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国際特許分類[H05K3/06]の内容

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電気分解により除去されるもの

国際特許分類[H05K3/06]に分類される特許

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【課題】光感度、テント信頼性、密着性及び解像度に優れた感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、プリント配線板の製造方法、リードフレームの製造方法およびプリント配線板の提供。
【解決手段】(A)バインダーポリマー、(B)エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する光重合性化合物、(C)光重合開始剤、及び(D)増感色素、を含有し、上記(B)成分がジペンタエリスリトール由来の骨格を有する(メタ)アクリレート化合物を含み、上記(D)成分がピラゾリン化合物を含む感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】層間接続の導通信頼性を高めつつ高密度配線による高精細な回路パターンを簡易な方法で形成する。
【解決手段】両面銅張積層板3に貫通穴4を設け、全面をめっきした上でスルーホール部10の形成箇所に第1のエッチングレジスト7を形成し、エッチングによりスルーホール部10の形成箇所以外のめっき層6を除去する。その後、両面銅張積層板3の全面に第2のエッチングレジスト8を形成し、レジストパターンを形成したら銅箔2に配線パターン9を形成する。 (もっと読む)


【課題】少なくとも(a)基板上に光架橋性樹脂層を形成する工程、(b)光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行う工程、(d)回路パターンの露光工程、(e)現像工程を含むレジストパターンの作製方法において、搬送工程や露光工程で光架橋性樹脂層表面に傷や異物の付着がなく、密着露光を行ってもフォトツールを汚染しないレジストパターンの作製方法を提供することである。また、光架橋性樹脂層に段差があっても、段差周囲で光の屈折による線太りや酸素による重合阻害を生じることのないレジストパターンの作製方法を提供することである。
【解決手段】(b)光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行う工程の後に、(f)透明性フィルムと非感光性のアルカリ可溶性粘着層が積層したマスキングフィルムを光架橋性樹脂層上に貼り付ける工程を含み、(c)回路パターンの露光工程後に、(g)透明性フィルムを除去する工程を含むレジストパターンの作製方法。 (もっと読む)


【課題】基板と感光性フィルム間の密着力を阻害する異物の発生を最小化してラミネーティングを容易に実施するようにしたラミネーターを提供する。
【解決手段】基板1を垂直駆動方式で供給する基板供給部10;前記基板1にラミネートされる感光性フィルム2を供給するためのフィルム供給部20;及び前記基板1に感光性フィルム2をラミネートするための圧着部30を含む。前記基板供給部10は、垂直方向に配置されたクランプローラー11;前記クランプローラーによる基板の移送位置を検出するセンサー12;及び前記クランプローラー11によって移送される基板1を圧着部30に案内するガイドパネル13を含む。 (もっと読む)


【課題】レジスト欠損を充分に低減することが可能であり、かつ、パターン形成における優れた現像性及び解像度を有する感光性エレメントを提供すること。
【解決手段】支持フィルムと、上記支持フィルム上に形成された感光性樹脂組成物層と、を備える感光性エレメントであって、上記支持フィルムのヘーズが0.01〜2.0%であり、かつ、上記支持フィルムに含まれる直径5μm以上の粒子及び直径5μm以上の凝集物の総数が、5個/mm以下であり、上記感光性樹脂組成物層が、バインダーポリマー、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物及び光重合開始剤を含有し、上記バインダーポリマーは、酸価xが60〜130mgKOH/gであり、重量平均分子量Mwが下記式(I)で表される関係を満足する、感光性エレメント。
10000≦Mw<4000e0.02x (I) (もっと読む)


【課題】絶縁層に対して強固に密着した微細な配線導体を有する配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】絶縁層1の表面に算術平均粗さRaが300nm以下の粗化面1aを形成し、次に粗化面1aに無電解銅めっき層2を被着させ、次に無電解銅めっき層2の表面を黒化処理し、次に黒化処理された表面にドライフィルムレジスト3を貼着するとともに配線導体6のパターンに対応する開口を有するように露光および現像してめっきレジスト層3Aを形成し、次にめっきレジスト層3Aの開口内の無電解銅めっき層2上に電解銅めっき層5を配線導体6に対応するパターンに被着させ、次に無電解銅めっき層2上からめっきレジスト層3Aを剥離し、次に電解銅めっき層5および無電解銅めっき層2を、配線導体6のパターン間の無電解銅めっき層2が消失するまでエッチング処理することにより配線導体6を形成する。 (もっと読む)


【課題】製造効率の優れたマスク形成方法および基板加工方法を提供すること。
【解決手段】基板上のマスク前駆層表面に硬質物質を供給し、所定のパターンが形成された金型を使用して、前記硬質物質を介し、マスク前駆層に押圧すると共に超音波を印加することでマスク前駆層を直接加工しマスク形成する。この方法により、従来フォトリソグラフィーにより行なっていた一連のマスク形成工程が不要となる。これによって、工程数の少ないマスク形成方法を提供することができ、補材や、エネルギーの消費量を低減することもできる。従って、製造効率の優れたマスク形成方法を提供することができる。また、当該方法によって形成されたマスクを用いることで、製造効率の優れた基板加工方法を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】回路パターンを良好なファインピッチで形成することができるプリント配線板用回路基板の形成方法を提供する。
【解決手段】プリント配線板用回路基板の形成方法は、白金、パラジウム、及び、金のいずれか1種以上を含み、白金の付着量が1050μg/dm2以下、パラジウムの付着量が600μg/dm2以下、金の付着量が1000μg/dm2以下である被覆層を表面に備えた銅箔又は銅層と、樹脂基板との積層体を準備する工程と、積層体の被覆層表面にレジストパターンを形成する工程と、レジストパターンを形成した積層体の被覆層表面を、1.6cSt以上の動粘度を有する塩化第二鉄系エッチング液、又は、0.8cSt以上の動粘度を有する塩化第二銅系エッチング液を用いてエッチングする工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】本発明は、配線間隔を狭くすることができ、微細化に適した回路基板を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、絶縁層と、上記絶縁層上に形成された配線層とを有する回路基板であって、上記配線層が、第一配線部と、上記第一配線部の側面にめっき法により形成された第二配線部とを有し、上記第一配線部および上記第二配線部の頂面の位置が一致していることを特徴とする回路基板を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】
感光性樹脂のフォトマスクとして使用した時に、耐傷性と耐溶剤性が十分に高く、未硬化の液状感光性樹脂と接触しても傷が付いたりそのモノマーや溶剤によって侵されることがなく、また感光性樹脂が付着することもない、長時間繰り返し使用することができ耐久性が高いフォトマスクとして好適なジアゾ感光フィルムを提供する。
【解決手段】
透明支持体上に、(A)バインダー、(B)架橋剤、(C)ジアゾ化合物、及びジアゾ化合物と反応して発色する(D)カプラー成分からなる感光層を設けたジアゾ感光フィルムにおいて、該(A)成分が水酸基含有量3〜7質量%のセルロースエステル(A−1)、該(B)成分が低級アルキル化尿素樹脂(B−1)であり、その硬化物である架橋化セルロースエステル樹脂の分子量が30000以上であることを特徴とするジアゾ感光フィルム。 (もっと読む)


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