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国際特許分類[H05H13/04]の内容

電気 (1,674,590) | 他に分類されない電気技術 (122,472) | プラズマ技術 (5,423) | 磁気共振型加速器;サイクロトロン (245) | シンクロトロン (178)

国際特許分類[H05H13/04]に分類される特許

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【課題】測定されるビームの状態をほとんど破壊することなく当該ビームの位置、分布および強度のうちの少なくとも一つを測定することのできるビームモニタセンサを提供する。
【解決手段】本発明に係るビームモニタセンサ1は、加速器から輸送されてくるビームを測定するために、前記ビームが輸送されるビームダクトD内に配置されるビームモニタセンサであって、前記ビームダクトD内の前記ビームの軌道O上に配置される薄膜体2と、前記薄膜体2上に形成された蛍光層3と、前記蛍光層3が形成されている面を撮影する、前記ビームの軌道O外に設けられた撮影カメラ4と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】粒子線治療装置を構成するいずれかの装置が故障しても、照射室を使用可能とする冗長化粒子線治療装置を得る。
【解決手段】 粒子線を発生させる入射器を制御する入射器制御装置1には、粒子線を加速させる加速器を制御する加速器制御装置2が接続され、加速器制御装置2には患者へ粒子線を照射する照射室を制御する複数の照射室制御装置3、4、5が接続され、さらに複数の照射室制御装置3、4、5には、それぞれ照射室制御装置を制御する制御PC6、7、8が接続され、いずれかの制御PCが故障したとき、その制御PCが接続されていた照射室制御装置は他の制御PCに接続されるように、各制御PCは、接続先の照射室制御装置を切替える指示を行う切替スイッチと、全ての照射室制御装置への接続パラメータとを有するものである。 (もっと読む)


【課題】2つの物体間の高精度位置決めを可能とする位置出し機構に関する。
【解決手段】本発明の位置出し機構は、第1部材と、第2部材と、回動操作部とを備え、第1部材は、第1ベース部と、第1ベース部から突出した第1突出部と、第1突出部に設けられた第1雄ネジ部とを有し、第2部材は、第2ベース部と、第2ベース部から突出した第2突出部と、第2突出部に設けれた第2雄ネジ部とを有し、前記回動操作部は、第1雄ネジ部及び第2雄ネジ部のそれぞれに噛み合う第1雌ネジ部及び第2雌ネジ部を有し、第1雄ネジ部と第2雄ネジ部は、ネジの向きが同じでネジピッチが互いに異なることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電子加速器を用いたレーザーコンプトン散乱によって準単色の扇形X線ビームを簡単に発生する方法及び装置を実現する。
【解決手段】磁場の向きを高速で切り替えることが出来る偏向磁石7を用いて、電子軌道に上下又は左右の偏向を与えることで軌道変形を行い、この偏向を与えることで、偏向を与えた電子軌道における点の下流において、任意の位置にノードを形成し、この位置にレーザーを集光することでレーザーコンプトン散乱によって扇型レーザーコンプトンX線ビーム1を発生させるとともに、偏向磁石7の磁場の向きを切り替え又は変調し、電子軌道の角度のみを切り替え又は変調することにより、レーザーコンプトンX線の発生方向を切り替え又は変調可能とする。 (もっと読む)


【課題】上部ビームと下部ビームの間の距離の不連続変化を防ぐことができる挿入光源用架台を提供する。
【解決手段】本発明の挿入光源用架台は、ギャップを介して対向配置された上部磁石列及び下部磁石列を備え前記上部磁石列と下部磁石列の間に入射された電子ビームに蛇行運動させることによってシンクロトロン光を発生させる挿入光源用の架台であって、前記上部磁石列を支持する上部ビームと、前記下部磁石列を支持する下部ビームと、前記下部ビームに対して前記上部ビームを上下移動させる第1移動機構と、前記下部ビームを上下移動させる第2移動機構とを備え、第1移動機構は、前記上部ビームに加わる力が前記下部ビームに伝達されるように構成されることを特徴とする。 (もっと読む)


シンクロサイクロトロンは、共振空胴を画定する磁気構造と、共振空胴に粒子を供給するイオン源と、共振空胴に高周波(RF)電圧を供給する電圧源と、RF電圧と時間とともに変化する共振空胴の共振周波数との間の位相差を検出する位相検出器と、この位相差に応答して、RF電圧の周波数が共振空胴の共振周波数と実質的に一致するように電圧源を制御する制御回路とを含む。電圧源が電圧制御発振器VCOを備え、フィードバック回路が、入力電圧の周波数と共振周波数との間の位相差を検出する位相検出器を備え、VCOが、位相差が所定値を逸脱したとき入力電圧の周波数を変化させるように構成される。
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【課題】
スポットスキャニング法などの高精度な粒子線治療に好適な照射ビームを実現する。
【解決手段】
上記課題を達成するための粒子線治療システムは、荷電粒子ビームを所定のエネルギーまで加速し、安定限界を越えた前記荷電粒子ビームを出射するシンクロトロンと、前記荷電粒子ビームを照射対象に照射する照射装置と、前記シンクロトロンから出射した前記荷電粒子ビームを前記照射装置に輸送するビーム輸送系と、前記シンクロトロンを周回する前記荷電粒子ビームの一部を除去した後、周回する他の前記荷電粒子ビームを前記シンクロトロンから出射して前記照射装置に輸送するように制御する制御装置を有する。 (もっと読む)


【課題】加速パターンの切替操作を1つのビームサイクル内で速やかに行える粒子加速器の制御装置を提供することである。
【解決手段】スーパーサイクルパターンメモリ4は、電磁石電源群1及び電磁波発生装置2に設定値を送るパターンメモリ群に対する複数のパターンデータ及び実行順序を記録し、タイミング信号発生装置6はスーパーサイクルパターンメモリ4に対してパターンデータ及び実行順序の切替タイミング信号を発生し、パターンメモリ群3に対する複数のパターンデータ及び実行順序を切り替える。整合判定部7は、パターンメモリ群3のパターンデータの切り替えが完了したことを判定し、パターンメモリ群3のパターンデータの切り替えが完了したことを確認して加速運転を継続する。 (もっと読む)


【課題】炭素製の荷電変換薄膜の作成および取り扱いを容易にすること。
【解決手段】陽子ビームが周回する周回軌道(11)が内部に形成された加速器本体(2)と、前記加速器(1)に荷電粒子としての負極性水素イオンビームを、前記加速器本体(2)内に入射する入射部(3)と、前記入射部(3)から入射された前記負極性水素イオンビームの入射軌道(11b)上に配置され、前記負極性水素イオンビームから電子を剥離して陽子ビームに変換するカーボンナノチューブ薄膜により構成された荷電変換薄膜(16)と、を備えた粒子加速器(1)。 (もっと読む)


【課題】小型小径のベローズ内への設置が容易であり且つベローズの軸直角方向の変位に対する許容量が大きいRFコンタクトを提供する。
【解決手段】本発明のRFコンタクトは、筒状の本体部と、前記本体部の一端から延び且つ前記本体部の外周に沿って配置された複数の第1フィンガと、前記本体部の他端から延び且つ前記本体部の外周に沿って配置された複数の第2フィンガとを備え、第1フィンガ及び第2フィンガは、それぞれ、軸直角方向外側に突出する突出部を有する。 (もっと読む)


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