偽造防止用表示体、その貼着ラベル、転写箔及び真偽判定方法
【課題】偏光技術を用いた潜像を偽造が困難な潜像形成体を提供する。
【解決手段】第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸とがなす角を二等分する第1直線に対して、第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸と第1直線とがなす角度と第4領域もしくは第4偏光潜像部の第4遅相軸又はこれに直交する軸と第1直線とがなす角度とは互いに等しく、第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と第4領域もしくは第4偏光潜像部の第1遅相軸とがなす角を二等分する第2直線に対して第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸と第2直線とがなす角度と、第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸又はこれに直交する軸と前記第2直線とがなす角度とは互いに等しい。
【解決手段】第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸とがなす角を二等分する第1直線に対して、第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸と第1直線とがなす角度と第4領域もしくは第4偏光潜像部の第4遅相軸又はこれに直交する軸と第1直線とがなす角度とは互いに等しく、第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と第4領域もしくは第4偏光潜像部の第1遅相軸とがなす角を二等分する第2直線に対して第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸と第2直線とがなす角度と、第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸又はこれに直交する軸と前記第2直線とがなす角度とは互いに等しい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、物品の偽造防止及び真贋判定を行うための隠し文字や隠しパターンを、フィルタを用いることによって表示させることを目的とした潜像を用いた偽造防止媒体に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、銀行券、商品券、パスポートなどの有価証券や認証媒体は、偽造防止対策として偽造の困難な媒体の貼付を行ってきた。そこでは、目視による判定(オバート機能)または検証器を用いた判定(コバート機能)により真贋判定を行っている。
【0003】
しかし、目視により真贋判定が行える偽造防止媒体は偽造されやすい。そこで、近年では、偏光技術を用いた潜像技術が提案され、偏光フィルムを重ねることにより潜像を出現させ真贋判定を行っていることが多い。
【0004】
しかし、この場合の潜像デバイスの真贋判定にあっては、偏光フィルム等の専用の検証器が必要になる。通常、小売業者もしくはサービス業者は消費者から受け取る近県やチケットを想定して、真贋判定用の検証器を準備し、真贋判定を行うことは出来る。しかし、一般消費者はこれらの状況を想定して事前に検証器を入手しているとは考えにくく、真贋判定を行うことが出来ない。
【0005】
そこで、この問題を解決するために、特許文献1では互いに重なり合うように記録された複数の潜像を優れたコントラスト比で可視化することができる表示体を提案している。以下に上記先行技術特許を示す。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特開2009-258151号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
しかしながら、偏光技術を用いて潜像を形成した潜像形成体であっても、時間の経過、技術の進歩等にともない、偽造されてしまう可能性があり、それが問題となっている。
【0008】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、偏光技術を用いた潜像を、単純な画像ではなく複雑な画像にする等、画像自体に工夫を凝らし、さらに偽造が困難な潜像形成体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明の第1側面によると、面内方向に隣り合い、前記面内方向における遅相軸の向きが互いに異なっている第1乃至第4領域を含んだ位相差層を具備し、前記領域のいずれか2つ以上の領域が、偏光潜像部と偏光背景部を有し、該偏光潜像部は、網点で構成され且つ網点背景部と網点潜像部とを有し、該網点潜像部を構成する網点と、該網点背景部を構成する網点とは、網点角度、ピッチ、網点位相のいずれか1つ以上が異なることを特徴とする領域があり、前記第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と前記第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸とがなす角を二等分する第1直線に対して、前記第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸と前記第1直線とがなす角度と、前記第4領域もしくは第4偏光潜像部の第4遅相軸又はこれに直交する軸と前記第1直線とがなす角度とは互いに等しく、前記第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と前記第4領域もしくは第4偏光潜像部の第1遅相軸とがなす角を二等分する第2直線に対して、前記第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸と前記第2直線とがなす角度と、前記第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸又はこれに直交する軸と前記第2直線とがなす角度とは互いに等しいことを特徴とする表示体を提供する。
【0010】
本発明の第2側面によると、面内方向に隣り合い、前記面内方向における遅相軸の向きが互いに異なっている第1乃至第4領域を含んだ位相差層を具備し、前記領域のいずれか2つ以上の領域が、偏光潜像部と偏光背景部を有し、該偏光潜像部が、万線で構成され且つ万線背景部と万線潜像部とを有し、該万線潜像部を構成する万線と、該万線背景部を構成する万線とは、万線角度、ピッチ、万線位相のいずれか1つ以上が異なることを特徴とする領域があり、前記第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と前記第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸とがなす角を二等分する第1直線に対して、前記第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸と前記第1直線とがなす角度と、前記第4領域もしくは第4偏光潜像部の第4遅相軸又はこれに直交する軸と前記第1直線とがなす角度とは互いに等しく、前記第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と前記第4領域もしくは第4偏光潜像部の第1遅相軸とがなす角を二等分する第2直線に対して、前記第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸と前記第2直線とがなす角度と、前記第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸又はこれに直交する軸と前記第2直線とがなす角度とは互いに等しいことを特徴とする表示体を提供する。
【0011】
本発明の第3側面によると、前記位相差層の面内方向において、前記位相差層の主面に平行な第3直線に対して、前記第1遅相軸がなす角度を第1角度θ1とし、前記第2遅相軸がなす角度を第2角度θ2とし、前記第3遅相軸がなす角度を第3角度θ3とし、及び前記第4遅相軸がなす角度を第4角度θ4としたときに、前記第1角度θ1と前記第2角度θ2と前記第3角度θ3と前記第4角度θ4と整数L、M及びNとは、関係式
θ2=θ1+22.5゜+90゜×L、
θ3=θ1+45゜+90゜×M、及び
θ4=θ1+67.5゜+90゜×N
を満たしていることを特徴とする請求項1に記載の表示体を提供する。
【0012】
本発明の第4側面によると、前記位相差層と向き合った反射層を更に具備したことを特徴とする請求項1乃至3に記載の表示体を提供する。
【0013】
本発明の第5側面によると、前記位相差層と向き合った偏光層を更に具備したことを特徴とする請求項1乃至3に記載の表示体を提供する。
【0014】
本発明の第6側面によると、前記偏光層と向き合った吸収層を更に具備したことを特徴とする請求項5に記載の表示体を提供する。
【0015】
本発明の第7側面によると、請求項1乃至6の何れか1項に記載の表示体と、前記表示体上に設けられた粘着層とを具備したことを特徴とする粘着ラベルを提供する。
【0016】
本発明の第8側面によると、請求項1乃至6の何れか1項に記載の表示体と、前記表示体を剥離可能に支持した支持体層とを具備したことを特徴とする転写箔を提供する。
【0017】
本発明の第9側面によると、請求項1乃至8の何れか1項に記載の表示体に偏光シートを重ね、偏光潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする表示体の真偽判定方法を提供する。
【0018】
本発明の第10側面によるとさらに網点もしくは万線パターンからなる顕像化用パターンを形成してなる顕像化用シートを重ね、網点潜像もしくは万線潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする請求項9に記載の表示体の真偽判定方法を提供する。
【0019】
本発明の第11の側面によると、請求項1乃至9のいずれか1項に記載の表示体に、検証デバイスを重ね、偏光潜像及び網点潜像もしくは万線潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする表示体の真偽判定方法を提供する。
【発明の効果】
【0020】
本発明によれば、互いに重なり合うように記録された複数の潜像を優れたコントラスト比で可視化することができるようになり、さらに顕像化した偏光潜像部が網点潜像部と網点背景部、もしくは万線潜像部と万線背景部を有するため、顕像化用パターンが形成された顕像化用シートを重ねると、網点潜像、もしくは万線潜像が顕像化され、さらに偽造が困難で、且つ施した全ての潜像に気づかれ難い表示体が実現される。
【図面の簡単な説明】
【0021】
【図1】本発明の実施形態に係る表示体の断面図である。
【図2】請求項4に対応する発明の施形態に係る表示体の断面図である。
【図3】請求項5に対応する発明の実施形態に係る表示体の断面図である。
【図4】図1に示す表示体を概略的に示す平面図である。
【図5】図1に示す表示体に記録されている潜像を概略的に示す平面図である。
【図6】図1に示す表示体に記録されている潜像を概略的に示す平面図である。
【図7】図4に示す潜像の偏光潜像部の一実施形態の例を示す拡大模式図であり、(a)は偏光潜像部、(b)は網点背景部、(c)は網点潜像部を示している。
【図8】本発明で使用している網点の角度、ピッチ及び位相について説明するための図である。
【図9】一対の偏光フィルタ間に表示体を挟んでこれを観察した場合に表示される像を示す平面図である。
【図10】一対の偏光フィルタ間に表示体を挟んでこれを観察した場合に表示される像を示す平面図である。
【図11】一対の偏光フィルタ間に表示体を挟んでこれを観察した場合に表示される像を示す平面図である。
【図12】一対の偏光フィルタ間に表示体を挟んでこれを観察した場合に表示される像を示す平面図である。
【図13】本発明における検証フィルタの断面図である。
【図14】図11に示す検証フィルタを用いて、表示体の検証を行ったときの潜像の一例である。
【図15】本発明における検証フィルタの断面図である。
【図16】図13に示す検証フィルタを用いて、表示体の検証を行ったときの潜像の一例である。
【図17】本発明における一例の検証フィルタの断面図である。
【図18】図15に示す検証フィルタを用いて、表示体の検証を行ったときの潜像の一例である。
【図19】(a)〜(d)はいずれも本発明に用いるマスクの一例を概略的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0022】
以下、図面を参照して、本発明に係る偽造防止媒体及びその偽造防止媒体の製造方法等についての実施形態を説明する。
【0023】
図1は本発明の一実施形態における表示体の断面図である。図1に示した表示体10は、支持体12上に積層する位相差層11を具備している。図2に示した他の実施形態における表示体10は、支持体12上に順次積層する反射層13及び位相差層11を具備したものである。図3に示した更に他の実施形態における表示体10は、支持体12上に順次積層する偏光層14及び位相差層11を具備している。これらの表示体10には少なくとも2つの画像、即ちここでは第1画像P1及び第2画像P2が潜像として記録されている。
【0024】
図4に示すように、位相差層11は、面内方向に隣り合った少なくとも4つの領域A1乃至A4を含んでいる。ここで、第1領域A1は、図6に示す第2画像P2のうち図5に示す第1画像P1と重なり合っていない部分に対応した領域である。第2領域A2は、第1画像P1及び第2画像P2の何れも記録されていない部分に対応した領域である。第3領域A3は、第1画像P1のうち第2画像P2と重なり合っていない部分に対応した領域である。第4領域A4は、第1画像P1と第2画像P2とが重なり合った部分に対応した領域である。
【0025】
また、詳細については後述するが、前記領域A1乃至A4は、図7に示すような偏光潜像部と偏光背景部を有していても良い。さらに、本発明における偏光潜像部は、微細な網点もしくは万線等の模様で構成されていてもよい。
【0026】
領域A1乃至A4は、面内方向における遅相軸の向きが互いに異なっている。本態様では、第1遅相軸と第2遅相軸とがなす角を二等分する第1直線L1に対して、第3遅相軸と第1直線L1とがなす角度と、第4遅相軸又はこれに直交する軸と第1直線L1とがなす角度とは互いに等しい。また、第1遅相軸と第4遅相軸とがなす角を二等分する第2直線L2に対して、第2遅相軸と第2直線L2とがなす角度と、第3遅相軸又はこれに直交する軸と第2直線L2とがなす角度とは互いに等しい。
【0027】
ここで、2つの角度について「等しい」というときには、両者が厳密に等しい場合のみならず、両者が人間の視覚によってこの場合と同一視できるような光学効果をもたらす関係にある場合をも包含するものとする。例えば、これら2つの角度は、約−5゜乃至約5゜の誤差範囲内で一致していればよい。
【0028】
位相差層11の位相差値は、所定の設計波長に対して、約二分の一波長であることが好ましい。この設計波長は、例えば、観察者又は読取装置が最も高い感度で認識又は検出できる波長とする。例えば、表示体を肉眼で観察する場合には、可視光のうち最も視認性が高い緑色光に対応した波長を設計波長としてもよい。或いは、潜像の存在を悟られ難くするために、より視認性の低い波長を設計波長としてもよい。
【0029】
位相差層11の位相差値を約二分の一波長とした場合、位相差層に直線偏光を入射させると、直線偏光の偏光軸は、位相差層の遅相軸に対して反転する。すなわち、入射光の偏光軸と位相差層の遅相軸とがなす角度をθとすると、入射光の偏光軸と透過光の偏光軸とがなす角度は2θとなる。
【0030】
このとき、表示体10を平行ニコル下で観察した場合を考える。ここで、位相差層の入射光の強度を100とし、検光子となる偏光フィルタの理論的な限界透過率50%を用いると、表示体10の透過率Tは、次式で与えられる。
【数1】
【0031】
上述した通り、本態様では、位相差層に含まれている領域A1乃至A4は、面内方向における遅相軸の向きが互いに異なっている。したがって、位相差層に直線偏光を入射させ、偏光フィルタを介して観察した場合、領域A1乃至A4の透過率は、上式にしたがって互いに異なりうる。即ち、領域A1乃至A4の透過率の差異に基づいて、表示体上に可視像を表示させることが可能となる。なお、表示体を、偏光フィルタを介さずに観察した場合には、表示体上に視認可能な画像は表示されない。
【0032】
表示体が表示する画像は、例えば、偏光フィルタの偏光軸の向きを面内方向で回転させることにより、以下に説明するように変化する。
【0033】
第1遅相軸がX軸となす角度を第1角度θ1とし、第2遅相軸がX軸となす角度を第2角度θ2とし、第3遅相軸がX軸となす角度を第3角度θ3とし、第4遅相軸がX軸となす角度を第4角度θ4とする。
【0034】
ここでは、一例として、角度θ1乃至θ4は、関係式
θ2=θ1+22.5゜+90゜×L、
θ3=θ1+45゜+90゜×M、及び
θ4=θ1+67.5゜+90゜×N
を満たしているとする。なお、L、M及びNは、任意の整数である。
【0035】
以下では、上式において、θ1=0゜、L=0、M=−1及びN=0とした場合、すなわち、θ1=0゜、θ2=22.5゜、θ3=−45゜及びθ4=67.5゜とした場合を例として説明する。
【0036】
以下、平行ニコルの状態で配置された一対の偏光フィルタの偏光軸と、X軸とがなす角度、すなわち入射及び出射させる直線偏光の偏光軸とX軸とがなす角度をθPとする。また、領域A1乃至A4における透過率をそれぞれT1乃至T4とする。
【0037】
まず、θP=11.25゜の場合を考える。このとき、偏光フィルタの偏光軸は、第1遅相軸(θ1=0゜)と第2遅相軸(θ2=22.5゜)との角の二等分線に平行である。また、偏光フィルタの偏光軸と第3遅相軸(θ3=−45゜)とがなす角度は、偏光フィルタの偏光軸と第4遅相軸(θ4=67.5゜)とがなす角度と等しい。
【0038】
この場合、偏光フィルタの偏光軸と第1遅相軸とがなす角度は、|θP−θ1|=11.25゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第2遅相軸とがなす角度は、|θP−θ2|=11.25゜である。したがって、第1領域A1及び第2領域A2における透過率は、上式よりT1=T2=47.2%となる。
【0039】
一方、偏光フィルタの偏光軸と第3遅相軸とがなす角度は、|θP−θ3|=56.25゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第4遅相軸とがなす角度は、|θP−θ4|=56.25゜である。したがって、第3領域A3及び第4領域A4における透過率は、T3=T4=7.3%となる。
【0040】
したがって、透過表示において、領域A1及びA2はネガティブ像として観察され、領域A3及びA4はポジティブ像として観察される。すなわち、表示体10は、図9のように第1画像P1をポジティブ画像として表示させる。
【0041】
次に、θP=33.75゜の場合を考える。このとき、偏光フィルタの偏光軸は、第1遅相軸(θ1=0゜)と第4遅相軸(θ4=67.5゜)との角の二等分線に平行である。また、偏光フィルタの偏光軸と第2遅相軸(θ2=22.5゜)とがなす角度は、偏光フィルタの偏光軸と第3遅相軸に直交する軸(θ3+90゜=45゜)とがなす角度と等しい。
【0042】
この場合、偏光フィルタの偏光軸と第1遅相軸とがなす角度は、|θP−θ1|=33.75゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第4遅相軸とがなす角度は、|θP−θ4|=33.75゜である。したがって、第1領域A1及び第4領域A4における透過率は、T1=T4=7.3%となる。
【0043】
一方、偏光フィルタの偏光軸と第2遅相軸とがなす角度は、|θP−θ2|=11.25゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第3遅相軸とがなす角度は、|θP−θ3|=78.75゜である。したがって、第2領域A2及び第3領域A3における透過率は、T2=T3=47.2%となる。
【0044】
したがって、透過表示において、領域A1及びA4はポジティブ像として観察され、領域A2及びA3はネガティブ像として観察される。すなわち、表示体10は、図10のように第2画像P2をポジティブ画像として表示させる。
【0045】
次いで、θP=56.25゜の場合を考える。この場合、偏光フィルタの偏光軸と第1遅相軸とがなす角度は、|θP−θ1|=56.25゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第2遅相軸とがなす角度は、|θP−θ2|=33.75゜である。したがって、第1領域A1及び第2領域A2における透過率は、T1=T2=7.3%となる。
【0046】
一方、偏光フィルタの偏光軸と第3遅相軸とがなす角度は、|θP−θ3|=78.75゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第4遅相軸とがなす角度は、|θP−θ4|=11.25゜である。したがって、第3領域A3及び第4領域A4における透過率は、T3=T4=47.2%となる。
【0047】
したがって、透過表示において、領域A1及びA2はポジティブ像として観察され、領域A3及びA4はネガティブ像として観察される。すなわち、表示体10は、図11のように第1画像P1をネガティブ画像として表示させる。
【0048】
最後に、θP=78.75゜の場合を考える。この場合、偏光フィルタの偏光軸と第1遅相軸とがなす角度は、|θP−θ1|=78.75゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第4遅相軸とがなす角度は、|θP−θ4|=11.25゜である。したがって、第1領域A1及び第4領域A4における透過率は、T1=T4=47.2%となる。
【0049】
一方、偏光フィルタの偏光軸と第2遅相軸とがなす角度は、|θP−θ2|=56.25゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第3遅相軸とがなす角度は、|θP−θ3|=56.25゜である。したがって、第2領域A2及び第3領域A3における透過率は、T2=T3=7.3%となる。
【0050】
したがって、透過表示において、領域A1及びA4はポジティブ像として観察され、領域A2及びA3はネガティブ像として観察される。すなわち、表示体10は、図12のように第2画像P2をネガティブ画像として表示させる。
【0051】
このように、表示体は、観察に用いる偏光フィルタの偏光軸の角度θPを変化させることにより、第1画像P1のポジティブ画像、第2画像P2のポジティブ画像、第1画像P1のネガティブ画像及び第2画像P2のネガティブ画像を表示させることができる。
【0052】
さらに、図7に示すように、前記領域A1乃至A4の2つもしくは3つの領域において、偏光潜像部と偏光背景部を有し、前記偏光潜像部が、網点もしくは万線で構成され、且つ、網点もしくは万線背景部と、網点もしくは万線潜像部とを有していることが好ましい。
【0053】
また、画像が網点もしくは万線で構成される領域の組み合わせとしては、第2画像P2を構成している領域A1と領域A4の組み合わせであるか、第1画像P1を構成している領域A3と領域A4の組み合わせであるか、第1画像P1および第2画像P2を構成している領域A1と領域A3と領域A4の組み合わせであることが好ましい。
【0054】
網点もしくは万線潜像部を形成する網点もしくは万線と、網点もしくは万線背景部を形成する網点もしくは万線とは、網点の大きさ、万線の太さ、角度、ピッチ及び位相のいずれか1つ以上が異なっている。なお、偏光潜像部を形成している網点もしくは万線は、デザインに支障がない程度の微細な点となっているので、偏光潜像として顕像化していても、視覚上では、網点もしくは万線模様として確認することはできない。
【0055】
網点の形状としては、角ドット状、丸ドット状、網ドット状、格子ドット状、またはこれらの組み合わせによるドット状等が挙げられる。
【0056】
ここで、網点を例に角度、ピッチ及び位相について説明しておく。本発明における網点の角度は図8(a)のφを指し、規則的に並んでいる網点の傾きを表す。網点のピッチは図8(a)のDを指し、1つの網点から隣の最近接している網点までの距離を表している。また、ピッチD内での網点部と非網点部の比率を網点比率と呼ぶ。
【0057】
一方で、網点の位相とは、図8(b)のkを指し、規則的に並んでいる網点の周期を表している。図8(b)では、網点Aと網点Bは、位相がgだけずれている状態を示している。
【0058】
網点の大きさ及び万線の太さは、小さすぎても大きすぎても顕像化用シートを重ねた際に網点潜像が視認しづらくなるので、10〜1000μmの範囲、好ましくは10〜500μmに設定することが望ましい。また、網点比率(=網点部/(網点部+非網点部))、万線比率(=万線部/(万線部+非万線部))は任意に設定してもよいが、1/10〜9/10の範囲で、好ましくは1/3〜2/3に設定することが好ましい。さらに好ましくは比率が1/2である。よって、ピッチは20〜2000μm、好ましくは20〜1000μmの範囲に設定することが好ましい。
【0059】
顕像化用シートを重ねて回転させ、網点もしくは万線潜像を顕像化するためには、網点もしくは万線背景部と網点もしくは万線潜像部とで、網点の大きさ、万線の太さ、角度、ピッチ及び位相のいずれか1つ以上が異なる網点もしくは万線パターンを使用すれば良い。ただし、それぞれが近似しすぎていると網点もしくは万線潜像が見えづらくなるので考慮する。
【0060】
図7は、網点で構成された偏光潜像部を示したものである。ただし、図7においては、説明のために、網点を大きくし、ピッチも広くしている。図7(a)は、網点潜像部と網点背景部とが合わさった偏光潜像部であり、図7(b)はそのうち網点背景部のみを、図7(c)は網点潜像部のみを切り出して示す図である。
【0061】
図7に示した偏光潜像部は、網点潜像部と網点背景部を形成する網点が、同一ピッチ及び同一網点比率で、異なる角度で設けられている。X軸に対して網点潜像部と網点背景部の網点角度が、0°、30°となっている。このために、顕像化シートを用いた場合、0°方向で網点潜像のネガティブ画像が、30°方向で網点潜像のポジティブ画像が現れることになる。
【0062】
次に、例えば、第2画像P2つまり領域A1と領域A4が偏光潜像部と偏光背景部で構成され、偏光潜像部が前述のように網点角度が30°異なる網点で構成されている場合について説明を行う。
【0063】
前述のように、本発明における表示体10は、表示体10に偏光フィルタを翳し、X軸との角度をθP=11.25°、33.75°、56.25°、78.75°と順に変化させたときに、第1画像P1のポジティブ画像、第2画像P2の偏光潜像部のポジティブ画像、第1画像P1のネガティブ画像、第2画像P2の偏光潜像部のネガティブ画像と順に出現する。
【0064】
また、偏光フィルタの角度をθP=33.75゜に固定し、第2画像P2の偏光潜像部がポジティブ画像として観察している状態で、さらに顕像化用シートを用いると、0°方向で網点潜像のネガティブ画像を30°方向に網点潜像のポジティブ画像を顕像化させることができる。
【0065】
図13のように、X軸との角度をθP=33.75゜にした偏光フィルタ22とX軸との角度を30°方向にした顕像化シート21を組み合わせた検証フィルタを作製すると、偏光フィルタのみでは観測できなかった画像を図14のように顕像化させることができる。
【0066】
また、図15のように、X軸と偏光フィルタの透過軸となす角が11.25°である検証フィルタ23と、X軸と偏光フィルタの透過軸となす角が33.75°である偏光フィルタ22が一体化した検証機を用いると、図16のように第1画像P1のポジティブ画像と第2画像P2のポジティブ画像を同時に観察することができる。
【0067】
さらには、図17のように、X軸と偏光フィルタの透過軸となす角が11.25°である検証フィルタQ1と、X軸と偏光フィルタの透過軸となす角が33.75°である偏光フィルタに30°傾けた顕像化用シートを組み合わせた検証フィルタQ2が一体化した検証機を用いると、図18のように第1画像P1のポジティブ画像と第2画像P2の網点潜像のポジティブ画像を同時に観察することができ、図15のような偏光フィルタのみでは得られない網点潜像を同時に観察することができる。
【0068】
このような領域A1及びA4からなる位相差層11には、複屈折性を持つ材料を使用することができる。たとえば、液晶材料を用いることができる。複屈折とは、物質の屈折率が光軸方向によって異なることで、そのために物質中を光が通過するときにその速度が異なってくるので、物質通過後の光には通過速度の差の分だけ位相差が生じる。
【0069】
また、位相差層11は光軸が4軸方向にパターンで配置されている。パターンで光軸を配置する方法としては、配向膜に配向処理をし、その上に液晶を塗布することで配向された液晶を得ることができる。液晶材料を配向させるための配向膜の配向処理には、例えばラビング配向法もしくは光配向法を用いることができる。
【0070】
ラビング配向法は、基材上にポリマー溶液を塗布して作製された配向膜をラビング布で擦る方法であり、擦った方向に配向膜表面の性質が変化し、この方向に液晶分子が並ぶという性質を利用したものである。配向膜には、ポリイミド、PVA等が用いられる。
【0071】
位相差層の光軸を4軸方向に配向させる場合には、図19に示すようなマスクを用いて、順次マスクを配向膜上に設置し布で擦ることによって作製される。この場合、擦る方向はマスクごとに変えると良い。これにより、配向方向が互いに異なった4つの領域が得られる。
【0072】
また、光配向法とは、配向膜に偏光等の異方性を有する光を照射もしくは非偏光光を斜めから照射し、配向膜内の分子の再配列や異方的な化学反応を誘起する方法であり、配向膜に異方性を与え、これによって液晶分子が配向することを利用したものである。光配向のメカニズムとしては、アゾベンゼン誘導体の光異方化、桂皮酸エステル、クマリン、カルコンやベンゾフェノン等の誘導体の光二量化や架橋、ポリイミド等の光分解等を挙げることができる。
【0073】
光配向法においても、図19のようなフォトマスクを使用できる。図19(a)〜(d)のフォトマスクを順次切り替えながら、互いに異なる偏光方向を有している偏光、典型的には直線偏光又は楕円偏光を順次照射する。これにより、配向膜内に、面内方向に隣り合い、配向方向が互いに異なった4つの領域を形成することができる。
【0074】
これらフォトマスクの代わりに、位相差フィルタを使用することもできる。例えば、面内方向に隣り合い、遅相軸の向きが互いに異なった3つ又は4つの領域を備えた位相差フィルタを介して偏光、典型的には直線偏光又は楕円偏光を照射することにより、面内方向に隣り合い、配向方向が互いに異なった3つ又は4つの領域を、1回の露光で形成することができる。
【0075】
これら配向膜を形成する方法としては、グラビアコーティング法、マイクログラビアコーティング法等の公知の手法を用いることができる。
【0076】
液晶材料としては、メソゲン基の両端にアクリレートを設けた光硬化型液晶モノマー、EB若しくはUVで硬化させる高分子液晶、ポリマー主鎖にメソゲン基を提げた高分子液晶、分子主鎖自体が配向する液晶性高分子を用いることができる。これらの液晶は、塗布後、相転移を起こすNI点より少し下の温度で熱処理することにより、配向を促進することが可能である。
【0077】
支持体12としては、押出加工やキャスト加工により作製された無延伸フィルム及び、延伸加工により作製された延伸フィルム等を用いることができる。延伸フィルムには、伸ばし方により、1軸延伸フィルム及び2軸延伸フィルムがあり、両者とも使用できる。
【0078】
これらの無延伸フィルム及び延伸フィルムの材料としては、セロハン、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリオレフィン(PO)、エチレンビニルアルコール(EVOH)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ナイロン、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム等があげられる。特に、支持基材の上に設けられる位相差層の位相差値を乱さないため、無延伸フィルムが好ましい。
【0079】
反射層13の材料としては、Al、Sn、Cr、Ni、Cu、Au、Agなどの金属材料の単体、またはこれらの化合物などが挙げられる。
【0080】
また、膜面に垂直な光に対してほぼ透明であるが、斜光に対して屈折率に応じて反射特性を示す透明な反射層も単層または多層で使用できる。透明な反射層として使用できる材料の例を以下に挙げる。以下に示す化学式または化合物名の後に続くカッコ内の数値は屈折率nを示す。セラミックスとしては、Fe2O3(2.7)、TiO2(2.6)、CdS(2.6)、CeO2(2.3)、ZnS(2.3)、PbCl2(2.3)、CdO(2.2)、WO3(5)、SiO(5)、Si2O3(2.5)、In2O3(2.0)、PbO(2.6)、Ta2O3(2.4)、ZnO(2.1)、ZrO2(5)、MgO(1)、SiO2(1.45)、MgF2(4)、CeF3(1)、CaF2(1.3〜1.4)、AlF3(1)、Al2O3(1)、GaO(2)などが挙げられる。有機ポリマーとしては、ポリエチレン(1.51)、ポリプロピレン(1.49)、ポリテトラフルオロエチレン(1.35)、ポリメチルメタクリレート(1.49)、ポリスチレン(1.60)などが挙げられるがこの限りでない。
【0081】
反射層13を形成する方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法など公知の方法を適宜使用することができる。また、光反射効果を有するインキ等を公知の印刷方法により設ける方法でもよい。
【0082】
また、反射層13を回折構造に沿って設けてもよい。回折構造に沿って反射層13を設ける方法としては、回折構造形成層を予め設け、光の干渉を利用したレリーフ型ホログラム又は回折格子を成す微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のプレス版を用いて加熱・加圧して微細な凹凸パターンを複製したのちに、前記真空蒸着法等の公知の方法を用いて反射層を形成することにより、回折構造に沿って反射層を設けることができる。
【0083】
回折構造形成層は熱による成形性が良好で、プレスムラが生じ難く、明るい再生像が得られる材料によって構成するとよい。例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等の熱可塑性樹脂や、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加、架橋したウレタン樹脂や、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等の熱硬化樹脂、エポキシ(メタ)アクリル、ウレタン(メタ)アクリレート等の紫外線或いは電子線硬化樹脂を、単独もしくはこれらを複合して使用できる。また、前記以外の樹脂であっても、回折構造パターンを形成可能であれば適宜使用できる。
【0084】
偏光層14は、例えば、PVA(ポリビニルアルコール)にヨウ素若しくは二色性染料を含浸させ且つ延伸配向させた吸収型偏光子、二色性染料を配向膜上で配向させて得られる吸収型偏光子、コレステリック液晶を基材上で配向させた反射型円偏光子、複屈折性多層フィルムを積層してなる反射型偏光子、ブルースター角でレンチキュラーレンズ状に形成したプリズム偏光子、複屈折物質を回折格子状に形成した複屈折回折偏光子、又は回折構造の溝を深く形成した回折偏光子を利用することができる。これら以外であっても、反射光又は透過光について特定の方向の偏光成分を分離又は抽出できる素子であれば使用可能である。
【実施例1】
【0085】
以下、本発明の実施例について説明をする。支持体12として厚さ38μmのPETフィルムを準備した。そして、支持体12上に、ウレタン樹脂からなる回折構造形成層を1μmの厚さでコーティングした。なお、このコーティングは、グラビアコーティング法で行った。
【0086】
次に、回折構造形成層面に、回折構造画像をエンボス成型した。その後、回折構造形成層上に、アルミニウムからなる反射層13を形成した。反射層13は、真空蒸着法を用いて、厚みが500Åになるようにして形成した。
【0087】
その後、反射層13上に、配向膜溶液をマイクログラビアコーティング法により、0.1μmの厚さでコーティングして、配向膜を形成した。その後、図19(a)に示すようなマスクを設置し、X軸に対してθ1=0°となるような角度でラビング布を用いて擦り、次に図19(b)に示すようなマスクを設置し、X軸に対してθ2=22.5°となるような角度でラビング布を用いて擦り、次に図19(c)に示すようなマスクを設置し、X軸に対してθ3=―45°となるような角度でラビング布を用いて擦り、次に図19(d)に示すようなマスクを設置し、X軸に対してθ4=67.5°となるような角度でラビング布を用いて擦った。このときマスクをそれぞれ設置する際は、各領域が重ならないように設置し、ラビング処理を行った。
【0088】
なお、この表示体に含まれている第2画像P2、すなわち領域A1及びA4は、図7に示すような網点背景部と網点潜像部の網点角度が30°異なる偏光潜像部にて画像が形成されている。
【0089】
その後、DIC株式会社製のUVキュアラブル液晶UCL−008をマイクログラビアにて位相差値がλ/4となる膜厚で塗工し、酸素雰囲気下でUV硬化を行い、4軸に光軸方向をもつ位相差層11を得た。
【0090】
前記のような表示体に対して、図17に示すような検証フィルタを準備し、観察を行ったところ、図18に示すような、左右で異なる画像が観察され、さらに第2画像P2は網点にて形成されているため、第2画像P2の中に網点潜像が観察された。
【符号の説明】
【0091】
10・・・表示体
11・・・位相差層
12・・・支持体
13・・・反射層
14・・・偏光層
A1・・・第1領域
A2・・・第2領域
A3・・・第3領域
A4・・・第4領域
P1・・・第1画像
P2・・・第2画像
21・・・X軸との角度が30°傾いた顕像化シート
22・・・X軸との角度θp=33.75°にした偏光フィルタ
23・・・X軸との角度θp=11.25°にした偏光フィルタ
Q1・・・検証フィルタ
Q2・・・検証フィルタ
【技術分野】
【0001】
本発明は、物品の偽造防止及び真贋判定を行うための隠し文字や隠しパターンを、フィルタを用いることによって表示させることを目的とした潜像を用いた偽造防止媒体に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、銀行券、商品券、パスポートなどの有価証券や認証媒体は、偽造防止対策として偽造の困難な媒体の貼付を行ってきた。そこでは、目視による判定(オバート機能)または検証器を用いた判定(コバート機能)により真贋判定を行っている。
【0003】
しかし、目視により真贋判定が行える偽造防止媒体は偽造されやすい。そこで、近年では、偏光技術を用いた潜像技術が提案され、偏光フィルムを重ねることにより潜像を出現させ真贋判定を行っていることが多い。
【0004】
しかし、この場合の潜像デバイスの真贋判定にあっては、偏光フィルム等の専用の検証器が必要になる。通常、小売業者もしくはサービス業者は消費者から受け取る近県やチケットを想定して、真贋判定用の検証器を準備し、真贋判定を行うことは出来る。しかし、一般消費者はこれらの状況を想定して事前に検証器を入手しているとは考えにくく、真贋判定を行うことが出来ない。
【0005】
そこで、この問題を解決するために、特許文献1では互いに重なり合うように記録された複数の潜像を優れたコントラスト比で可視化することができる表示体を提案している。以下に上記先行技術特許を示す。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特開2009-258151号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
しかしながら、偏光技術を用いて潜像を形成した潜像形成体であっても、時間の経過、技術の進歩等にともない、偽造されてしまう可能性があり、それが問題となっている。
【0008】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、偏光技術を用いた潜像を、単純な画像ではなく複雑な画像にする等、画像自体に工夫を凝らし、さらに偽造が困難な潜像形成体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明の第1側面によると、面内方向に隣り合い、前記面内方向における遅相軸の向きが互いに異なっている第1乃至第4領域を含んだ位相差層を具備し、前記領域のいずれか2つ以上の領域が、偏光潜像部と偏光背景部を有し、該偏光潜像部は、網点で構成され且つ網点背景部と網点潜像部とを有し、該網点潜像部を構成する網点と、該網点背景部を構成する網点とは、網点角度、ピッチ、網点位相のいずれか1つ以上が異なることを特徴とする領域があり、前記第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と前記第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸とがなす角を二等分する第1直線に対して、前記第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸と前記第1直線とがなす角度と、前記第4領域もしくは第4偏光潜像部の第4遅相軸又はこれに直交する軸と前記第1直線とがなす角度とは互いに等しく、前記第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と前記第4領域もしくは第4偏光潜像部の第1遅相軸とがなす角を二等分する第2直線に対して、前記第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸と前記第2直線とがなす角度と、前記第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸又はこれに直交する軸と前記第2直線とがなす角度とは互いに等しいことを特徴とする表示体を提供する。
【0010】
本発明の第2側面によると、面内方向に隣り合い、前記面内方向における遅相軸の向きが互いに異なっている第1乃至第4領域を含んだ位相差層を具備し、前記領域のいずれか2つ以上の領域が、偏光潜像部と偏光背景部を有し、該偏光潜像部が、万線で構成され且つ万線背景部と万線潜像部とを有し、該万線潜像部を構成する万線と、該万線背景部を構成する万線とは、万線角度、ピッチ、万線位相のいずれか1つ以上が異なることを特徴とする領域があり、前記第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と前記第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸とがなす角を二等分する第1直線に対して、前記第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸と前記第1直線とがなす角度と、前記第4領域もしくは第4偏光潜像部の第4遅相軸又はこれに直交する軸と前記第1直線とがなす角度とは互いに等しく、前記第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と前記第4領域もしくは第4偏光潜像部の第1遅相軸とがなす角を二等分する第2直線に対して、前記第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸と前記第2直線とがなす角度と、前記第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸又はこれに直交する軸と前記第2直線とがなす角度とは互いに等しいことを特徴とする表示体を提供する。
【0011】
本発明の第3側面によると、前記位相差層の面内方向において、前記位相差層の主面に平行な第3直線に対して、前記第1遅相軸がなす角度を第1角度θ1とし、前記第2遅相軸がなす角度を第2角度θ2とし、前記第3遅相軸がなす角度を第3角度θ3とし、及び前記第4遅相軸がなす角度を第4角度θ4としたときに、前記第1角度θ1と前記第2角度θ2と前記第3角度θ3と前記第4角度θ4と整数L、M及びNとは、関係式
θ2=θ1+22.5゜+90゜×L、
θ3=θ1+45゜+90゜×M、及び
θ4=θ1+67.5゜+90゜×N
を満たしていることを特徴とする請求項1に記載の表示体を提供する。
【0012】
本発明の第4側面によると、前記位相差層と向き合った反射層を更に具備したことを特徴とする請求項1乃至3に記載の表示体を提供する。
【0013】
本発明の第5側面によると、前記位相差層と向き合った偏光層を更に具備したことを特徴とする請求項1乃至3に記載の表示体を提供する。
【0014】
本発明の第6側面によると、前記偏光層と向き合った吸収層を更に具備したことを特徴とする請求項5に記載の表示体を提供する。
【0015】
本発明の第7側面によると、請求項1乃至6の何れか1項に記載の表示体と、前記表示体上に設けられた粘着層とを具備したことを特徴とする粘着ラベルを提供する。
【0016】
本発明の第8側面によると、請求項1乃至6の何れか1項に記載の表示体と、前記表示体を剥離可能に支持した支持体層とを具備したことを特徴とする転写箔を提供する。
【0017】
本発明の第9側面によると、請求項1乃至8の何れか1項に記載の表示体に偏光シートを重ね、偏光潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする表示体の真偽判定方法を提供する。
【0018】
本発明の第10側面によるとさらに網点もしくは万線パターンからなる顕像化用パターンを形成してなる顕像化用シートを重ね、網点潜像もしくは万線潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする請求項9に記載の表示体の真偽判定方法を提供する。
【0019】
本発明の第11の側面によると、請求項1乃至9のいずれか1項に記載の表示体に、検証デバイスを重ね、偏光潜像及び網点潜像もしくは万線潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする表示体の真偽判定方法を提供する。
【発明の効果】
【0020】
本発明によれば、互いに重なり合うように記録された複数の潜像を優れたコントラスト比で可視化することができるようになり、さらに顕像化した偏光潜像部が網点潜像部と網点背景部、もしくは万線潜像部と万線背景部を有するため、顕像化用パターンが形成された顕像化用シートを重ねると、網点潜像、もしくは万線潜像が顕像化され、さらに偽造が困難で、且つ施した全ての潜像に気づかれ難い表示体が実現される。
【図面の簡単な説明】
【0021】
【図1】本発明の実施形態に係る表示体の断面図である。
【図2】請求項4に対応する発明の施形態に係る表示体の断面図である。
【図3】請求項5に対応する発明の実施形態に係る表示体の断面図である。
【図4】図1に示す表示体を概略的に示す平面図である。
【図5】図1に示す表示体に記録されている潜像を概略的に示す平面図である。
【図6】図1に示す表示体に記録されている潜像を概略的に示す平面図である。
【図7】図4に示す潜像の偏光潜像部の一実施形態の例を示す拡大模式図であり、(a)は偏光潜像部、(b)は網点背景部、(c)は網点潜像部を示している。
【図8】本発明で使用している網点の角度、ピッチ及び位相について説明するための図である。
【図9】一対の偏光フィルタ間に表示体を挟んでこれを観察した場合に表示される像を示す平面図である。
【図10】一対の偏光フィルタ間に表示体を挟んでこれを観察した場合に表示される像を示す平面図である。
【図11】一対の偏光フィルタ間に表示体を挟んでこれを観察した場合に表示される像を示す平面図である。
【図12】一対の偏光フィルタ間に表示体を挟んでこれを観察した場合に表示される像を示す平面図である。
【図13】本発明における検証フィルタの断面図である。
【図14】図11に示す検証フィルタを用いて、表示体の検証を行ったときの潜像の一例である。
【図15】本発明における検証フィルタの断面図である。
【図16】図13に示す検証フィルタを用いて、表示体の検証を行ったときの潜像の一例である。
【図17】本発明における一例の検証フィルタの断面図である。
【図18】図15に示す検証フィルタを用いて、表示体の検証を行ったときの潜像の一例である。
【図19】(a)〜(d)はいずれも本発明に用いるマスクの一例を概略的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【0022】
以下、図面を参照して、本発明に係る偽造防止媒体及びその偽造防止媒体の製造方法等についての実施形態を説明する。
【0023】
図1は本発明の一実施形態における表示体の断面図である。図1に示した表示体10は、支持体12上に積層する位相差層11を具備している。図2に示した他の実施形態における表示体10は、支持体12上に順次積層する反射層13及び位相差層11を具備したものである。図3に示した更に他の実施形態における表示体10は、支持体12上に順次積層する偏光層14及び位相差層11を具備している。これらの表示体10には少なくとも2つの画像、即ちここでは第1画像P1及び第2画像P2が潜像として記録されている。
【0024】
図4に示すように、位相差層11は、面内方向に隣り合った少なくとも4つの領域A1乃至A4を含んでいる。ここで、第1領域A1は、図6に示す第2画像P2のうち図5に示す第1画像P1と重なり合っていない部分に対応した領域である。第2領域A2は、第1画像P1及び第2画像P2の何れも記録されていない部分に対応した領域である。第3領域A3は、第1画像P1のうち第2画像P2と重なり合っていない部分に対応した領域である。第4領域A4は、第1画像P1と第2画像P2とが重なり合った部分に対応した領域である。
【0025】
また、詳細については後述するが、前記領域A1乃至A4は、図7に示すような偏光潜像部と偏光背景部を有していても良い。さらに、本発明における偏光潜像部は、微細な網点もしくは万線等の模様で構成されていてもよい。
【0026】
領域A1乃至A4は、面内方向における遅相軸の向きが互いに異なっている。本態様では、第1遅相軸と第2遅相軸とがなす角を二等分する第1直線L1に対して、第3遅相軸と第1直線L1とがなす角度と、第4遅相軸又はこれに直交する軸と第1直線L1とがなす角度とは互いに等しい。また、第1遅相軸と第4遅相軸とがなす角を二等分する第2直線L2に対して、第2遅相軸と第2直線L2とがなす角度と、第3遅相軸又はこれに直交する軸と第2直線L2とがなす角度とは互いに等しい。
【0027】
ここで、2つの角度について「等しい」というときには、両者が厳密に等しい場合のみならず、両者が人間の視覚によってこの場合と同一視できるような光学効果をもたらす関係にある場合をも包含するものとする。例えば、これら2つの角度は、約−5゜乃至約5゜の誤差範囲内で一致していればよい。
【0028】
位相差層11の位相差値は、所定の設計波長に対して、約二分の一波長であることが好ましい。この設計波長は、例えば、観察者又は読取装置が最も高い感度で認識又は検出できる波長とする。例えば、表示体を肉眼で観察する場合には、可視光のうち最も視認性が高い緑色光に対応した波長を設計波長としてもよい。或いは、潜像の存在を悟られ難くするために、より視認性の低い波長を設計波長としてもよい。
【0029】
位相差層11の位相差値を約二分の一波長とした場合、位相差層に直線偏光を入射させると、直線偏光の偏光軸は、位相差層の遅相軸に対して反転する。すなわち、入射光の偏光軸と位相差層の遅相軸とがなす角度をθとすると、入射光の偏光軸と透過光の偏光軸とがなす角度は2θとなる。
【0030】
このとき、表示体10を平行ニコル下で観察した場合を考える。ここで、位相差層の入射光の強度を100とし、検光子となる偏光フィルタの理論的な限界透過率50%を用いると、表示体10の透過率Tは、次式で与えられる。
【数1】
【0031】
上述した通り、本態様では、位相差層に含まれている領域A1乃至A4は、面内方向における遅相軸の向きが互いに異なっている。したがって、位相差層に直線偏光を入射させ、偏光フィルタを介して観察した場合、領域A1乃至A4の透過率は、上式にしたがって互いに異なりうる。即ち、領域A1乃至A4の透過率の差異に基づいて、表示体上に可視像を表示させることが可能となる。なお、表示体を、偏光フィルタを介さずに観察した場合には、表示体上に視認可能な画像は表示されない。
【0032】
表示体が表示する画像は、例えば、偏光フィルタの偏光軸の向きを面内方向で回転させることにより、以下に説明するように変化する。
【0033】
第1遅相軸がX軸となす角度を第1角度θ1とし、第2遅相軸がX軸となす角度を第2角度θ2とし、第3遅相軸がX軸となす角度を第3角度θ3とし、第4遅相軸がX軸となす角度を第4角度θ4とする。
【0034】
ここでは、一例として、角度θ1乃至θ4は、関係式
θ2=θ1+22.5゜+90゜×L、
θ3=θ1+45゜+90゜×M、及び
θ4=θ1+67.5゜+90゜×N
を満たしているとする。なお、L、M及びNは、任意の整数である。
【0035】
以下では、上式において、θ1=0゜、L=0、M=−1及びN=0とした場合、すなわち、θ1=0゜、θ2=22.5゜、θ3=−45゜及びθ4=67.5゜とした場合を例として説明する。
【0036】
以下、平行ニコルの状態で配置された一対の偏光フィルタの偏光軸と、X軸とがなす角度、すなわち入射及び出射させる直線偏光の偏光軸とX軸とがなす角度をθPとする。また、領域A1乃至A4における透過率をそれぞれT1乃至T4とする。
【0037】
まず、θP=11.25゜の場合を考える。このとき、偏光フィルタの偏光軸は、第1遅相軸(θ1=0゜)と第2遅相軸(θ2=22.5゜)との角の二等分線に平行である。また、偏光フィルタの偏光軸と第3遅相軸(θ3=−45゜)とがなす角度は、偏光フィルタの偏光軸と第4遅相軸(θ4=67.5゜)とがなす角度と等しい。
【0038】
この場合、偏光フィルタの偏光軸と第1遅相軸とがなす角度は、|θP−θ1|=11.25゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第2遅相軸とがなす角度は、|θP−θ2|=11.25゜である。したがって、第1領域A1及び第2領域A2における透過率は、上式よりT1=T2=47.2%となる。
【0039】
一方、偏光フィルタの偏光軸と第3遅相軸とがなす角度は、|θP−θ3|=56.25゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第4遅相軸とがなす角度は、|θP−θ4|=56.25゜である。したがって、第3領域A3及び第4領域A4における透過率は、T3=T4=7.3%となる。
【0040】
したがって、透過表示において、領域A1及びA2はネガティブ像として観察され、領域A3及びA4はポジティブ像として観察される。すなわち、表示体10は、図9のように第1画像P1をポジティブ画像として表示させる。
【0041】
次に、θP=33.75゜の場合を考える。このとき、偏光フィルタの偏光軸は、第1遅相軸(θ1=0゜)と第4遅相軸(θ4=67.5゜)との角の二等分線に平行である。また、偏光フィルタの偏光軸と第2遅相軸(θ2=22.5゜)とがなす角度は、偏光フィルタの偏光軸と第3遅相軸に直交する軸(θ3+90゜=45゜)とがなす角度と等しい。
【0042】
この場合、偏光フィルタの偏光軸と第1遅相軸とがなす角度は、|θP−θ1|=33.75゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第4遅相軸とがなす角度は、|θP−θ4|=33.75゜である。したがって、第1領域A1及び第4領域A4における透過率は、T1=T4=7.3%となる。
【0043】
一方、偏光フィルタの偏光軸と第2遅相軸とがなす角度は、|θP−θ2|=11.25゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第3遅相軸とがなす角度は、|θP−θ3|=78.75゜である。したがって、第2領域A2及び第3領域A3における透過率は、T2=T3=47.2%となる。
【0044】
したがって、透過表示において、領域A1及びA4はポジティブ像として観察され、領域A2及びA3はネガティブ像として観察される。すなわち、表示体10は、図10のように第2画像P2をポジティブ画像として表示させる。
【0045】
次いで、θP=56.25゜の場合を考える。この場合、偏光フィルタの偏光軸と第1遅相軸とがなす角度は、|θP−θ1|=56.25゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第2遅相軸とがなす角度は、|θP−θ2|=33.75゜である。したがって、第1領域A1及び第2領域A2における透過率は、T1=T2=7.3%となる。
【0046】
一方、偏光フィルタの偏光軸と第3遅相軸とがなす角度は、|θP−θ3|=78.75゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第4遅相軸とがなす角度は、|θP−θ4|=11.25゜である。したがって、第3領域A3及び第4領域A4における透過率は、T3=T4=47.2%となる。
【0047】
したがって、透過表示において、領域A1及びA2はポジティブ像として観察され、領域A3及びA4はネガティブ像として観察される。すなわち、表示体10は、図11のように第1画像P1をネガティブ画像として表示させる。
【0048】
最後に、θP=78.75゜の場合を考える。この場合、偏光フィルタの偏光軸と第1遅相軸とがなす角度は、|θP−θ1|=78.75゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第4遅相軸とがなす角度は、|θP−θ4|=11.25゜である。したがって、第1領域A1及び第4領域A4における透過率は、T1=T4=47.2%となる。
【0049】
一方、偏光フィルタの偏光軸と第2遅相軸とがなす角度は、|θP−θ2|=56.25゜である。また、偏光フィルタの偏光軸と第3遅相軸とがなす角度は、|θP−θ3|=56.25゜である。したがって、第2領域A2及び第3領域A3における透過率は、T2=T3=7.3%となる。
【0050】
したがって、透過表示において、領域A1及びA4はポジティブ像として観察され、領域A2及びA3はネガティブ像として観察される。すなわち、表示体10は、図12のように第2画像P2をネガティブ画像として表示させる。
【0051】
このように、表示体は、観察に用いる偏光フィルタの偏光軸の角度θPを変化させることにより、第1画像P1のポジティブ画像、第2画像P2のポジティブ画像、第1画像P1のネガティブ画像及び第2画像P2のネガティブ画像を表示させることができる。
【0052】
さらに、図7に示すように、前記領域A1乃至A4の2つもしくは3つの領域において、偏光潜像部と偏光背景部を有し、前記偏光潜像部が、網点もしくは万線で構成され、且つ、網点もしくは万線背景部と、網点もしくは万線潜像部とを有していることが好ましい。
【0053】
また、画像が網点もしくは万線で構成される領域の組み合わせとしては、第2画像P2を構成している領域A1と領域A4の組み合わせであるか、第1画像P1を構成している領域A3と領域A4の組み合わせであるか、第1画像P1および第2画像P2を構成している領域A1と領域A3と領域A4の組み合わせであることが好ましい。
【0054】
網点もしくは万線潜像部を形成する網点もしくは万線と、網点もしくは万線背景部を形成する網点もしくは万線とは、網点の大きさ、万線の太さ、角度、ピッチ及び位相のいずれか1つ以上が異なっている。なお、偏光潜像部を形成している網点もしくは万線は、デザインに支障がない程度の微細な点となっているので、偏光潜像として顕像化していても、視覚上では、網点もしくは万線模様として確認することはできない。
【0055】
網点の形状としては、角ドット状、丸ドット状、網ドット状、格子ドット状、またはこれらの組み合わせによるドット状等が挙げられる。
【0056】
ここで、網点を例に角度、ピッチ及び位相について説明しておく。本発明における網点の角度は図8(a)のφを指し、規則的に並んでいる網点の傾きを表す。網点のピッチは図8(a)のDを指し、1つの網点から隣の最近接している網点までの距離を表している。また、ピッチD内での網点部と非網点部の比率を網点比率と呼ぶ。
【0057】
一方で、網点の位相とは、図8(b)のkを指し、規則的に並んでいる網点の周期を表している。図8(b)では、網点Aと網点Bは、位相がgだけずれている状態を示している。
【0058】
網点の大きさ及び万線の太さは、小さすぎても大きすぎても顕像化用シートを重ねた際に網点潜像が視認しづらくなるので、10〜1000μmの範囲、好ましくは10〜500μmに設定することが望ましい。また、網点比率(=網点部/(網点部+非網点部))、万線比率(=万線部/(万線部+非万線部))は任意に設定してもよいが、1/10〜9/10の範囲で、好ましくは1/3〜2/3に設定することが好ましい。さらに好ましくは比率が1/2である。よって、ピッチは20〜2000μm、好ましくは20〜1000μmの範囲に設定することが好ましい。
【0059】
顕像化用シートを重ねて回転させ、網点もしくは万線潜像を顕像化するためには、網点もしくは万線背景部と網点もしくは万線潜像部とで、網点の大きさ、万線の太さ、角度、ピッチ及び位相のいずれか1つ以上が異なる網点もしくは万線パターンを使用すれば良い。ただし、それぞれが近似しすぎていると網点もしくは万線潜像が見えづらくなるので考慮する。
【0060】
図7は、網点で構成された偏光潜像部を示したものである。ただし、図7においては、説明のために、網点を大きくし、ピッチも広くしている。図7(a)は、網点潜像部と網点背景部とが合わさった偏光潜像部であり、図7(b)はそのうち網点背景部のみを、図7(c)は網点潜像部のみを切り出して示す図である。
【0061】
図7に示した偏光潜像部は、網点潜像部と網点背景部を形成する網点が、同一ピッチ及び同一網点比率で、異なる角度で設けられている。X軸に対して網点潜像部と網点背景部の網点角度が、0°、30°となっている。このために、顕像化シートを用いた場合、0°方向で網点潜像のネガティブ画像が、30°方向で網点潜像のポジティブ画像が現れることになる。
【0062】
次に、例えば、第2画像P2つまり領域A1と領域A4が偏光潜像部と偏光背景部で構成され、偏光潜像部が前述のように網点角度が30°異なる網点で構成されている場合について説明を行う。
【0063】
前述のように、本発明における表示体10は、表示体10に偏光フィルタを翳し、X軸との角度をθP=11.25°、33.75°、56.25°、78.75°と順に変化させたときに、第1画像P1のポジティブ画像、第2画像P2の偏光潜像部のポジティブ画像、第1画像P1のネガティブ画像、第2画像P2の偏光潜像部のネガティブ画像と順に出現する。
【0064】
また、偏光フィルタの角度をθP=33.75゜に固定し、第2画像P2の偏光潜像部がポジティブ画像として観察している状態で、さらに顕像化用シートを用いると、0°方向で網点潜像のネガティブ画像を30°方向に網点潜像のポジティブ画像を顕像化させることができる。
【0065】
図13のように、X軸との角度をθP=33.75゜にした偏光フィルタ22とX軸との角度を30°方向にした顕像化シート21を組み合わせた検証フィルタを作製すると、偏光フィルタのみでは観測できなかった画像を図14のように顕像化させることができる。
【0066】
また、図15のように、X軸と偏光フィルタの透過軸となす角が11.25°である検証フィルタ23と、X軸と偏光フィルタの透過軸となす角が33.75°である偏光フィルタ22が一体化した検証機を用いると、図16のように第1画像P1のポジティブ画像と第2画像P2のポジティブ画像を同時に観察することができる。
【0067】
さらには、図17のように、X軸と偏光フィルタの透過軸となす角が11.25°である検証フィルタQ1と、X軸と偏光フィルタの透過軸となす角が33.75°である偏光フィルタに30°傾けた顕像化用シートを組み合わせた検証フィルタQ2が一体化した検証機を用いると、図18のように第1画像P1のポジティブ画像と第2画像P2の網点潜像のポジティブ画像を同時に観察することができ、図15のような偏光フィルタのみでは得られない網点潜像を同時に観察することができる。
【0068】
このような領域A1及びA4からなる位相差層11には、複屈折性を持つ材料を使用することができる。たとえば、液晶材料を用いることができる。複屈折とは、物質の屈折率が光軸方向によって異なることで、そのために物質中を光が通過するときにその速度が異なってくるので、物質通過後の光には通過速度の差の分だけ位相差が生じる。
【0069】
また、位相差層11は光軸が4軸方向にパターンで配置されている。パターンで光軸を配置する方法としては、配向膜に配向処理をし、その上に液晶を塗布することで配向された液晶を得ることができる。液晶材料を配向させるための配向膜の配向処理には、例えばラビング配向法もしくは光配向法を用いることができる。
【0070】
ラビング配向法は、基材上にポリマー溶液を塗布して作製された配向膜をラビング布で擦る方法であり、擦った方向に配向膜表面の性質が変化し、この方向に液晶分子が並ぶという性質を利用したものである。配向膜には、ポリイミド、PVA等が用いられる。
【0071】
位相差層の光軸を4軸方向に配向させる場合には、図19に示すようなマスクを用いて、順次マスクを配向膜上に設置し布で擦ることによって作製される。この場合、擦る方向はマスクごとに変えると良い。これにより、配向方向が互いに異なった4つの領域が得られる。
【0072】
また、光配向法とは、配向膜に偏光等の異方性を有する光を照射もしくは非偏光光を斜めから照射し、配向膜内の分子の再配列や異方的な化学反応を誘起する方法であり、配向膜に異方性を与え、これによって液晶分子が配向することを利用したものである。光配向のメカニズムとしては、アゾベンゼン誘導体の光異方化、桂皮酸エステル、クマリン、カルコンやベンゾフェノン等の誘導体の光二量化や架橋、ポリイミド等の光分解等を挙げることができる。
【0073】
光配向法においても、図19のようなフォトマスクを使用できる。図19(a)〜(d)のフォトマスクを順次切り替えながら、互いに異なる偏光方向を有している偏光、典型的には直線偏光又は楕円偏光を順次照射する。これにより、配向膜内に、面内方向に隣り合い、配向方向が互いに異なった4つの領域を形成することができる。
【0074】
これらフォトマスクの代わりに、位相差フィルタを使用することもできる。例えば、面内方向に隣り合い、遅相軸の向きが互いに異なった3つ又は4つの領域を備えた位相差フィルタを介して偏光、典型的には直線偏光又は楕円偏光を照射することにより、面内方向に隣り合い、配向方向が互いに異なった3つ又は4つの領域を、1回の露光で形成することができる。
【0075】
これら配向膜を形成する方法としては、グラビアコーティング法、マイクログラビアコーティング法等の公知の手法を用いることができる。
【0076】
液晶材料としては、メソゲン基の両端にアクリレートを設けた光硬化型液晶モノマー、EB若しくはUVで硬化させる高分子液晶、ポリマー主鎖にメソゲン基を提げた高分子液晶、分子主鎖自体が配向する液晶性高分子を用いることができる。これらの液晶は、塗布後、相転移を起こすNI点より少し下の温度で熱処理することにより、配向を促進することが可能である。
【0077】
支持体12としては、押出加工やキャスト加工により作製された無延伸フィルム及び、延伸加工により作製された延伸フィルム等を用いることができる。延伸フィルムには、伸ばし方により、1軸延伸フィルム及び2軸延伸フィルムがあり、両者とも使用できる。
【0078】
これらの無延伸フィルム及び延伸フィルムの材料としては、セロハン、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリオレフィン(PO)、エチレンビニルアルコール(EVOH)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ナイロン、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム等があげられる。特に、支持基材の上に設けられる位相差層の位相差値を乱さないため、無延伸フィルムが好ましい。
【0079】
反射層13の材料としては、Al、Sn、Cr、Ni、Cu、Au、Agなどの金属材料の単体、またはこれらの化合物などが挙げられる。
【0080】
また、膜面に垂直な光に対してほぼ透明であるが、斜光に対して屈折率に応じて反射特性を示す透明な反射層も単層または多層で使用できる。透明な反射層として使用できる材料の例を以下に挙げる。以下に示す化学式または化合物名の後に続くカッコ内の数値は屈折率nを示す。セラミックスとしては、Fe2O3(2.7)、TiO2(2.6)、CdS(2.6)、CeO2(2.3)、ZnS(2.3)、PbCl2(2.3)、CdO(2.2)、WO3(5)、SiO(5)、Si2O3(2.5)、In2O3(2.0)、PbO(2.6)、Ta2O3(2.4)、ZnO(2.1)、ZrO2(5)、MgO(1)、SiO2(1.45)、MgF2(4)、CeF3(1)、CaF2(1.3〜1.4)、AlF3(1)、Al2O3(1)、GaO(2)などが挙げられる。有機ポリマーとしては、ポリエチレン(1.51)、ポリプロピレン(1.49)、ポリテトラフルオロエチレン(1.35)、ポリメチルメタクリレート(1.49)、ポリスチレン(1.60)などが挙げられるがこの限りでない。
【0081】
反射層13を形成する方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法など公知の方法を適宜使用することができる。また、光反射効果を有するインキ等を公知の印刷方法により設ける方法でもよい。
【0082】
また、反射層13を回折構造に沿って設けてもよい。回折構造に沿って反射層13を設ける方法としては、回折構造形成層を予め設け、光の干渉を利用したレリーフ型ホログラム又は回折格子を成す微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のプレス版を用いて加熱・加圧して微細な凹凸パターンを複製したのちに、前記真空蒸着法等の公知の方法を用いて反射層を形成することにより、回折構造に沿って反射層を設けることができる。
【0083】
回折構造形成層は熱による成形性が良好で、プレスムラが生じ難く、明るい再生像が得られる材料によって構成するとよい。例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等の熱可塑性樹脂や、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加、架橋したウレタン樹脂や、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等の熱硬化樹脂、エポキシ(メタ)アクリル、ウレタン(メタ)アクリレート等の紫外線或いは電子線硬化樹脂を、単独もしくはこれらを複合して使用できる。また、前記以外の樹脂であっても、回折構造パターンを形成可能であれば適宜使用できる。
【0084】
偏光層14は、例えば、PVA(ポリビニルアルコール)にヨウ素若しくは二色性染料を含浸させ且つ延伸配向させた吸収型偏光子、二色性染料を配向膜上で配向させて得られる吸収型偏光子、コレステリック液晶を基材上で配向させた反射型円偏光子、複屈折性多層フィルムを積層してなる反射型偏光子、ブルースター角でレンチキュラーレンズ状に形成したプリズム偏光子、複屈折物質を回折格子状に形成した複屈折回折偏光子、又は回折構造の溝を深く形成した回折偏光子を利用することができる。これら以外であっても、反射光又は透過光について特定の方向の偏光成分を分離又は抽出できる素子であれば使用可能である。
【実施例1】
【0085】
以下、本発明の実施例について説明をする。支持体12として厚さ38μmのPETフィルムを準備した。そして、支持体12上に、ウレタン樹脂からなる回折構造形成層を1μmの厚さでコーティングした。なお、このコーティングは、グラビアコーティング法で行った。
【0086】
次に、回折構造形成層面に、回折構造画像をエンボス成型した。その後、回折構造形成層上に、アルミニウムからなる反射層13を形成した。反射層13は、真空蒸着法を用いて、厚みが500Åになるようにして形成した。
【0087】
その後、反射層13上に、配向膜溶液をマイクログラビアコーティング法により、0.1μmの厚さでコーティングして、配向膜を形成した。その後、図19(a)に示すようなマスクを設置し、X軸に対してθ1=0°となるような角度でラビング布を用いて擦り、次に図19(b)に示すようなマスクを設置し、X軸に対してθ2=22.5°となるような角度でラビング布を用いて擦り、次に図19(c)に示すようなマスクを設置し、X軸に対してθ3=―45°となるような角度でラビング布を用いて擦り、次に図19(d)に示すようなマスクを設置し、X軸に対してθ4=67.5°となるような角度でラビング布を用いて擦った。このときマスクをそれぞれ設置する際は、各領域が重ならないように設置し、ラビング処理を行った。
【0088】
なお、この表示体に含まれている第2画像P2、すなわち領域A1及びA4は、図7に示すような網点背景部と網点潜像部の網点角度が30°異なる偏光潜像部にて画像が形成されている。
【0089】
その後、DIC株式会社製のUVキュアラブル液晶UCL−008をマイクログラビアにて位相差値がλ/4となる膜厚で塗工し、酸素雰囲気下でUV硬化を行い、4軸に光軸方向をもつ位相差層11を得た。
【0090】
前記のような表示体に対して、図17に示すような検証フィルタを準備し、観察を行ったところ、図18に示すような、左右で異なる画像が観察され、さらに第2画像P2は網点にて形成されているため、第2画像P2の中に網点潜像が観察された。
【符号の説明】
【0091】
10・・・表示体
11・・・位相差層
12・・・支持体
13・・・反射層
14・・・偏光層
A1・・・第1領域
A2・・・第2領域
A3・・・第3領域
A4・・・第4領域
P1・・・第1画像
P2・・・第2画像
21・・・X軸との角度が30°傾いた顕像化シート
22・・・X軸との角度θp=33.75°にした偏光フィルタ
23・・・X軸との角度θp=11.25°にした偏光フィルタ
Q1・・・検証フィルタ
Q2・・・検証フィルタ
【特許請求の範囲】
【請求項1】
面内方向に隣り合い、前記面内方向における遅相軸の向きが互いに異なっている第1乃至第4領域を含んだ位相差層を具備し、
前記領域のいずれか2つ以上の領域が、偏光潜像部と偏光背景部を有し、
該偏光潜像部は、網点で構成され且つ網点背景部と網点潜像部とを有し、
該網点潜像部を構成する網点と、該網点背景部を構成する網点とは、網点角度、ピッチ、網点位相のいずれか1つ以上が異なることを特徴とする領域があり、
前記第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と前記第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸とがなす角を二等分する第1直線に対して、
前記第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸と前記第1直線とがなす角度と、前記第4領域もしくは第4偏光潜像部の第4遅相軸又はこれに直交する軸と前記第1直線とがなす角度とは互いに等しく、
前記第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と前記第4領域もしくは第4偏光潜像部の第1遅相軸とがなす角を二等分する第2直線に対して、
前記第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸と前記第2直線とがなす角度と、前記第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸又はこれに直交する軸と前記第2直線とがなす角度とは互いに等しいことを特徴とする表示体。
【請求項2】
面内方向に隣り合い、前記面内方向における遅相軸の向きが互いに異なっている第1乃至第4領域を含んだ位相差層を具備し、
前記領域のいずれか2つ以上の領域が、偏光潜像部と偏光背景部を有し、
該偏光潜像部が、万線で構成され且つ万線背景部と万線潜像部とを有し、
該万線潜像部を構成する万線と、該万線背景部を構成する万線とは、万線角度、ピッチ、万線位相のいずれか1つ以上が異なることを特徴とする領域があり、
前記第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と前記第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸とがなす角を二等分する第1直線に対して、
前記第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸と前記第1直線とがなす角度と、前記第4領域もしくは第4偏光潜像部の第4遅相軸又はこれに直交する軸と前記第1直線とがなす角度とは互いに等しく、
前記第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と前記第4領域もしくは第4偏光潜像部の第1遅相軸とがなす角を二等分する第2直線に対して、
前記第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸と前記第2直線とがなす角度と、前記第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸又はこれに直交する軸と前記第2直線とがなす角度とは互いに等しいことを特徴とする表示体。
【請求項3】
前記位相差層の面内方向において、前記位相差層の主面に平行な第3直線に対して、前記第1遅相軸がなす角度を第1角度θ1とし、前記第2遅相軸がなす角度を第2角度θ2とし、前記第3遅相軸がなす角度を第3角度θ3とし、及び前記第4遅相軸がなす角度を第4角度θ4としたときに、前記第1角度θ1と前記第2角度θ2と前記第3角度θ3と前記第4角度θ4と整数L、M及びNとは、関係式
θ2=θ1+22.5゜+90゜×L、
θ3=θ1+45゜+90゜×M、及び
θ4=θ1+67.5゜+90゜×N
を満たしていることを特徴とする請求項1に記載の表示体。
【請求項4】
前記位相差層と向き合った反射層を更に具備したことを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の表示体。
【請求項5】
前記位相差層と向き合った偏光層を更に具備したことを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の表示体。
【請求項6】
前記偏光層と向き合った吸収層を更に具備したことを特徴とする請求項5に記載の表示体。
【請求項7】
請求項1乃至6の何れか1項に記載の表示体と、前記表示体上に設けられた粘着層とを具備したことを特徴とする粘着ラベル。
【請求項8】
請求項1乃至6の何れか1項に記載の表示体と、前記表示体を剥離可能に支持した支持体層とを具備したことを特徴とする転写箔。
【請求項9】
請求項1乃至8の何れか1項に記載の表示体に偏光シートを重ね、偏光潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする表示体の真偽判定方法。
【請求項10】
さらに網点もしくは万線パターンからなる顕像化用パターンを形成してなる顕像化用シートを重ね、網点潜像もしくは万線潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする請求項9に記載の表示体の真偽判定方法。
【請求項11】
請求項1乃至9のいずれか1項に記載の表示体に、検証デバイスを重ね、偏光潜像及び網点潜像もしくは万線潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする表示体の真偽判定方法。
【請求項1】
面内方向に隣り合い、前記面内方向における遅相軸の向きが互いに異なっている第1乃至第4領域を含んだ位相差層を具備し、
前記領域のいずれか2つ以上の領域が、偏光潜像部と偏光背景部を有し、
該偏光潜像部は、網点で構成され且つ網点背景部と網点潜像部とを有し、
該網点潜像部を構成する網点と、該網点背景部を構成する網点とは、網点角度、ピッチ、網点位相のいずれか1つ以上が異なることを特徴とする領域があり、
前記第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と前記第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸とがなす角を二等分する第1直線に対して、
前記第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸と前記第1直線とがなす角度と、前記第4領域もしくは第4偏光潜像部の第4遅相軸又はこれに直交する軸と前記第1直線とがなす角度とは互いに等しく、
前記第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と前記第4領域もしくは第4偏光潜像部の第1遅相軸とがなす角を二等分する第2直線に対して、
前記第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸と前記第2直線とがなす角度と、前記第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸又はこれに直交する軸と前記第2直線とがなす角度とは互いに等しいことを特徴とする表示体。
【請求項2】
面内方向に隣り合い、前記面内方向における遅相軸の向きが互いに異なっている第1乃至第4領域を含んだ位相差層を具備し、
前記領域のいずれか2つ以上の領域が、偏光潜像部と偏光背景部を有し、
該偏光潜像部が、万線で構成され且つ万線背景部と万線潜像部とを有し、
該万線潜像部を構成する万線と、該万線背景部を構成する万線とは、万線角度、ピッチ、万線位相のいずれか1つ以上が異なることを特徴とする領域があり、
前記第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と前記第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸とがなす角を二等分する第1直線に対して、
前記第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸と前記第1直線とがなす角度と、前記第4領域もしくは第4偏光潜像部の第4遅相軸又はこれに直交する軸と前記第1直線とがなす角度とは互いに等しく、
前記第1領域もしくは第1偏光潜像部の第1遅相軸と前記第4領域もしくは第4偏光潜像部の第1遅相軸とがなす角を二等分する第2直線に対して、
前記第2領域もしくは第2偏光潜像部の第2遅相軸と前記第2直線とがなす角度と、前記第3領域もしくは第3偏光潜像部の第3遅相軸又はこれに直交する軸と前記第2直線とがなす角度とは互いに等しいことを特徴とする表示体。
【請求項3】
前記位相差層の面内方向において、前記位相差層の主面に平行な第3直線に対して、前記第1遅相軸がなす角度を第1角度θ1とし、前記第2遅相軸がなす角度を第2角度θ2とし、前記第3遅相軸がなす角度を第3角度θ3とし、及び前記第4遅相軸がなす角度を第4角度θ4としたときに、前記第1角度θ1と前記第2角度θ2と前記第3角度θ3と前記第4角度θ4と整数L、M及びNとは、関係式
θ2=θ1+22.5゜+90゜×L、
θ3=θ1+45゜+90゜×M、及び
θ4=θ1+67.5゜+90゜×N
を満たしていることを特徴とする請求項1に記載の表示体。
【請求項4】
前記位相差層と向き合った反射層を更に具備したことを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の表示体。
【請求項5】
前記位相差層と向き合った偏光層を更に具備したことを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の表示体。
【請求項6】
前記偏光層と向き合った吸収層を更に具備したことを特徴とする請求項5に記載の表示体。
【請求項7】
請求項1乃至6の何れか1項に記載の表示体と、前記表示体上に設けられた粘着層とを具備したことを特徴とする粘着ラベル。
【請求項8】
請求項1乃至6の何れか1項に記載の表示体と、前記表示体を剥離可能に支持した支持体層とを具備したことを特徴とする転写箔。
【請求項9】
請求項1乃至8の何れか1項に記載の表示体に偏光シートを重ね、偏光潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする表示体の真偽判定方法。
【請求項10】
さらに網点もしくは万線パターンからなる顕像化用パターンを形成してなる顕像化用シートを重ね、網点潜像もしくは万線潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする請求項9に記載の表示体の真偽判定方法。
【請求項11】
請求項1乃至9のいずれか1項に記載の表示体に、検証デバイスを重ね、偏光潜像及び網点潜像もしくは万線潜像の出現の有無にて真偽判定を行うことを特徴とする表示体の真偽判定方法。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図2】
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【図9】
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【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【公開番号】特開2013−109129(P2013−109129A)
【公開日】平成25年6月6日(2013.6.6)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−253668(P2011−253668)
【出願日】平成23年11月21日(2011.11.21)
【出願人】(000003193)凸版印刷株式会社 (10,630)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成25年6月6日(2013.6.6)
【国際特許分類】
【出願日】平成23年11月21日(2011.11.21)
【出願人】(000003193)凸版印刷株式会社 (10,630)
【Fターム(参考)】
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