説明

エレベータ速度検出方法

【課題】
エレベータのかごの速度もしくは位置を、かごに取り付けたセンサを用いて検出する。
【解決手段】
磁気発生手段を外周に具備する回転体0101が、同じく磁気発生手段0103を具備するガイドレール0102と所定の空間距離を保持して対向する。前記回転体0101がかごと連動して昇降路内を移動する際、磁気力により転動する。前記転動運動は、ロータリーエンコーダ0104によりパルスに変換され、かごの速度若しくは位置の算出に利用する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、エレベータ装置に係り、特に乗りかごの速度や位置を検出する装置を備えるエレベータ装置に関する。
【背景技術】
【0002】
エレベータの乗りかご(以下かごと記す)とガイドレールとの相対速度を計測する方法として、ロータリーエンコーダや調速機に連結されたローラを乗りかごに設置し、ローラをガイドレールに押し当てる手法が用いられてきた。特許文献1では、バネとアームによる機構でエンコーダ付きのローラをガイドレールに押圧していた。類似の構成例として、バネ圧以外に重力を用いる方法など、押圧の様式により引用外の多数の例がある。
【0003】
特許文献2では、クローラ(複数のプーリに巻き掛けられて回転駆動される環状のベルト)を用いガイドレールとの接触面積を増加させる方式が示されている。
【0004】
【特許文献1】特開昭61−277573号公報
【特許文献2】特開2006−151610号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
上述した従来の速度検出方式では、エンコーダや調速機に連結されたローラ(含クローラ)を回転させるトルクは、ガイドレールとの摩擦により発生していた。よって様々な方法により、ローラ押圧(抗力)の増大を図っても、トルクの生成には摩擦係数を介していた。摩擦係数は、潤滑状態や接触部材の経年変化など条件によって大幅に変化するため、安定した速度検知には、大きな安全率をみた設計が必須であった。
【0006】
本発明の課題は、摩擦係数を介さずにローラを回転させる方法の提供にある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
レールに所定の間隔で設置した第1の磁気発生手段と、回転体の外周部に所定の間隔で配置した第2の磁気発生手段と、回転体の回転運動を電気的パルスに変換する手段(例えば、ロータリーエンコーダ)とを備え、回転体における第2の磁気発生手段を有する外周部をレールの第1の磁気発生手段に空間的距離を保持しつつ対向させる。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、かごとガイドレールとの相対位置変化に応じ、外周部に磁気発生手段を有する回転体(以降検出ローラと記す)が磁気力によりガイドレールと非接触で回転するため、摩擦係数に依存しない速度検出が行える。よって、界面の状態変化によるローラの滑りを回避できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0009】
(実施例)
図2は、本発明の一実施例であるエレベータ装置の概略構成を示す。かご0105に設置された速度検出手段0112が、かごの移動0113と連動して移動する。速度検出手段0112の出力は、制御装置0111へ送られ、制御装置0111が過速と判断した場合などは、必要に応じブレーキ0109等の操作を行う。また、速度検出手段0112の出力は、かごに設置したローカルな速度判定装置0110で速度の判定を行い、かご上だけの判断で非常止め(図示せず)を動作させても良い。尚0106はメインロープ、0107はつりあい錘、0108は巻き上げ機に取り付けられたシーブである。
【0010】
次に、速度検出手段0112に示す部分を抽出したものを図1に示す。
【0011】
図1(a)において、0101は円盤状回転体、0102はガイドレール、0103はガイドレール側磁気発生手段、0104はロータリーエンコーダである。円盤状回転体
0101の軸受け(図示せず)およびロータリーエンコーダ0104は、かご0105に連結されている。ここで、円盤状回転体0101に対し、ガイドレール側磁気発生手段
0103若しくはガイドレール0102は互いに接触のない位置関係で設置されている。ここで、かごの移動方向を2102とすると、円盤状回転体0101はかごに連動して移動すると共に、2101方向に転動する。この転動をロータリーエンコーダ0104にてパルスに変換することで、ガイドレールとかごの相対的な移動距離を算出する。移動速度は移動距離の時間変動より算出する。
【0012】
図1(b)は、同図(a)を+x方向より見たものである。円盤状回転体0101に対しガイドレール側磁気発生手段0103は、零でない空隙距離g 2105をもって対向している。2106は、磁気発生手段の個別要素に作用する吸引方向の磁気力を示している。磁気発生手段として例えば永久磁石を用いるとすると、2103,2104に示すように互いに異なる磁極を交互に対向するよう配置することで、吸引と反発双方の磁気力を利用できる。更に円盤状回転体とガイドレール磁気発生手段との同期ズレ時の回転角が大きくなり、同期ズレの検出が容易になる。尚、ガイドレール側磁気発生手段0103は、必ずしもガイドレールを用い支持される必要は無く、専用のレールを用いて支持されても良い。
【0013】
図3はロータリーダンパの適用例である。同図(a)の2201がロータリーダンパで、回転に対する制動作用を提供する。同図(b)がロータリーダンパ利用時の効果の例で、横軸が時間、縦軸が速度である。いま、2205のような速度のステップ入力があったとすると、ダンピング量が少ない場合2206のように大きなオーバーシュートを示す。ダンピング量を増加させると、2207のようにオーバーシュート量が減少する。オーバーシュート量が一定値を越えると、円盤状回転体0101とガイドレール側磁気発生手段0103との同期が崩れるため、適切なダンピング量を与えることで脱調を防止する。図3では、円盤状回転体0101とロータリーエンコーダ0104の間に設けてあるが、機械的に結合していれば、順番は任意である。
【0014】
図4はアクティブダンパの適用例である。磁気力により円盤状回転体0101に発生するトルクは回転速度の増加と共に減少する。いま横軸に回転速度、縦軸にダンピング量をとると、適切なダンピング量は同図(b)2208のように回転速度と共に減少する。そこで、同図(a)のように、ダンピング量を調整可能なアクティブダンパ2202を利用し、回転速度に依存しダンピング量を変更することで、広い回転速度範囲にわたり安定した位置あるいは速度の検出が可能となる。尚、円盤状回転体0101の静止状態からの起動トルクを考慮し、2211の如く回転速度が小さい領域でダンピング量を減少させても良い。
【0015】
図5に回転アシスト機能付きロータリーダンパの例を示す。同ダンパを用いた方式においては、特に円盤状回転体0101の回転速度の大きな領域で、制動方向(ダンピング)とは逆の加勢方向(アシスト)のトルクを発生させ、脱調を防止することを特徴とする。本機能を実現するため、センサ2203及びモータ制御装置2204を用い、モータ2212を駆動する同期モータと類似の構成をとる。モータ制御装置2204においては、センサ2203が検出したガイドレール側磁気発生手段0103との位置関係、及びロータリーエンコーダ0104で検出した円盤状回転体0101の回転状況を比較し、両者の位相関係を把握する。位相遅れが一定値以上の場合はアシスト力を発生させるようモータを駆動し、位相の進みが一定以上の場合はダンピング力を発生させるようモータを駆動する。
2209は回転アシストダンパの特性例を示す。横軸の回転速度がある一定量以上の領域で、ダンピング量が0以下(アシスト方向)となり、回転をアシストする。もし、円盤状回転体0101の静止状態からの起動トルクが大きい場合、2210の如く起動時にアシストを行っても良い。
【0016】
図6は磁気発生手段に対しカバーを施す例である。2230はガイドレール側の磁気発生手段に設置するカバーの例で、ガイドレール側磁気発生手段個別要素2103の隙間および表面への付着物の堆積を防止する。更に防汚効果に加え円盤状回転体0101やその他部材が万一接触した際、ガイドレール側磁気発生手段個別要素2103を保護する機能も果たす。カバー2230の材質は、樹脂やゴムなどの弾性体を利用すれば、部材との衝突の際に衝撃緩和の効果を期待できる。同様にカバー2230の材質にステンレスなどの金属を用いれば、経年変化に対する耐久性を期待できる。カバー2230の材料に金属を用いる場合は、非磁性体とすることが望ましいが、板厚の薄い磁性体も飽和磁束密度を超える分の磁束が漏洩するため利用可能である。2232はクリーニングローラで、鉄粉など磁性体を含む塵埃の付着に際しても、強制的な排除が可能である。クリーニングローラ2232の構成としてはローラ以外に、ヘラやフェルト,スポンジ,圧縮空気などの流体でも良い。クリーニングローラ2232の取り付け位置は、円盤状回転体0101の両側に設けても良い。円盤状回転体0101用のクリーニングは、点検時に行っても良い。円盤状回転体0101用のクリーニングローラを設けても良い。
【0017】
2231は円盤状回転体側の磁気発生手段に設置するカバーの例である。その効果は、ガイドレール側のカバーと同様に防汚と保護に加え、遠心力による円盤状回転体側磁気発生手段個別要素2104の脱落防止も兼ねさせることが可能である。定期点検時の点検用ローラの押し当て時に備え、摩擦のあるゴム材を用いても良い。また、点検用ローラを円盤状回転体0101に直接押し当てず、点検用のプーリ或いはカプラを別に設けても良い。
【0018】
図7に部分的な精密位置検出の例を示す。本実施例では、昇降路内のかご移動区間のうち、一部にガイドレール側磁気発生手段0103を施し、同手段が設置してある近傍においてのみ正確な位置の把握を行うものである。具体的な応用例としては、各階床とかご床との精密な位置あわせが挙げられる。図7(a)の0103−a及び0103−bが、部分的に設置したガイドレール側磁気発生手段である。よって、2234がガイドレール側磁気発生手段非設置区間2235がガイドレール側磁気発生手段設置区間となる。ガイドレール側磁気発生手段設置区間2235の長さは、かご0105の精密な位置測定が必要な区間とその前後に必要な有余を加えた長さである。図7(b)は、円盤状回転体0101が、ガイドレール側磁気発生手段非設置区間2234に対向している状態を示す。同状態では、円盤状回転体0101に敷設した初期位置設定用錘2233により、円盤状回転体は所定の角度に保持される。
【0019】
図7(c)は、円盤状回転体0101が、ガイドレール側磁気発生手段設置区間2235に対向している状態を示す。同状態では、円盤状回転体0101がガイドレール側磁気発生手段0103と同期して回転し、位置の測定が可能となる。ここで2233−aは、円盤状回転体0101が回転を開始する前の初期位置設定用錘の位置、同じく2233−bは回転開始後の初期位置設定用錘の位置である。初期位置設定用錘2233は、別体式の錘に限らず、円盤状回転体0101の肉厚の部分的な調整若しくは、円盤状回転体側磁気発生手段個別要素2104の質量の部分的な調整にて錘と同様の機能をもたせても良い。更にモータを用いて強制的に初期位置を調節しても良い。速度検出手段0112の設置位置は、乗りかごの上に限らず、0112−bのように、乗りかごの下でも、或いは側面でも良い。これらは、断片的なガイドレール側磁気発生手段0103−a,0103−bの設置や調整のしやすさを考慮して決定しても良い。また、図7(d)の如く、ガイドレール側磁気発生手段に代え、昇降路側磁気発生手段3103を、ガイドレールとは別の昇降路側支持手段3104上に設置する構成としても良い。昇降路側支持手段3104は昇降路内に断続的に配置し、精密な床位置合わせに利用しても良い。
【0020】
図8に渦電流による回転抵抗を防止する実施例を示す。円盤状回転体0101の回転の増加につれ、円盤状回転体の磁気発生手段によりガイドレール0102側に渦電流が生じ、円盤状回転体0101の回転を妨げる。本現象は、図8(a)の如く、円盤状回転体
0101とガイドレール0102摺動面との空隙2251が小さい場合に顕著となるため、同図(b)2252の如く、円盤状回転体0101の取り付けに傾斜を設けることで空隙を拡大し、渦電流による抵抗を低減する。渦電流を発生させにくい空間的配置であれば、軸の傾斜以外の方法を用いても良い。更に磁気シールドや円盤状回転体側磁気発生手段個別要素2104の磁化形状やヨーク形状を工夫し、渦電流の発生を低減しても良い。
【0021】
図9はレール取り付け部材との干渉を回避する例である。ガイドレール0102には、連結用のボルト,壁面固定用のクリップなど多数の取り付け部材2253が取り付けられている場合が多い。そこでガイドレール側磁気発生手段0103及び円盤状回転体0101を図示の如き位置関係に配置すれば、部材2253との干渉を回避できる。
【0022】
図10は円盤状回転体の構成例を示す。同図(a)では、円盤状回転体側磁気発生手段個別要素2104を中空構造の円盤状回転体0101辺縁部の内側(回転軸側へ対向する側)に取り付けている。この取り付け位置によると、遠心力による円盤状回転体側磁気発生手段個別要素2104への荷重を、円盤状回転体0101の本体構造により支持することが可能となる。従って、円盤状回転体側磁気発生手段取り付け部材2254の必要強度を小さく出来、同部材を軽量化可能となる。また、ガイドレール側磁気発生手段個別要素2103と、円盤状回転体側磁気発生手段個別要素2104が直接接触した場合には、両者を分離するために相当量の荷重をかける必要があることが知られている。よって、磁気発生手段同士が直接接触する可能性のある構造をとった場合、分離のための荷重を考慮した強度を、円盤状回転体0101及びその支持部材にもたせる必要がある。図10(a)の構成とすると、磁気発生手段間に円盤状回転体0101の構造部材が必ず介在するため、磁気発生手段同士の直接接触を防止でき、円盤状回転体0101の最低強度の制限を緩和できる。加えて、異物衝突時の衝撃が、直接円盤状回転体側磁気発生手段個別要素2104に作用しないため、耐衝撃性の向上が見込める。
【0023】
図10(b)は円盤状回転体側磁気発生手段個別要素2104を円盤状回転体0101辺縁部の外側に取り付ける実施例である。磁気発生手段間の距離を図10(a)の場合と同一とすると、本構成では円盤状回転体0101とガイドレール側磁気発生手段個別要素2103との空隙距離g2を大きくとることが可能となる。
【0024】
図10(c)のように円盤状回転体0101の側面に磁気力が作用する構成としても良い。同様に、円盤状回転体0101の回転軸2255に対し、斜めに磁気力が作用する構成(傘車状、図示せず)としても良い。
【0025】
図11(a)に円盤状回転体の接触を許容する場合の実施例を示す。本実施例では、円盤状回転体0101と、ガイドレール側磁気発生手段0103との空隙距離2105が0となる状態が存在する。空隙距離が0となるケースとして、意図して空隙距離を0とすることで利点を得られる場合と、意図せず空隙距離を0となる状態を許容することで利点が得られる場合とに大別される。前者の利点として、常時接触あるいは接触する時間割合を多くすることによる、円盤状回転体0101の転動の助勢、若しくはダンピング効果の助勢が挙げられる。後者の利点として、円盤状回転体0101の接触を許容することで、平均空隙距離を小さく設定可能となり、磁気発生手段間の距離が縮小するため、磁気力によるトルク増大の効果が期待できる。空隙距離が0を許容する場合、ガイドレール磁気発生手段側カバー2230若しくは円盤状回転体側磁気発生手段カバー2231の少なくとも一方を使用することで、円盤状回転体0101その他の速度検出機構の破損と、転動の際の滑りを防止できる。
【0026】
図11(b)は、アクティブ懸架機構2257を用い空隙距離を動的に制御する場合の例である。本構成では、円盤状回転体0101に対し、助勢効果もしくはダンピング効果が必要な場合に、空隙の調整による磁気力の調整が可能である。必要に応じ、空隙距離が0となる接触状態も利用する。更に接触時には、アクティブ緩衝器としての機能を兼ねても良い。
【0027】
空隙距離0を許容する構成では、ガイドレール取り付け部材2253の存在する箇所のみガイドレール側磁気発生手段個別要素2103を設けない配置としても良い。同要素の欠落部分のトルクは、隣接する欠落していない要素の磁気力と、接触による摩擦トルク、及び円盤状回転体0101の慣性を利用することで測定精度を確保する。
【図面の簡単な説明】
【0028】
【図1】速度検出手段抽出図。
【図2】エレベータ概略構成図。
【図3】ロータリーダンパ適用例。
【図4】アクティブダンパ適用例。
【図5】回転アシスト機能付きダンパの例。
【図6】磁気発生手段カバーの例。
【図7】部分的精密位置検出の例。
【図8】渦電流による回転抵抗を防止する例。
【図9】レール取り付け部材の干渉回避例。
【図10】円盤状回転体構成例。
【図11】円盤状回転体の接触を許容する例。
【符号の説明】
【0029】
0101 円盤状回転体
0102 ガイドレール
0103 ガイドレール側磁気発生手段
0104 ロータリーエンコーダ
0105 かご(乗りかご)
0106 メインロープ
0107 つりあい錘
0108 シーブ
0109 ブレーキ
0110 速度判定装置
0111 制御装置
0112 速度検出手段
2103 ガイドレール側磁気発生手段個別要素
2104 円盤状回転体側磁気発生手段個別要素
2201 ロータリーダンパ
2202 アクティブダンパ
2203 センサ
2204 モータ制御装置
2209 回転アシストダンパ
2212 モータ
2230 ガイドレール磁気発生手段側カバー
2231 円盤状回転体側磁気発生手段カバー
2232 クリーニングローラ
2233 初期位置設定用錘
2253 ガイドレール取り付け部材
2254 円盤状回転体側磁気発生手段取り付け部材
2255 円盤状回転体の回転軸
2256 パッシブ懸架機構
2257 アクティブ懸架機構
3103 昇降路側磁気発生手段
3104 昇降路側支持手段

【特許請求の範囲】
【請求項1】
昇降路内を移動する乗りかごと、前記昇降路内における前記乗りかごの移動範囲にわたり設置されたレールと、前記レールに所定の間隔で設置した第1の磁気発生手段と、外周部に第2の磁気発生手段を所定の間隔で具備し前記乗りかごと連動して前記昇降路内を動く回転体と、前記回転体の回転運動を電気的パルスに変換する手段と、を備え、
前記回転体における前記第2の磁気発生手段を具備する前記外周部が、前記レールの前記第1の磁気発生手段に空間的距離を保持しつつ対向することを特徴とするエレベータ装置。
【請求項2】
昇降路内を移動する乗りかごと、前記昇降路内における前記乗りかごの移動範囲にわたり設置されたレールと、前記レールの少なくとも一部の区間にわたり所定の間隔で設置した第1の磁気発生手段と、外周部に第2の磁気発生手段を所定の間隔で具備し前記乗りかごと連動して前記昇降路内を動く回転体と、前記回転体の回転運動を電気的パルスに変換する手段と、前記回転体の回転角位置を所定の角度に設定する手段と、を備え、
前記回転体における前記第2の磁気発生手段を具備する前記外周部が、前記レールの前記第1の磁気発生手段に空間的距離を保持しつつ対向することを特徴とするエレベータ装置。
【請求項3】
請求項1または請求項2において、前記回転体の回転運動に対し回転を妨げる方向の抵抗力を生じる手段を有することを備えることを特徴とするエレベータ装置。
【請求項4】
請求項3において、前記回転運動に対し抵抗力を生じる手段の抵抗力を回転速度に応じ変更することを特徴とするエレベータ装置。
【請求項5】
請求項1〜4のいずれか1項において、前記回転体の回転運動に対し回転を妨げる方向の抵抗力或いは回転を加勢する方向の負の抵抗力を生じる手段を有することを特徴とするエレベータ装置。
【請求項6】
昇降路内を移動する乗りかごと、前記昇降路内における前記乗りかごの移動範囲にわたり設置されたレールと、前記レールに所定の間隔で設置した第1の磁気発生手段と、外周部に第2の磁気発生手段を所定の間隔で具備し前記乗りかごと連動して前記昇降路内を動く回転体と、前記回転体の回転運動を電気的パルスに変換する手段と、を備え
前記回転体における前記第2の磁気発生手段を具備する前記外周部が、前記レールの前記第1の磁気発生手段に当接することを特徴とするエレベータ装置。
【請求項7】
請求項1〜6のいずれか1項において、前記第1の磁気発生手段を、ガイドレールとは別の支持構造物上に設置することを特徴とするエレベータ装置。

【図1】
image rotate

【図2】
image rotate

【図3】
image rotate

【図4】
image rotate

【図5】
image rotate

【図6】
image rotate

【図7】
image rotate

【図8】
image rotate

【図9】
image rotate

【図10】
image rotate

【図11】
image rotate