、フランジ１３Ｆ１，１３Ｆ２に隙間が生じ、マイクロ波が漏洩する可能性がある。その漏洩をマイクロ波アンテナＡ２１，Ａ２２で検出し、またシールド筐体１のワークＷの搬入口２および搬出口３からのマイクロ波の漏洩を、マイクロ波アンテナＡ１１，Ａ１２で検出し、マイクロ波発生装置２０からのマイクロ波の発生を停止させる。 （もっと読む）

【課題】金属、セラミックス、プラスチック、有機物等の物質を短時間で大量にナノ化できる超臨界装置を提供する。
【解決手段】圧力容器１の周囲に誘導コイル９、４０を巻回し、この誘導コイル９、４０に発振器１７から１３５６００Ｈｚのプラズマ波を与えて圧力容器１内をプラズマ雰囲気とするとともに炭酸ガス供給ライン８の炭酸ガスを昇圧ポンプ７で２００気圧以上にして炭酸ガスを超臨界領域として圧力容器１内に送り込み、これらの雰囲気内で処理すべき原材料ｍ及びこの原材料ｍと協働する物質を処理し製造排出ライン３４から取り出し、前記発振器１７はコントローラによって発振タイミングがコントロールされ、前記圧力容器内１は温度コントロール装置２によって所定温度に維持される。 （もっと読む）

【課題】プラズマ発生の性能を高く維持しつつ、電源設備に要する価格を低減すること。
【解決手段】真空チャンバ２内に一対の電極１０，１２が対向配置され両電極１０，１２間にプラズマ発生用電圧が印加されて両電極１０，１２の対向空間にプラズマを発生させるプラズマ発生装置であって、両電極１０，１２が軸方向に所定長さに延び、かつ、両電極１０，１２の電極面１０ａ，１２ａで囲む空間（プラズマ閉じ込め空間）１６の形状が軸方向柱状になっており、両電極１０，１２間に印加するプラズマ発生用電圧電源が低周波の交流電源２０である。 （もっと読む）

【目的】液中に形成された気泡内にプラズマを発生させ、液中に活性イオン種を浸透拡散させる液中プラズマ発生方法及び液中プラズマ発生装置を提供する。
【構成】少なくとも一方が高電圧絶縁部６ｂと１つ以上の突出部を有する高電圧電極６からなる電極対を液体１４に浸漬し、この電極対間に高繰り返しの高電圧パルスを印加して前記高電圧電極６近傍の液体をジュール加熱するとともに連続的又は断続的に沸騰気化させ、この気化泡により前記高電圧電極６の突出部先端６ｃを少なくとも包囲する気化泡領域２８を形成し、前記高電圧パルス２６による前記気化泡内の高電圧絶縁破壊放電により前記気泡内の気化物を電離（プラズマ化）して各種イオンを形成し、このプラズマ中のイオン種を前記液体１４中に浸透拡散させることを特徴とする液中プラズマ発生方法及び液中プラズマ発生装置２である。 （もっと読む）

【課題】プラズマ発生用電力の供給部やガスの供給部からの供給線路部を改良し、作業性を改善すること。
【解決手段】携帯型大気圧プラズマ発生装置と、ガス供給部、プログラマブル高周波電源部、パルスバイアス電源部及び分光分析部からなるプラズマ発生用機器・分光分析系と、これと携帯型大気圧プラズマ発生装置とを結ぶマルチフレキシブルフィーダ系Bとからなり、フィーダ系Bを、ＰＴＦＥ製ガス導入管B-2aからなるガス供給線路部B-2と、ガス導入管B-2aの外面の溝に埋め込んだ光ファイバーコンジットB-3aからなるファイバー光伝送線路部B-3と、ガス導入管B-2aに外装する電力スリーブB-1bと電力スリーブB-1bに絶縁スリーブB-1cを介して外装する接地スリーブB-1aとからなる電力供給線路部B-1と、ガス導入管B-2aの周側外面の溝に埋め込んだ単線導体からなるパルスバイアス電圧印加線路部B-4とで構成した。 （もっと読む）

ガス組成物で充填されている処理空間（５）に大気圧グロー放電プラズマを発生させる方法及びプラズマ発生装置。２つの電極（２、３）が、オン時間（ｔ_ｏｎ）の間に電力を供給するために電源（４）に接続されている。電源（４）は所定の時間より短いオン時間（ｔ_ｏｎ）で周期信号を供給するように構成されており、この所定の時間はガス組成物からのダスト凝集中心が処理空間（５）でクラスタとなるのに要する時間に実質的に相当する。本方法及び装置は、処理空間（５）の基板（６）に材料の層を堆積させるために使用することができる。
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【課題】気相中でのイオンエネルギーの制御が可能なプラズマ流源、プラズマ流発生方法、並びに前記プラズマ流に昇華したフラーレンを導入して誘導フラーレンを製造する方法及び装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波発振器１０１でマイクロ波を発振すると共に、ガス導入口１０２からアルゴンガスArを導入して、アルゴンイオンAr⁺と電子e⁻から成るプラズマを生成する。このプラズマは、石英管１０３で囲まれたイオン流形成路と、その外側のプラズマ通過路に別れて、下流側に流れる。イオン流形成路では、空間電位設定電極１０４に正の電圧を供給して、前記電極１０４近辺のプラズマの空間電位を上げる。イオン流引き出し電極１０５に負の電圧を供給することにより、電子を除去してイオン流を形成する。このイオン流とプラズマ流とを合流させたときに、所定のエネルギー有するアルゴンイオンAr+を含むプラズマ流が得られる。このプラズマ流中に昇華したフラーレンを導入することにより、アルゴン原子内包フラーレンを生成する。 （もっと読む）