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国際特許分類[H05K3/18]の内容

国際特許分類[H05K3/18]に分類される特許

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【課題】 ソルダレジスト等の表面樹脂層を備える回路形成基板の回路等に金めっきを行うときに用いるめっきレジストで、表面樹脂層上にレジストを形成させる際、十分な形状追従性やはく離性を得ることが可能な感光性樹脂組成物、感光性エレメント、プリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 (A)成分:バインダーポリマー(B)成分:光重合性化合物、及び(C)成分:光開始剤を含有する感光性樹脂組成物であって、(A)成分として、(メタ)アクリル酸20〜30質量%及び(メタ)アクリル酸アルキルエステル70〜80質量%からなる重量平均分子量80,000〜120,000のバインダーポリマーを含み、かつ、上記(B)成分として、ビスフェノールA系(メタ)アクリレート化合物、アルコキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート化合物、及びノニルフェニルポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート化合物を含む、感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、吐出安定性に優れたインクを用い、基板との密着性、細線再現性及び導電性に優れた金属パターンの形成に用いる触媒パターンを製造する触媒パターン製造方法及びそれを用いた金属パターン製造方法を提供することにある。
【解決手段】無電解めっき触媒前駆体を含有するインクを用いて、基板上にパターン部を形成する形成工程と、該パターン部を還元液に浸漬して無電解めっき触媒前駆体を還元する還元工程を有する触媒パターン製造方法において、前記形成工程と還元工程の間に該パターン部の乾燥工程および酸性溶液による洗浄工程を含むことを特徴とする触媒パターン製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、めっき太りを抑制し、めっき性が低下しない金属パターン製造方法及び金属パターンを提供することにある。
【解決手段】基板上に、無電解めっきの触媒前駆体を含有するインクを用いてパターン部を形成し、活性化処理にて該パターン部の該触媒前駆体を無電解めっきの触媒に変換して、無電解めっき処理によって金属パターンを形成する製造方法において、洗浄液に対する該触媒前駆体の溶解度が0.5g/L以下である洗浄液で洗浄し、前記活性化処理を行うことを特徴とする金属パターン製造方法。 (もっと読む)


【課題】高解像密着性のレジストパターンを与えるドライフィルムレジストロールの提供。
【解決手段】感光性樹脂積層体が巻き芯に巻かれてなるドライフィルムレジストロールであって、該感光性樹脂積層体が、支持体(A)、感光性樹脂層(B)及び保護層(C)を、この順で位置するように有し、該感光性樹脂層(B)が、(a)カルボキシル基を含有する熱可塑性重合体20〜90質量%、(b)分子内に少なくとも1つの重合可能なエチレン性不飽和結合を有する付加重合性モノマー5〜75質量%、及び(c)光重合開始剤0.01〜30質量%を含み、該保護層(C)の自由体積が0.2nm3未満であり、該巻き芯にかかる内部圧力が0.1MPa以上である、ドライフィルムレジストロール。 (もっと読む)


【課題】本発明の第一の目的は、上記実情に鑑みて、金属膜(めっき膜)との密着性に優れたポリマー層を所望のパターン状に形成することができ、高い連続吐出安定性を示すインクジェットインクを提供することにある。
【解決手段】めっき触媒又はその前駆体と相互作用を形成する官能基と重合性官能基とを含有するポリマーと、ポリマーを溶解又は分散させる、1種又は2種以上の溶媒とを含むインクジェットインク。 (もっと読む)


【課題】 触媒付与等の前処理工程や乾燥工程などが不要で、工程が少なく、配線基板を安価で生産性良く製造する方法を提供する。
【解決手段】 基板上に金属膜を形成する金属膜形成工程と、金属膜を所望形状の配線パターンとする配線パターン形成工程とを備え、前記金属膜形成工程において、基板と金属の前駆体と触媒成分と還元剤成分とを、超臨界または亜臨界流体中に共存させて処理することにより、前記基板に金属膜を形成することを特徴とする配線基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】めっき部形成時におけるレジストマスクの形成・剥離が不要であり、めっき漏れを抑制でき、めっき部の厚さのバラつきを低減し、かつ、めっきロスの少ない支持枠付回路基板の提供。
【解決手段】支持枠11の内部開口領域12で回路基板10および支持枠11が一体化している支持枠付回路基板であって、回路基板10は、金属支持基板1と、金属支持基板1上に形成された絶縁層2と、絶縁層2上に形成された配線層3と、配線層3および絶縁層2を覆うカバー層4と、カバー層4に覆われていない配線層3の表面上に形成されためっき部6とを有し、上記支持枠11は、金属支持基板1と、金属支持基板1上に形成された絶縁層2と、絶縁層2上に形成された導体層7と、導体層7上に形成され、カバー層4と同一の材料から構成される保護層8とを有することを特徴とする支持枠付回路基板。 (もっと読む)


【課題】導電層の表面上に銅を堆積させる銅めっき浴を提供する。
【解決手段】めっき浴は、特定のベンゾイミダゾールと特定のエポキシド含有化合物との反応生成物である平滑化剤を含み、ある範囲の電解質濃度にわたって、基体表面上に実質的に平坦な銅層を堆積させる。 (もっと読む)


【課題】流体を全体として均一に噴射し得る流体噴射装置及び方法を提供する
【解決手段】流体の噴射方向が変更可能な複数の可動ノズル26が設けられたマニホールド16を有する噴射ヘッド22a、22bと、マニホールドに流体を供給する流体供給手段35と、可動ノズルを揺動させるための揺動力を発生する揺動力発生手段46と、揺動力発生手段により発生された揺動力を可動ノズルに伝達する揺動力伝達手段18とを有している。 (もっと読む)


【課題】PCBの製造に使用される銅電気めっき浴において、浴の均一電着性に影響を及ぼさずに、すなわち、浴が効果的にブラインドバイアおよびスルーホールを充填しつつ、平滑な銅堆積物を可能とする銅電気めっき浴を提供する。
【解決手段】平滑化剤として、1種以上の特定の窒素含有化合物および1種以上の特定のエポキシド含有化合物との反応生成物を含み、銅イオン源、電解質を含む、導電層の表面上に銅を堆積させる銅電気めっき浴。 (もっと読む)


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