アクリル系樹脂組成物からなるペレットの製造方法
【課題】乾燥工程が不要でかつ、カットミスの少ないアクリル系樹脂組成物からなるミニペレットの製造方法を提供する。
【解決手段】押出機で溶融混練したアクリル系樹脂組成物からペレット直径０．４ｍｍ以上、１ｍｍ以下のペレットを製造する方法であって、ダイスから吐出したストランドを少なくとも冷却水に接触し、その冷却水接触時間が０．２秒以下、冷却水水温が２０℃以上、８０℃以下、ダイスから吐出したストランドの（樹脂温度−ガラス転移温度）が１２０℃以下、ダイスから水切装置までのガイドロールの溝数がストランドの本数以上、を実施する。
【解決手段】押出機で溶融混練したアクリル系樹脂組成物からペレット直径０．４ｍｍ以上、１ｍｍ以下のペレットを製造する方法であって、ダイスから吐出したストランドを少なくとも冷却水に接触し、その冷却水接触時間が０．２秒以下、冷却水水温が２０℃以上、８０℃以下、ダイスから吐出したストランドの（樹脂温度−ガラス転移温度）が１２０℃以下、ダイスから水切装置までのガイドロールの溝数がストランドの本数以上、を実施する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アクリル系樹脂組成物からなるペレット、特にミニペレットの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
アクリル系樹脂は、透明性、耐熱性に優れており、建材、塗料、光学用途など幅広い用途に使われている。
【０００３】
ミニペレットはビーズ法型内発泡成形法の予備発泡粒子として良く使われているが、それ以外の用途として各種添加剤のマスターバッチとして利用できる。マスターバッチ法は直接添加剤を添加する方法よりも分散効率が良く、低エネルギー、短時間で高い分散度が得られるのが利点である。
【０００４】
ミニペレットの製造方法については、例えば発泡用途のためにポリオレフィンからなるミニペレット製造方法について知られている（特許文献１）。しかしながらこれらの方法はペレット化したのちに付着した水分を除去するために乾燥機などを使用して水分を除去する工程が必要であった。また、アクリル系樹脂の場合では付着する水分があるとペレタイザでのカット時にカットミスが発生しやすくなることが問題であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−９３９１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、このような従来の技術が有する課題に鑑みてなされたものであり、乾燥工程が不要でかつ、カットミスの少ないアクリル系樹脂組成物からなるミニペレットの製造方法を提供する事を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記課題を鑑み鋭意検討した結果、押出機で溶融混練したアクリル系樹脂組成物からペレット直径０．４ｍｍ以上、１ｍｍ以下のペレットを製造する方法であって、
ダイスから吐出したストランドを少なくとも冷却水に接触し、その冷却水接触時間が０．２秒以下、
冷却水水温が２０℃以上、８０℃以下、
ダイスから吐出したストランドの（樹脂温度−ガラス転移温度）が１２０℃以下、
ダイスから水切装置までのガイドロールの溝数がストランドの本数以上、
とすることで課題を解決できる事を見出し、本発明に至った。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、光学材料や耐熱性材料として有用なアクリル系樹脂組成物からなるミニペレットを、乾燥工程が不要でかつ、カットミスを少なく提供することが可能となる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明は押出機で溶融混練したアクリル系樹脂組成物からペレット直径０．４ｍｍ以上、１ｍｍ以下のペレットを製造する方法であって、
ダイスから吐出したストランドを少なくとも冷却水に接触し、その冷却水接触時間が０．２秒以下、
冷却水水温が２０℃以上、８０℃以下、
ダイスから吐出したストランドの（樹脂温度−ガラス転移温度）が１２０℃以下、
ダイスから水切装置までのガイドロールの溝数がストランドの本数以上、
であることを特徴とするアクリル系樹脂組成物からなるミニペレット（本明細書では、ペレット直径０．４ｍｍ以上、１ｍｍ以下のペレットのことを、ミニペレットと言うことがある。）の製造方法に関するものである。
【００１０】
前記アクリル系樹脂組成物を構成するアクリル系樹脂としては、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含有していることが要求される。さらに下記一般式（２）及び／または一般式（３）で表される繰り返し単位を含有していてもよい。
【００１１】
【化１】
【００１２】
但し、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素又は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｒ３は、水素、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は炭素数５〜１５の芳香環を含む置換基を示す。）
【００１３】
【化２】
【００１４】
（但し、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、水素又は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｒ６は、水素、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は炭素数５〜１５の芳香環を含む置換基を示す。）
【００１５】
【化３】
【００１６】
（但し、Ｒ７は、水素又は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｒ８は、炭素数６〜１０のアリール基を示す。）
前記一般式（１）においてＲ１として好ましくは、水素原子であり、Ｒ２として好ましくはメチル基である。Ｒ３として好ましくはメチル基である。
【００１７】
前記一般式（２）は一般的にグルタルイミド単位と呼ばれる事が多い（以下、一般式（２）をグルタルイミド単位と略して記す。）。
【００１８】
好ましいグルタルイミド単位としては、Ｒ４、Ｒ５が水素又はメチル基であり、Ｒ６が水素、メチル基、ブチル基、又はシクロヘキシル基である。Ｒ４がメチル基であり、Ｒ５が水素であり、Ｒ６がメチル基である場合が、特に好ましい。
【００１９】
該グルタルイミド単位は、単一の種類でもよく、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６が異なる複数の種類を含んでいても構わない。
【００２０】
前記一般式（３）においてＲ７として好ましくは水素であり、Ｒ８として好ましくはフェニル基である。
【００２１】
前記一般式（３）は一般的には芳香族ビニル単位と呼ばれる事が多い（以下、一般式（３）を芳香族ビニル単位と略して記す。）
好ましい芳香族ビニル構成単位としては、Ｒ７が水素及びＲ８がフェニル基であるスチレン、Ｒ７がメチル基及びＲ８がフェニル基であるα−メチルスチレン等が挙げられる。これらの中でスチレンが特に好ましい。
【００２２】
前記アクリル系樹脂組成物はさらに下記一般式（４）、（５）で表される繰り返し単位を含有していてもよい。
【００２３】
【化４】
【００２４】
（Ｒ９及びＲ１０は、それぞれ独立に、水素又は炭素数１〜８のアルキル基を示す。）
【００２５】
【化５】
【００２６】
（但し、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立に、水素又は炭素数１〜８のアルキル基を示す。）
本発明で使用するアクリル系樹脂組成物には、必要に応じ、更に、別の構成単位が共重合されていてもかまわない。該構成単位として、ラクトン環構造を有するラクトン系単量体、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のニトリル系単量体、マレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド系単量体を共重合してなる構成単位を用いる事ができる。これらはアクリル系樹脂組成物中に、直接共重合していても良く、グラフト共重合していても構わない。
【００２７】
又、本発明で使用するアクリル系樹脂は、１×１０４〜５×１０５の重量平均分子量を有する事が好ましい。重量平均分子量が１×１０４を下回る場合には、成形した場合の機械的強度が不足し、５×１０５を上回る場合には、溶融押出時の粘度が高く、成形加工性が低下し、成形品の生産性が低下する事がある。
【００２８】
本発明で使用するアクリル系樹脂組成物に於けるガラス転移温度は１１０℃以上である事が好ましく、１２０℃以上である事がより好ましい。ガラス転移温度が上記の値を下回ると、耐熱性が要求される用途においては適用範囲が制限される。
【００２９】
アクリル系樹脂組成物は、アクリル系樹脂に対して一般に用いられる酸化防止剤、熱安定剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、着色剤、収縮防止剤などの添加剤を含む。前記添加剤を含んでもよいし、含まなくてもよい。
【００３０】
本発明で使用するアクリル系樹脂組成物には、公知の各種滑剤を用いることができる。好ましい、滑剤としては脂肪酸アミド（アマイド）系滑剤、脂肪酸エステル系滑剤、金属石鹸系滑剤、高分子系滑剤、脂肪族炭化水素計滑剤、脂肪族アルコール系滑剤、脂肪酸系滑剤などが挙げられる（これらは単独で添加しても、併用して添加してもよい。）。
【００３１】
上記脂肪酸アミド（アマイド）系滑剤とは、脂肪酸とアミンからなるアミド（アマイド）であり、分子内に長鎖脂肪族基とアミド基を持つものであり、飽和・不飽和モノアミド（アマイド）、置換アミド（アマイド）、飽和・不飽和ビスアミド（アマイド）、メチロールアミド（アマイド）、エタノールアミド（アマイド）、エステルアミド（アマイド）、芳香族ビスアミド（アマイド）、置換尿素などがある。好ましい脂肪酸アミド（アマイド）系滑剤の例としては、例えば、ステアリン酸アミド（アマイド）、オレイン酸アミド（アマイド）、エルカ酸アミド（アマイド）、ベヘニン酸アミド（アマイド）、ステアリルエルカ酸アミド（アマイド）、エチレンビスエルカ酸アミド（アマイド）、エチレンビスステアリン酸アミド（アマイド）、Ｎ−ステアリルエルカアミド（アマイド）、エチレンジアミン・ステアリン酸・セバシン酸重縮合物などが挙げられる。
【００３２】
上記脂肪酸エステル系滑剤とは、脂肪酸と各種のアルコールとを原料とするエステルであり、分子内に長鎖脂肪基とエステル基を持つものである。脂肪酸エステル系滑剤の好ましい例としては、例えば、一価アルコールの高級脂肪酸エステル、多価アルコールの高級脂肪酸（部分）エステル、モンタン酸エステル、モンタン酸部分ケン化エステル、モンタン酸の複合エステルが挙げられる。さらに具体的には、ラウリン酸メチル、ミリスチン酸メチル、パルミチン酸メチル、ステアリン酸メチル、オレイン酸メチル、エルカ酸メチル、ベヘニン酸メチル、ラウリン酸ブチル、ステアリン酸ブチル、ミリスチン酸イソプロピル、パルミチン酸イソプロピル、パルミチン酸オクチル、ヤシ脂肪酸オクチルエステル、ステアリン酸オクチル、牛脂肪酸オクチルエステル、ラウリン酸ラウリル、ステアリン酸ステアリル、ベヘニン酸ベヘニル、ミリスチン酸セチル、ネオペンチルポリオール長鎖脂肪酸エステル、ペンタエリスリトール脂肪酸縮合エステル、トリメチロールプロパン脂肪酸エステル、トリメチロールプロパントリオレート、トリメチロールプロパントリ脂肪酸エステル、ペンタエリスリトール脂肪酸エステル、ネオペンチルグリコールジオレート、ペンタエリスリトールテトラオレート、ペンタエリスリトールテトラオレイン酸エステル、ジペンタエリスリトール脂肪酸エステル、ネオペンチルグリコールジカプリン酸エステル、トリメチロールプロパンジカプリン酸エステル、ジペンタエリスリトールヘキサイソノナン酸エステル、トリメチロールプロパン脂肪酸縮合エステルなどが挙げられる。
【００３３】
金属石鹸系滑剤とは、脂肪酸（例えば、ステアリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ひまし油脂肪酸、など）とアルミニウム、カルシウム、亜鉛、マグネシウムおよびバリウムなどの金属との塩である。金属石鹸系滑剤の好ましい例としては、例えば、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウムなどが挙げられる。より好ましくは、ステアリン酸亜鉛である。
【００３４】
上記高分子系滑剤の好ましい例としては、例えば、アクリル酸アルキル・メタクリル酸アルキル・スチレン共重合物が挙げられる。
【００３５】
上記脂肪族炭化水素系滑剤の好ましい例としては、例えば、Ｃ１６以上の流動パラフィン、マイクロクリスタリンワックス、天然パラフィン、合成パラフィン、ポリエチレンワックスなどのポリオレフィンワックス、およびこれらの部分酸化物、あるいはフッ化物、塩化物などが挙げられる。
【００３６】
上記脂肪族アルコール系滑剤の好ましい例は、例えば、ヘキサノール（カプロイルアルコール）、オクタノール〔カプリリルアルコール〕、デシルアルコールデカノール（カプリルアルコール）、ドデカノール（ラウリルアルコール）、テトラデカノール（ミリスチルアルコール）、ヘキサデカノール（セチルアルコール）、オクタデシノール（ステアリルアルコール）、エイコサノール（アラキジルアルコール）、ドコサノール、ベヘニルアルコール）などが挙げられる。より好ましくは、オクタデシノール（ステアリルアルコール）である。
【００３７】
上記脂肪酸系滑剤の好ましい例としては、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘニン酸などの飽和脂肪酸、オレイン酸、エルカ酸などの不飽和脂肪酸などが挙げられる。
【００３８】
本発明に用いられる滑剤は、上記脂肪酸アミド（アマイド）系滑剤、脂肪酸エステル系滑剤、金属石鹸系滑剤、高分子系滑剤、および脂肪族炭化水素系滑剤、脂肪族炭化水素系滑剤、脂肪族アルコール系滑剤、及び脂肪族酸系滑剤が組み合わされた複合滑剤であっても構わない。
【００３９】
アクリル系樹脂組成物における滑剤の添加量は、前記アクリル系樹脂の合計１００重量％に対して、０．０１〜１２重量％である事が好ましい。より好ましくは０．１〜６重量％である。さらに好ましくは１〜２重量％である。滑剤の添加量が少なすぎる場合には、滑剤の効果が得られにくく、加工安定性に欠け、そして成形体の表面平滑性が損なわれやすい。また、滑剤の添加量が多すぎる場合には押出後にアクリル系樹脂から飛散しやすく、ロス量が多くなりすぎてしまう。
【００４０】
本発明で使用するアクリル系樹脂組成物には、公知の各種紫外線吸収剤を用いることができる。好ましい、紫外線吸収剤としては、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤などが挙げられる（これらは単独で添加しても、併用して添加してもよい。）。
【００４１】
例えばトリアジン系紫外線吸収剤の好ましい化合物として、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（へキシル）オキシ］−フェノールが挙げられる。このものは２５℃の蒸気圧が９×１０−１０Ｐａと低いため溶融押出しにおいてベントおよびダイからのガス揮発が少なく好ましい。また、紫外線吸収剤のガス揮発性は１０％重量減少する温度でも表すことができ、本発明には好ましくは３００℃以上、さらに好ましくは３５０℃以上、より好ましくは３８０℃以上の紫外線吸収剤を用いる。
【００４２】
本発明で使用する好ましいベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−ベンゾトリアゾール−２−イル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−［５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミジルメチル）フェノール、メチル３−（３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応生成物、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖および側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール等が挙げられる。特に好ましいベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤は、２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールである。該紫外線吸収剤は、２５℃の蒸気圧が１０−５Ｐａ以下と低く、また１０％重量減少温度が３０４℃と高温であるためガス揮発が少なく、特に好ましい。その他の特に好ましいベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤は、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］であり、その１０％重量減少温度は３８９℃とさらに高温であるためガス揮発が少なく、特に好ましい。
【００４３】
本発明で使用するベンゾフェノン系紫外線吸収剤の好ましい化合物として、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、１，４−ビス（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）−ブタン等であり、２５℃の蒸気圧が１０−５Ｐａ以下と低いため好ましい。
【００４４】
本発明における紫外線吸収剤の添加量は、アクリル系樹脂の合計１００重量％に対して、０．１〜１２重量％であることが好ましい。より好ましくは、０．２〜６重量％である。さらに好ましくは、０．３〜３重量％である。紫外線吸収剤の添加量が０．１重量％より少ない場合は、３８０ｎｍにおける光線透過率が高くなり、紫外線の遮断効果が不十分となる場合があり、１２重量％より多い場合は着色が激しくなるおそれがある。これら紫外線吸収剤は単一でも良くまた複数を混合して用いてもかまわない。
【００４５】
本発明に於ける押出機としては、単軸押出機、同方向噛合型二軸押出機、同方向非噛合型二軸押出機、異方向噛合型二軸押出機、異方向非噛合型二軸押出機、多軸押出機等各種押出機が適用出来る。その中でも、特に、混練／分散能力が高い点で各種二軸押出機を適用するのが好ましく、混練／分散能力、生産性が高い事から同方向噛合型二軸押出機が更に好ましい。
【００４６】
本発明に於けるペレットサイズは、直径については０．４ｍｍ以上、１ｍｍ以下であることが要求される。ペレットの直径が０．４ｍｍより小さくなると微粉が多く混じり、粉体と同様に取り扱う必要が出てしまう。ペレットの直径が１ｍｍより大きくなるとマスターバッチとして使用する際に分散効率が落ちて、分散不良の原因になったり、過度に混練エネルギーが必要になってしまう。長さについては０．４ｍｍ以上、１．５ｍｍ以下が好ましい。特に、ペレット直径０．４ｍｍ以上、１ｍｍ以下のストランドは直径１ｍｍより大きいストランドに比べて折れやすく、水分の影響により極端にカットミスが発生しやすいため、本発明での冷却水接触時間、冷却水水温、ストランド樹脂温度、ダイスから水切装置までのガイドロールの溝数の４点を同時に制御してはじめて、乾燥工程が不要でかつ、カットミスの少ないアクリル系樹脂組成物ペレットを製造することができるようになる。
【００４７】
本発明に於けるストランドカット方式は冷却水槽、水切装置、ペレタイザを用いることが好ましい。冷却方式については、冷却水槽の代わりにシャワーリングコンベアでも冷却可能であるが、引き取り速度が過大になりやすくペレット直径の調整が難しい。冷却水槽内のストランドの冷却水接触時間は０．２秒以下であることが要求される。冷却水接触時間が０．２秒を超えるとストランドの表面が急激に固化してストランドが乱れてペレタイザからストランドが外れてしまう問題が発生する。冷却水温は２０℃以上、８０℃以下であることが要求される。冷却水温が２０℃より低くなるとストランドの表面が急激に固化してストランドが乱れてペレタイザからストランドが外れてしまう問題が発生する。８０℃を超えると十分な冷却効果が得られなくなってしまう。水切装置については吹き飛ばしによる水分除去と吸引による水分除去を組み合わせるのが好ましい。
【００４８】
押出機のダイスから吐出したストランドは（樹脂温度−ガラス転移温度）が１２０℃以下であることが要求される。（樹脂温度−ガラス転移温度）が１２０℃を超えるとドローダウンが顕著になるとともに冷却水に接触する際にストランドが大きく乱れてしまう問題が発生する。
【００４９】
冷却水槽及び水切装置におけるガイドロールは溝数がストランド本数以上であることが要求される。ガイドロールの溝数がストランド本数よりも少ないとストランド同士が接触してしまい、水切装置でどんなに除去しようとしても水分が残ってしまうからである。ストランド同士を接触させない理由は水分がストランド間に残るとペレタイザの回転刃によって切断された際にペレタイザの回転刃にペレットが付着してしまい、その後のストランドをカットする際にカットミスが生じて長さの長いペレットが生じてしまうためである。また、ストランド同士を接触させないためには上記冷却水接触時間０．２秒以下かつ冷却水温は２０℃以上、８０℃以下かつ（樹脂温度−ガラス転移温度）１２０℃以下を合わせて満たしている必要がある。ストランド同士が接触しないためにはストランドが安定していることが必須だからである。
【００５０】
ガイドロールの本数については特に制限はないが、冷却水槽内にストランドを接触させる時間は短いので冷却水槽の水に浸かるガイドロールは1本で十分である。必要に応じて水切装置までの間に１〜２本あれば安定して引き取れる。水切装置を通過した後でもストランドを一部重ねると引き取り不良が発生しやすいのでストランドが重ならないようにストランド同士を接触させないことが好ましい。上記方法で実施するとペレット表面の水分付着が無く、ペレットのカットミスが少なくなる。
【００５１】
本発明のアクリル系樹脂組成物から得られる成形品は、例えば、カメラやＶＴＲ、プロジェクター用の撮影レンズやファインダー、フィルター、プリズム、フレネルレンズ等の映像分野、ＣＤプレイヤーやＤＶＤプレイヤー、ＭＤプレイヤーなどの光ディスク用ピックアップレンズ等のレンズ分野、ＣＤプレイヤーやＤＶＤプレイヤー、ＭＤプレイヤー等の光ディスク用の光記録分野、液晶用導光板、偏光子保護フィルムや位相差フィルム等の液晶ディスプレイ用フィルム、表面保護フィルム等の情報機器分野、光ファイバ、光スイッチ、光コネクター等の光通信分野、自動車ヘッドライトやテールランプレンズ、インナーレンズ、計器カバー、サンルーフ等の車両分野、眼鏡やコンタクトレンズ、内視境用レンズ、滅菌処理の必要な医療用品等の医療機器分野、道路透光板、ペアガラス用レンズ、採光窓やカーポート、照明用レンズや照明カバー、建材用サイジング等の建築・建材分野、電子レンジ調理容器（食器）、家電製品のハウジング、玩具、サングラス、文房具、等に使用可能である。
【実施例】
【００５２】
本発明を実施例に基づき、更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００５３】
（製造例１）
原料の樹脂として市販のポリメタクリル酸メチル（住友化学（株）製スミペックスＭＧ）、イミド化剤としてモノメチルアミンを用いて、アクリル系樹脂を製造した。
【００５４】
使用した押出機は口径１５ｍｍの噛合い型同方向回転式二軸押出機である。押出機の各温調ゾーンの設定温度を２３０℃、スクリュー回転数は１５０ｒｐｍとした。ホッパーからポリメタクリル酸メチル樹脂を１ｋｇ／ｈｒで供給し、ニーディングブロックによって樹脂を溶融、充満させた後、ノズルから樹脂に対して５重量部のモノメチルアミンを注入した。反応後の副生成物および過剰のメチルアミンをベント口の圧力を−０．０９２ＭＰａに減圧して除去した。押出機出口に設けられたダイスからストランドとして出てきたアクリル系樹脂は、水槽で冷却した後、ペレタイザでペレット化した。
【００５５】
次いで、口径１５ｍｍの噛合い型同方向回転式二軸押出機にて、押出機各温調ゾーンの設定温度を２３０℃、スクリュー回転数１５０ｒｐｍとした。ホッパーから得られたイミド樹脂を１ｋｇ／ｈｒで供給し、ニーディングブロックによって樹脂を溶融、充満させた後、ノズルから樹脂に対して８重量部の炭酸ジメチルと２重量部のトリエチルアミンの混合液を注入し樹脂中のカルボキシル基の低減を行った。反応ゾーンの末端にはリバースフライトを入れて樹脂を充満させた。反応後の副生成物および過剰の炭酸ジメチルをベント口の圧力を−０．０９２ＭＰａに減圧して除去した。押出機出口に設けられたダイスからストランドとして出てきたアクリル系樹脂は、水槽で冷却した後、ペレタイザでペレット化した。
【００５６】
さらに、得られたイミド樹脂を口径１５ｍｍの噛合い型同方向回転式二軸押出機にて、押出機各温調ゾーンの設定温度を２３０℃、スクリュー回転数１５０ｒｐｍ、供給量１ｋｇ／ｈｒの条件で炭酸ジメチルをベント口の圧力を−０．０９５ＭＰａに減圧して再び除去した。押出機出口に設けられたダイスからストランドとして出てきたアクリル系樹脂は、水槽で冷却した後、ペレタイザでペレット化した（アクリル系樹脂Ｂ）。
【００５７】
（実施例１〜６）
アクリル系樹脂として、Ａ：ポリメタクリル酸メチル（住友化学(株)製スミペックスＭＧ）、Ｂ：製造例１で製造したアクリル系樹脂、Ｃ：メタクリル酸メチル−スチレン共重合体（新日鐵化学(株)製エスチレンＭＳ−８００）を使用した。添加剤として、Ｄ：ステアリルアルコール（花王製カルコール８０９８）、Ｅ：２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（へキシル）オキシ］−フェノール（ＢＡＳＦ社製チヌビン１５７７）を使用した。アクリル系樹脂と添加剤の配合比は添加剤を使用している実施例についてはアクリル系樹脂１００重量部に対して添加剤１重量部をハンドブレンドで混ぜたものをアクリル系樹脂組成物とした。
【００５８】
押出機に関しては、直径４４ｍｍ、Ｌ／Ｄ（押出機の長さＬと直径Ｄの比）が４２の同方向噛合型二軸押出機（(株)日本製鋼所製）を使用し、スクリュ式定重量フィーダー（クボタ(株)製）を用いて、押出機へアクリル系樹脂組成物を１０ｋｇ／時間で供給した。
【００５９】
押出機各バレル温度は（樹脂温度ーガラス転移温度）が表１の値になるように調整した。押出機スクリュ回転数は４５ｒｐｍとした。押出機から吐出された樹脂を、水槽で冷却した後、水切装置で水を除去し、ペレタイザーでカッティングしペレットとした。表１に押出条件とストランド安定性、ペレット付着水分有無、規格外ペレット量を示す。ストランド安定性は連続１０時間以上ペレット化可能かどうかを表し、ペレット付着水分有無は得られたペレットの表面に付着している水分が目視で見られるかどうかを表し、規格外ペレット量は長さが２ｍｍを超えたペレットの重量あたりのペレット個数を表している。
【００６０】
（比較例１〜６）
表１に示す押出条件以外は実施例１〜４と同じ条件で実施した。
【００６１】
比較例１〜６のように請求項１から外れた条件で製造を行うとストランド安定性が悪く、カットミスによる規格外ペレットが大量に生成して、実用には不向きである。
【００６２】
【表１】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アクリル系樹脂組成物からなるペレット、特にミニペレットの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
アクリル系樹脂は、透明性、耐熱性に優れており、建材、塗料、光学用途など幅広い用途に使われている。
【０００３】
ミニペレットはビーズ法型内発泡成形法の予備発泡粒子として良く使われているが、それ以外の用途として各種添加剤のマスターバッチとして利用できる。マスターバッチ法は直接添加剤を添加する方法よりも分散効率が良く、低エネルギー、短時間で高い分散度が得られるのが利点である。
【０００４】
ミニペレットの製造方法については、例えば発泡用途のためにポリオレフィンからなるミニペレット製造方法について知られている（特許文献１）。しかしながらこれらの方法はペレット化したのちに付着した水分を除去するために乾燥機などを使用して水分を除去する工程が必要であった。また、アクリル系樹脂の場合では付着する水分があるとペレタイザでのカット時にカットミスが発生しやすくなることが問題であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−９３９１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、このような従来の技術が有する課題に鑑みてなされたものであり、乾燥工程が不要でかつ、カットミスの少ないアクリル系樹脂組成物からなるミニペレットの製造方法を提供する事を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記課題を鑑み鋭意検討した結果、押出機で溶融混練したアクリル系樹脂組成物からペレット直径０．４ｍｍ以上、１ｍｍ以下のペレットを製造する方法であって、
ダイスから吐出したストランドを少なくとも冷却水に接触し、その冷却水接触時間が０．２秒以下、
冷却水水温が２０℃以上、８０℃以下、
ダイスから吐出したストランドの（樹脂温度−ガラス転移温度）が１２０℃以下、
ダイスから水切装置までのガイドロールの溝数がストランドの本数以上、
とすることで課題を解決できる事を見出し、本発明に至った。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、光学材料や耐熱性材料として有用なアクリル系樹脂組成物からなるミニペレットを、乾燥工程が不要でかつ、カットミスを少なく提供することが可能となる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明は押出機で溶融混練したアクリル系樹脂組成物からペレット直径０．４ｍｍ以上、１ｍｍ以下のペレットを製造する方法であって、
ダイスから吐出したストランドを少なくとも冷却水に接触し、その冷却水接触時間が０．２秒以下、
冷却水水温が２０℃以上、８０℃以下、
ダイスから吐出したストランドの（樹脂温度−ガラス転移温度）が１２０℃以下、
ダイスから水切装置までのガイドロールの溝数がストランドの本数以上、
であることを特徴とするアクリル系樹脂組成物からなるミニペレット（本明細書では、ペレット直径０．４ｍｍ以上、１ｍｍ以下のペレットのことを、ミニペレットと言うことがある。）の製造方法に関するものである。
【００１０】
前記アクリル系樹脂組成物を構成するアクリル系樹脂としては、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含有していることが要求される。さらに下記一般式（２）及び／または一般式（３）で表される繰り返し単位を含有していてもよい。
【００１１】
【化１】
【００１２】
但し、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素又は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｒ３は、水素、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は炭素数５〜１５の芳香環を含む置換基を示す。）
【００１３】
【化２】
【００１４】
（但し、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、水素又は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｒ６は、水素、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は炭素数５〜１５の芳香環を含む置換基を示す。）
【００１５】
【化３】
【００１６】
（但し、Ｒ７は、水素又は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｒ８は、炭素数６〜１０のアリール基を示す。）
前記一般式（１）においてＲ１として好ましくは、水素原子であり、Ｒ２として好ましくはメチル基である。Ｒ３として好ましくはメチル基である。
【００１７】
前記一般式（２）は一般的にグルタルイミド単位と呼ばれる事が多い（以下、一般式（２）をグルタルイミド単位と略して記す。）。
【００１８】
好ましいグルタルイミド単位としては、Ｒ４、Ｒ５が水素又はメチル基であり、Ｒ６が水素、メチル基、ブチル基、又はシクロヘキシル基である。Ｒ４がメチル基であり、Ｒ５が水素であり、Ｒ６がメチル基である場合が、特に好ましい。
【００１９】
該グルタルイミド単位は、単一の種類でもよく、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６が異なる複数の種類を含んでいても構わない。
【００２０】
前記一般式（３）においてＲ７として好ましくは水素であり、Ｒ８として好ましくはフェニル基である。
【００２１】
前記一般式（３）は一般的には芳香族ビニル単位と呼ばれる事が多い（以下、一般式（３）を芳香族ビニル単位と略して記す。）
好ましい芳香族ビニル構成単位としては、Ｒ７が水素及びＲ８がフェニル基であるスチレン、Ｒ７がメチル基及びＲ８がフェニル基であるα−メチルスチレン等が挙げられる。これらの中でスチレンが特に好ましい。
【００２２】
前記アクリル系樹脂組成物はさらに下記一般式（４）、（５）で表される繰り返し単位を含有していてもよい。
【００２３】
【化４】
【００２４】
（Ｒ９及びＲ１０は、それぞれ独立に、水素又は炭素数１〜８のアルキル基を示す。）
【００２５】
【化５】
【００２６】
（但し、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立に、水素又は炭素数１〜８のアルキル基を示す。）
本発明で使用するアクリル系樹脂組成物には、必要に応じ、更に、別の構成単位が共重合されていてもかまわない。該構成単位として、ラクトン環構造を有するラクトン系単量体、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のニトリル系単量体、マレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等のマレイミド系単量体を共重合してなる構成単位を用いる事ができる。これらはアクリル系樹脂組成物中に、直接共重合していても良く、グラフト共重合していても構わない。
【００２７】
又、本発明で使用するアクリル系樹脂は、１×１０４〜５×１０５の重量平均分子量を有する事が好ましい。重量平均分子量が１×１０４を下回る場合には、成形した場合の機械的強度が不足し、５×１０５を上回る場合には、溶融押出時の粘度が高く、成形加工性が低下し、成形品の生産性が低下する事がある。
【００２８】
本発明で使用するアクリル系樹脂組成物に於けるガラス転移温度は１１０℃以上である事が好ましく、１２０℃以上である事がより好ましい。ガラス転移温度が上記の値を下回ると、耐熱性が要求される用途においては適用範囲が制限される。
【００２９】
アクリル系樹脂組成物は、アクリル系樹脂に対して一般に用いられる酸化防止剤、熱安定剤、可塑剤、滑剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、着色剤、収縮防止剤などの添加剤を含む。前記添加剤を含んでもよいし、含まなくてもよい。
【００３０】
本発明で使用するアクリル系樹脂組成物には、公知の各種滑剤を用いることができる。好ましい、滑剤としては脂肪酸アミド（アマイド）系滑剤、脂肪酸エステル系滑剤、金属石鹸系滑剤、高分子系滑剤、脂肪族炭化水素計滑剤、脂肪族アルコール系滑剤、脂肪酸系滑剤などが挙げられる（これらは単独で添加しても、併用して添加してもよい。）。
【００３１】
上記脂肪酸アミド（アマイド）系滑剤とは、脂肪酸とアミンからなるアミド（アマイド）であり、分子内に長鎖脂肪族基とアミド基を持つものであり、飽和・不飽和モノアミド（アマイド）、置換アミド（アマイド）、飽和・不飽和ビスアミド（アマイド）、メチロールアミド（アマイド）、エタノールアミド（アマイド）、エステルアミド（アマイド）、芳香族ビスアミド（アマイド）、置換尿素などがある。好ましい脂肪酸アミド（アマイド）系滑剤の例としては、例えば、ステアリン酸アミド（アマイド）、オレイン酸アミド（アマイド）、エルカ酸アミド（アマイド）、ベヘニン酸アミド（アマイド）、ステアリルエルカ酸アミド（アマイド）、エチレンビスエルカ酸アミド（アマイド）、エチレンビスステアリン酸アミド（アマイド）、Ｎ−ステアリルエルカアミド（アマイド）、エチレンジアミン・ステアリン酸・セバシン酸重縮合物などが挙げられる。
【００３２】
上記脂肪酸エステル系滑剤とは、脂肪酸と各種のアルコールとを原料とするエステルであり、分子内に長鎖脂肪基とエステル基を持つものである。脂肪酸エステル系滑剤の好ましい例としては、例えば、一価アルコールの高級脂肪酸エステル、多価アルコールの高級脂肪酸（部分）エステル、モンタン酸エステル、モンタン酸部分ケン化エステル、モンタン酸の複合エステルが挙げられる。さらに具体的には、ラウリン酸メチル、ミリスチン酸メチル、パルミチン酸メチル、ステアリン酸メチル、オレイン酸メチル、エルカ酸メチル、ベヘニン酸メチル、ラウリン酸ブチル、ステアリン酸ブチル、ミリスチン酸イソプロピル、パルミチン酸イソプロピル、パルミチン酸オクチル、ヤシ脂肪酸オクチルエステル、ステアリン酸オクチル、牛脂肪酸オクチルエステル、ラウリン酸ラウリル、ステアリン酸ステアリル、ベヘニン酸ベヘニル、ミリスチン酸セチル、ネオペンチルポリオール長鎖脂肪酸エステル、ペンタエリスリトール脂肪酸縮合エステル、トリメチロールプロパン脂肪酸エステル、トリメチロールプロパントリオレート、トリメチロールプロパントリ脂肪酸エステル、ペンタエリスリトール脂肪酸エステル、ネオペンチルグリコールジオレート、ペンタエリスリトールテトラオレート、ペンタエリスリトールテトラオレイン酸エステル、ジペンタエリスリトール脂肪酸エステル、ネオペンチルグリコールジカプリン酸エステル、トリメチロールプロパンジカプリン酸エステル、ジペンタエリスリトールヘキサイソノナン酸エステル、トリメチロールプロパン脂肪酸縮合エステルなどが挙げられる。
【００３３】
金属石鹸系滑剤とは、脂肪酸（例えば、ステアリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ひまし油脂肪酸、など）とアルミニウム、カルシウム、亜鉛、マグネシウムおよびバリウムなどの金属との塩である。金属石鹸系滑剤の好ましい例としては、例えば、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウムなどが挙げられる。より好ましくは、ステアリン酸亜鉛である。
【００３４】
上記高分子系滑剤の好ましい例としては、例えば、アクリル酸アルキル・メタクリル酸アルキル・スチレン共重合物が挙げられる。
【００３５】
上記脂肪族炭化水素系滑剤の好ましい例としては、例えば、Ｃ１６以上の流動パラフィン、マイクロクリスタリンワックス、天然パラフィン、合成パラフィン、ポリエチレンワックスなどのポリオレフィンワックス、およびこれらの部分酸化物、あるいはフッ化物、塩化物などが挙げられる。
【００３６】
上記脂肪族アルコール系滑剤の好ましい例は、例えば、ヘキサノール（カプロイルアルコール）、オクタノール〔カプリリルアルコール〕、デシルアルコールデカノール（カプリルアルコール）、ドデカノール（ラウリルアルコール）、テトラデカノール（ミリスチルアルコール）、ヘキサデカノール（セチルアルコール）、オクタデシノール（ステアリルアルコール）、エイコサノール（アラキジルアルコール）、ドコサノール、ベヘニルアルコール）などが挙げられる。より好ましくは、オクタデシノール（ステアリルアルコール）である。
【００３７】
上記脂肪酸系滑剤の好ましい例としては、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘニン酸などの飽和脂肪酸、オレイン酸、エルカ酸などの不飽和脂肪酸などが挙げられる。
【００３８】
本発明に用いられる滑剤は、上記脂肪酸アミド（アマイド）系滑剤、脂肪酸エステル系滑剤、金属石鹸系滑剤、高分子系滑剤、および脂肪族炭化水素系滑剤、脂肪族炭化水素系滑剤、脂肪族アルコール系滑剤、及び脂肪族酸系滑剤が組み合わされた複合滑剤であっても構わない。
【００３９】
アクリル系樹脂組成物における滑剤の添加量は、前記アクリル系樹脂の合計１００重量％に対して、０．０１〜１２重量％である事が好ましい。より好ましくは０．１〜６重量％である。さらに好ましくは１〜２重量％である。滑剤の添加量が少なすぎる場合には、滑剤の効果が得られにくく、加工安定性に欠け、そして成形体の表面平滑性が損なわれやすい。また、滑剤の添加量が多すぎる場合には押出後にアクリル系樹脂から飛散しやすく、ロス量が多くなりすぎてしまう。
【００４０】
本発明で使用するアクリル系樹脂組成物には、公知の各種紫外線吸収剤を用いることができる。好ましい、紫外線吸収剤としては、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤などが挙げられる（これらは単独で添加しても、併用して添加してもよい。）。
【００４１】
例えばトリアジン系紫外線吸収剤の好ましい化合物として、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（へキシル）オキシ］−フェノールが挙げられる。このものは２５℃の蒸気圧が９×１０−１０Ｐａと低いため溶融押出しにおいてベントおよびダイからのガス揮発が少なく好ましい。また、紫外線吸収剤のガス揮発性は１０％重量減少する温度でも表すことができ、本発明には好ましくは３００℃以上、さらに好ましくは３５０℃以上、より好ましくは３８０℃以上の紫外線吸収剤を用いる。
【００４２】
本発明で使用する好ましいベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−ベンゾトリアゾール−２−イル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−［５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミジルメチル）フェノール、メチル３−（３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応生成物、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖および側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール等が挙げられる。特に好ましいベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤は、２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールである。該紫外線吸収剤は、２５℃の蒸気圧が１０−５Ｐａ以下と低く、また１０％重量減少温度が３０４℃と高温であるためガス揮発が少なく、特に好ましい。その他の特に好ましいベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤は、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］であり、その１０％重量減少温度は３８９℃とさらに高温であるためガス揮発が少なく、特に好ましい。
【００４３】
本発明で使用するベンゾフェノン系紫外線吸収剤の好ましい化合物として、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、１，４−ビス（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）−ブタン等であり、２５℃の蒸気圧が１０−５Ｐａ以下と低いため好ましい。
【００４４】
本発明における紫外線吸収剤の添加量は、アクリル系樹脂の合計１００重量％に対して、０．１〜１２重量％であることが好ましい。より好ましくは、０．２〜６重量％である。さらに好ましくは、０．３〜３重量％である。紫外線吸収剤の添加量が０．１重量％より少ない場合は、３８０ｎｍにおける光線透過率が高くなり、紫外線の遮断効果が不十分となる場合があり、１２重量％より多い場合は着色が激しくなるおそれがある。これら紫外線吸収剤は単一でも良くまた複数を混合して用いてもかまわない。
【００４５】
本発明に於ける押出機としては、単軸押出機、同方向噛合型二軸押出機、同方向非噛合型二軸押出機、異方向噛合型二軸押出機、異方向非噛合型二軸押出機、多軸押出機等各種押出機が適用出来る。その中でも、特に、混練／分散能力が高い点で各種二軸押出機を適用するのが好ましく、混練／分散能力、生産性が高い事から同方向噛合型二軸押出機が更に好ましい。
【００４６】
本発明に於けるペレットサイズは、直径については０．４ｍｍ以上、１ｍｍ以下であることが要求される。ペレットの直径が０．４ｍｍより小さくなると微粉が多く混じり、粉体と同様に取り扱う必要が出てしまう。ペレットの直径が１ｍｍより大きくなるとマスターバッチとして使用する際に分散効率が落ちて、分散不良の原因になったり、過度に混練エネルギーが必要になってしまう。長さについては０．４ｍｍ以上、１．５ｍｍ以下が好ましい。特に、ペレット直径０．４ｍｍ以上、１ｍｍ以下のストランドは直径１ｍｍより大きいストランドに比べて折れやすく、水分の影響により極端にカットミスが発生しやすいため、本発明での冷却水接触時間、冷却水水温、ストランド樹脂温度、ダイスから水切装置までのガイドロールの溝数の４点を同時に制御してはじめて、乾燥工程が不要でかつ、カットミスの少ないアクリル系樹脂組成物ペレットを製造することができるようになる。
【００４７】
本発明に於けるストランドカット方式は冷却水槽、水切装置、ペレタイザを用いることが好ましい。冷却方式については、冷却水槽の代わりにシャワーリングコンベアでも冷却可能であるが、引き取り速度が過大になりやすくペレット直径の調整が難しい。冷却水槽内のストランドの冷却水接触時間は０．２秒以下であることが要求される。冷却水接触時間が０．２秒を超えるとストランドの表面が急激に固化してストランドが乱れてペレタイザからストランドが外れてしまう問題が発生する。冷却水温は２０℃以上、８０℃以下であることが要求される。冷却水温が２０℃より低くなるとストランドの表面が急激に固化してストランドが乱れてペレタイザからストランドが外れてしまう問題が発生する。８０℃を超えると十分な冷却効果が得られなくなってしまう。水切装置については吹き飛ばしによる水分除去と吸引による水分除去を組み合わせるのが好ましい。
【００４８】
押出機のダイスから吐出したストランドは（樹脂温度−ガラス転移温度）が１２０℃以下であることが要求される。（樹脂温度−ガラス転移温度）が１２０℃を超えるとドローダウンが顕著になるとともに冷却水に接触する際にストランドが大きく乱れてしまう問題が発生する。
【００４９】
冷却水槽及び水切装置におけるガイドロールは溝数がストランド本数以上であることが要求される。ガイドロールの溝数がストランド本数よりも少ないとストランド同士が接触してしまい、水切装置でどんなに除去しようとしても水分が残ってしまうからである。ストランド同士を接触させない理由は水分がストランド間に残るとペレタイザの回転刃によって切断された際にペレタイザの回転刃にペレットが付着してしまい、その後のストランドをカットする際にカットミスが生じて長さの長いペレットが生じてしまうためである。また、ストランド同士を接触させないためには上記冷却水接触時間０．２秒以下かつ冷却水温は２０℃以上、８０℃以下かつ（樹脂温度−ガラス転移温度）１２０℃以下を合わせて満たしている必要がある。ストランド同士が接触しないためにはストランドが安定していることが必須だからである。
【００５０】
ガイドロールの本数については特に制限はないが、冷却水槽内にストランドを接触させる時間は短いので冷却水槽の水に浸かるガイドロールは1本で十分である。必要に応じて水切装置までの間に１〜２本あれば安定して引き取れる。水切装置を通過した後でもストランドを一部重ねると引き取り不良が発生しやすいのでストランドが重ならないようにストランド同士を接触させないことが好ましい。上記方法で実施するとペレット表面の水分付着が無く、ペレットのカットミスが少なくなる。
【００５１】
本発明のアクリル系樹脂組成物から得られる成形品は、例えば、カメラやＶＴＲ、プロジェクター用の撮影レンズやファインダー、フィルター、プリズム、フレネルレンズ等の映像分野、ＣＤプレイヤーやＤＶＤプレイヤー、ＭＤプレイヤーなどの光ディスク用ピックアップレンズ等のレンズ分野、ＣＤプレイヤーやＤＶＤプレイヤー、ＭＤプレイヤー等の光ディスク用の光記録分野、液晶用導光板、偏光子保護フィルムや位相差フィルム等の液晶ディスプレイ用フィルム、表面保護フィルム等の情報機器分野、光ファイバ、光スイッチ、光コネクター等の光通信分野、自動車ヘッドライトやテールランプレンズ、インナーレンズ、計器カバー、サンルーフ等の車両分野、眼鏡やコンタクトレンズ、内視境用レンズ、滅菌処理の必要な医療用品等の医療機器分野、道路透光板、ペアガラス用レンズ、採光窓やカーポート、照明用レンズや照明カバー、建材用サイジング等の建築・建材分野、電子レンジ調理容器（食器）、家電製品のハウジング、玩具、サングラス、文房具、等に使用可能である。
【実施例】
【００５２】
本発明を実施例に基づき、更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００５３】
（製造例１）
原料の樹脂として市販のポリメタクリル酸メチル（住友化学（株）製スミペックスＭＧ）、イミド化剤としてモノメチルアミンを用いて、アクリル系樹脂を製造した。
【００５４】
使用した押出機は口径１５ｍｍの噛合い型同方向回転式二軸押出機である。押出機の各温調ゾーンの設定温度を２３０℃、スクリュー回転数は１５０ｒｐｍとした。ホッパーからポリメタクリル酸メチル樹脂を１ｋｇ／ｈｒで供給し、ニーディングブロックによって樹脂を溶融、充満させた後、ノズルから樹脂に対して５重量部のモノメチルアミンを注入した。反応後の副生成物および過剰のメチルアミンをベント口の圧力を−０．０９２ＭＰａに減圧して除去した。押出機出口に設けられたダイスからストランドとして出てきたアクリル系樹脂は、水槽で冷却した後、ペレタイザでペレット化した。
【００５５】
次いで、口径１５ｍｍの噛合い型同方向回転式二軸押出機にて、押出機各温調ゾーンの設定温度を２３０℃、スクリュー回転数１５０ｒｐｍとした。ホッパーから得られたイミド樹脂を１ｋｇ／ｈｒで供給し、ニーディングブロックによって樹脂を溶融、充満させた後、ノズルから樹脂に対して８重量部の炭酸ジメチルと２重量部のトリエチルアミンの混合液を注入し樹脂中のカルボキシル基の低減を行った。反応ゾーンの末端にはリバースフライトを入れて樹脂を充満させた。反応後の副生成物および過剰の炭酸ジメチルをベント口の圧力を−０．０９２ＭＰａに減圧して除去した。押出機出口に設けられたダイスからストランドとして出てきたアクリル系樹脂は、水槽で冷却した後、ペレタイザでペレット化した。
【００５６】
さらに、得られたイミド樹脂を口径１５ｍｍの噛合い型同方向回転式二軸押出機にて、押出機各温調ゾーンの設定温度を２３０℃、スクリュー回転数１５０ｒｐｍ、供給量１ｋｇ／ｈｒの条件で炭酸ジメチルをベント口の圧力を−０．０９５ＭＰａに減圧して再び除去した。押出機出口に設けられたダイスからストランドとして出てきたアクリル系樹脂は、水槽で冷却した後、ペレタイザでペレット化した（アクリル系樹脂Ｂ）。
【００５７】
（実施例１〜６）
アクリル系樹脂として、Ａ：ポリメタクリル酸メチル（住友化学(株)製スミペックスＭＧ）、Ｂ：製造例１で製造したアクリル系樹脂、Ｃ：メタクリル酸メチル−スチレン共重合体（新日鐵化学(株)製エスチレンＭＳ−８００）を使用した。添加剤として、Ｄ：ステアリルアルコール（花王製カルコール８０９８）、Ｅ：２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（へキシル）オキシ］−フェノール（ＢＡＳＦ社製チヌビン１５７７）を使用した。アクリル系樹脂と添加剤の配合比は添加剤を使用している実施例についてはアクリル系樹脂１００重量部に対して添加剤１重量部をハンドブレンドで混ぜたものをアクリル系樹脂組成物とした。
【００５８】
押出機に関しては、直径４４ｍｍ、Ｌ／Ｄ（押出機の長さＬと直径Ｄの比）が４２の同方向噛合型二軸押出機（(株)日本製鋼所製）を使用し、スクリュ式定重量フィーダー（クボタ(株)製）を用いて、押出機へアクリル系樹脂組成物を１０ｋｇ／時間で供給した。
【００５９】
押出機各バレル温度は（樹脂温度ーガラス転移温度）が表１の値になるように調整した。押出機スクリュ回転数は４５ｒｐｍとした。押出機から吐出された樹脂を、水槽で冷却した後、水切装置で水を除去し、ペレタイザーでカッティングしペレットとした。表１に押出条件とストランド安定性、ペレット付着水分有無、規格外ペレット量を示す。ストランド安定性は連続１０時間以上ペレット化可能かどうかを表し、ペレット付着水分有無は得られたペレットの表面に付着している水分が目視で見られるかどうかを表し、規格外ペレット量は長さが２ｍｍを超えたペレットの重量あたりのペレット個数を表している。
【００６０】
（比較例１〜６）
表１に示す押出条件以外は実施例１〜４と同じ条件で実施した。
【００６１】
比較例１〜６のように請求項１から外れた条件で製造を行うとストランド安定性が悪く、カットミスによる規格外ペレットが大量に生成して、実用には不向きである。
【００６２】
【表１】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
押出機で溶融混練したアクリル系樹脂組成物からペレット直径０．４ｍｍ以上、１ｍｍ以下のペレットを製造する方法であって、
ダイスから吐出したストランドを少なくとも冷却水に接触し、その冷却水接触時間が０．２秒以下、
冷却水水温が２０℃以上、８０℃以下、
ダイスから吐出したストランドの（樹脂温度−ガラス転移温度）が１２０℃以下、
ダイスから水切装置までのガイドロールの溝数がストランドの本数以上、
であることを特徴とする乾燥工程不要のアクリル系樹脂組成物ペレットの製造方法。
【請求項２】
前記アクリル系樹脂組成物がグルタルイミド単位を含む請求項１記載のアクリル系樹脂組成物ペレットの製造方法。
【請求項３】
前記アクリル系樹脂組成物が芳香族ビニル単位を含む請求項１又は２の何れか１項に記載のアクリル系樹脂組成物ペレットの製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか１項に記載のアクリル系樹脂組成物ペレットの製造方法で製造したことを特徴とするアクリル系樹脂組成物ペレット。
【請求項１】
押出機で溶融混練したアクリル系樹脂組成物からペレット直径０．４ｍｍ以上、１ｍｍ以下のペレットを製造する方法であって、
ダイスから吐出したストランドを少なくとも冷却水に接触し、その冷却水接触時間が０．２秒以下、
冷却水水温が２０℃以上、８０℃以下、
ダイスから吐出したストランドの（樹脂温度−ガラス転移温度）が１２０℃以下、
ダイスから水切装置までのガイドロールの溝数がストランドの本数以上、
であることを特徴とする乾燥工程不要のアクリル系樹脂組成物ペレットの製造方法。
【請求項２】
前記アクリル系樹脂組成物がグルタルイミド単位を含む請求項１記載のアクリル系樹脂組成物ペレットの製造方法。
【請求項３】
前記アクリル系樹脂組成物が芳香族ビニル単位を含む請求項１又は２の何れか１項に記載のアクリル系樹脂組成物ペレットの製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか１項に記載のアクリル系樹脂組成物ペレットの製造方法で製造したことを特徴とするアクリル系樹脂組成物ペレット。
【公開番号】特開２０１２−２４０３４６（Ｐ２０１２−２４０３４６Ａ）
【公開日】平成２４年１２月１０日（２０１２．１２．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１１４２０６（Ｐ２０１１−１１４２０６）
【出願日】平成２３年５月２０日（２０１１．５．２０）
【出願人】（００００００９４１）株式会社カネカ (3,932)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１２月１０日（２０１２．１２．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年５月２０日（２０１１．５．２０）
【出願人】（００００００９４１）株式会社カネカ (3,932)
【Ｆターム（参考）】
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