説明

エンボス加工装置およびエンボス加工方法

【課題】 微細な凹凸形状を高精度かつ効率的に形成することができるエンボス加工装置を提供する。
【解決手段】 エンボス加工装置10は、外周に凹凸形状を有する絵柄ロール12と、絵柄ロール12に対向して配置された支持ロール14と、微粒子状の樹脂5を絵柄ロール12上に供給する樹脂供給装置16と、を備えている。樹脂供給装置16から供給された樹脂5は、絵柄ロール12の凹凸内に入り込む。樹脂5は、絵柄ロール12と支持ロール14との間に供給される基材6上に転移させられ、基材6に凹凸形状が形成される。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、凹凸形状を基材に形成するエンボス加工装置およびエンボス加工方法に係り、とりわけ微細な凹凸形状を高精度かつ効率的に形成することができるエンボス加工装置およびエンボス加工方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、微細な凹凸形状を基材に形成するために、エンボス加工が用いられてきた(例えば、特許文献1)。
【0003】
特許文献1には、クレジットカードや金券等に用いられる偽造防止用ホログラムを、エンボス加工によって形成する方法が開示されている。特許文献1に開示された方法においては、基材上に樹脂を塗布し、その表面に干渉縞を形成する微細な凹凸形状を転写し、その後、樹脂を硬化させている。
【特許文献1】特開2001−31730号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
樹脂に凹凸形状を転写する場合、樹脂の転写性を向上させるため、樹脂を加熱軟化させることが一般的に行われている。ところが、樹脂によっては、高温雰囲気中で反応硬化してしまうものもある。このような樹脂に対して加工を施す場合には、加熱条件が制限され、樹脂を十分軟化させた状態で加工を施すことができない。この不都合を回避するためには、生産性を落として低速で加工を行わなければならない。
【0005】
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、微細な凹凸形状を高精度かつ効率的に形成することができるエンボス加工装置およびエンボス加工方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明によるエンボス加工装置は、外周に凹凸形状を有する絵柄ロールと、絵柄ロールに対向して配置された支持ロールと、微粒子状の樹脂を絵柄ロールに供給する樹脂供給装置と、を備え、絵柄ロールと支持ロールとの間に供給される基材に樹脂を転移させて凹凸形状を形成することを特徴とする。このような本発明によれば、微粒子状の樹脂が樹脂供給装置から供給され、絵柄ロールの凹凸内に入り込む。そして、絵柄ロールと支持ロールとの間で凹凸内に入り込んだ樹脂が基材に向けて押圧され、基材上に転移させられる。これにより、微細な凹凸形状を高精度かつ効率的に形成することができる。
【0007】
また、本発明によるエンボス加工装置が、絵柄ロールを加熱する加熱装置をさらに備えるようにしてもよい。このような本発明によれば、加熱によって樹脂の流動性が高められ、凹凸形状をより高精度かつ効率的に形成することができる。
【0008】
さらに、本発明によるエンボス加工装置において、樹脂供給装置は絵柄ロールの上方に設けられ、上方から微粒子状の樹脂を供給するようになっていることが好ましい。このような本発明によれば、樹脂が絵柄ロール上で広がるので、樹脂を確実に凹凸内に入り込ませることができ、これにより、凹凸形状をより高精度かつ効率的に形成することができる。
【0009】
さらに、本発明によるエンボス加工装置が、基材上に転移させられた樹脂を硬化させて、樹脂を基材上に固定する硬化装置をさらに備えるようにしてもよい。このような本発明によれば、押圧時に加えられ基材に残留した応力が加工後に徐々に開放されることが抑制され、形成された凹凸形状が平坦化してしまうことを、防止することができる。
【0010】
本発明によるエンボス加工方法は、外周に凹凸形状を有する絵柄ロールに、微粒子状の樹脂を供給する工程と、絵柄ロールと絵柄ロールに対向して配置された支持ロールとの間に、基材を供給する工程と、絵柄ロールと支持ロールとの間で基材を樹脂とともに押圧して、基材に樹脂を転移させて凹凸形状を形成する工程と、を備えたことを特徴とする。このような本発明によれば、微粒子状の樹脂が絵柄ロール上に供給され、絵柄ロールの凹凸内に入り込む。そして、絵柄ロールと支持ロールとの間で凹凸内に入り込んだ樹脂が基材に向けて押圧され、基材上に転移させられる。これにより、微細な凹凸形状を高精度かつ効率的に形成することができる。
【0011】
また、本発明によるエンボス加工方法において、絵柄ロールが加熱されているようにしてもよい。このような本発明によれば、加熱によって樹脂の流動性が高められ、凹凸形状をより高精度かつ効率的に形成することができる。
【0012】
さらに本発明によるエンボス加工方法においては、微粒子を供給する工程において、微粒子状の樹脂が上方から絵柄ロールに供給されるようにしもてよい。このような本発明によれば、樹脂が絵柄ロール上で広がるので、樹脂を確実に凹凸内に入り込ませることができ、これにより、凹凸形状をより高精度かつ効率的に形成することができる。
【0013】
さらに本発明によるエンボス加工方法が、基材上に転移させられた樹脂を硬化させて、微粒子を基材上に固定する工程をさらに備えるようにしてもよい。このような本発明によれば、押圧時に加えられ基材に残留した応力が加工後に徐々に開放されることにともない形成された凹凸形状が平坦化してしまうことを、防止することができる。
【発明の効果】
【0014】
本発明によれば、樹脂からなる微粒子が絵柄ロールに供給され、絵柄ロールの凹凸内に入り込む。そして、絵柄ロールによって凹凸内に入り込んだ微粒子が基材に向けて押圧され、基材上に転移させられることによって、微細な凹凸形状を高精度かつ効率的に形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0015】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
【0016】
図1および図2は本発明によるエンボス加工装置およびエンボス加工方法の一実施の形態を示す図である。
【0017】
このうち図1はエンボス加工装置およびエンボス加工方法を示す概略図であり、図2は樹脂が供給された絵柄ロールを示す部分側断面図である。
【0018】
図1に示すように、エンボス加工装置10は、外周に凹凸形状を有する絵柄ロール12と、絵柄ロール12の側方に絵柄ロール12に対向して配置された支持ロール14と、微粒子状の樹脂5を絵柄ロール12上に供給する樹脂供給装置16と、を備えている。このようなエンボス加工装置10は、供給される基材6に凹凸形状を形成する装置である。
【0019】
絵柄ロール12は、例えば、金属製ロールからなり、両端から突出する一対の支持軸12aを介して駆動機構13により支持されている。駆動機構13は、絵柄ロール12を回転駆動することができるようになっており、また、絵柄ロール12を対向する支持ロール14に向けて移動させることができるようになっている。
【0020】
支持ロール14は、金属製ロールや、ゴム等の圧縮自在な材料によって表面層が形成されたロール等からなる。支持ロール14は、両端から突出する一対の支持軸14aを介して駆動機構15により支持されている。駆動機構15は、支持ロール14を回転駆動することができるようになっている。
【0021】
図1に示すように、絵柄ロール12および支持ロール14の上方から基材6が供給されるようになっている。供給された基材6は絵柄ロール12と支持ロール14との間を押圧されながら進み、絵柄ロール12の凹凸形状が基材6に転写されるようになっている。なお、基材6として、耐熱中性紙、PPシート、PETシート、塩ビシート等が供給される。また、絵柄ロール12および支持ロール14との離間間隔は、例えば、油圧機構を用いて調整することができるようになっており、これにより、絵柄ロール12と支持ロール14との間における基材6への押圧力を適宜調整することができるようになっている。
【0022】
図1に示すように、樹脂供給装置16は、絵柄ロール12の上方に設けられており、絵柄ロール12の凹凸形状を有する外周面に粒子状の樹脂を上方から供給するようになっている。後に詳述するように、樹脂供給装置16から供給された樹脂5は絵柄ロール12上から基材6上に転移させられる。
【0023】
樹脂供給装置16として、例えば、スクリューフィーダを用いることができる。一方、樹脂5としては、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、熱硬化性樹脂、あるいは熱可塑性樹脂等を用いることができる。また、図2に示すように、樹脂5の粒径は、樹脂5が絵柄ロール12の凹凸内に入り込むことができるよう、絵柄ロール12の凹凸形状を考慮して決定されることが好ましい。例えば、凹凸の高さhや幅wが10〜30μm程度である場合、樹脂の粒径は数μm程度であることが好ましい。
【0024】
ところで、図1に示されているように、エンボス加工装置10は、絵柄ロール12下方に、樹脂5を転移させられた基材6の移動経路沿いに設けられた硬化装置20をさらに備えている。硬化装置20は、基材6上に転移させられた樹脂5を硬化させて、樹脂5を基材6上に固定するためのものである。したがって、図1に示すように、硬化装置20が、基材6の移動経路沿いであって、基材6上の樹脂5に対面する側に配置されていることが好ましい。
【0025】
硬化装置20の構成は、樹脂供給装置16から供給される樹脂5の種類に応じて選択される。例えば、樹脂供給装置16から供給される樹脂5が熱硬化性樹脂である場合には、硬化装置20は樹脂を加熱することができる構成となる。また、樹脂供給装置16から供給される樹脂5が熱可塑性樹脂である場合には、硬化装置20は樹脂5を冷却することができる構成となる。さらに、樹脂供給装置16から供給される樹脂5が紫外線硬化型樹脂または電子線硬化型樹脂である場合には、硬化装置20は樹脂5に対して紫外線または電子線を照射することができる構成となる。
【0026】
また、図1に示されているように、エンボス加工装置10は、絵柄ロール12を加熱する加熱装置18をさらに備えている。図1に示す例において、加熱装置18は絵柄ロール12に内蔵されたシート状ヒータから構成されており、主に、絵柄ロール12の凹凸形状を有した外周面を加熱するようになっている。
【0027】
次に、このような構成からなるエンボス加工装置10を用いたエンボス加工方法について説明する。
【0028】
まず、駆動機構13,15により、絵柄ロール12と支持ロール15が回転駆動される。次に、絵柄ロール12と支持ロール15との間に基材6が挿入され、挿入された基材6は絵柄ロール12および支持ロール15の回転に伴い、図1における上方から下方へと送り込まれる。この際、駆動機構13によって、絵柄ロール12の支持ロールに対する相対位置が例えば油圧等を用いて予め、また必要に応じて都度調整される。これにより、基材6が絵柄ロール12と支持ロール15との間で押圧され、絵柄ロール12の外周面に設けられた大きな凹凸形状が基材6に転写される。
【0029】
一方、基材6の供給に合わせて、樹脂供給装置16から微粒子状の樹脂5が絵柄ロール12上に供給される。図2に示すように、絵柄ロール12上に供給された樹脂5は、絵柄ロール12上に広がるとともに絵柄ロール12の凹凸内に入り込む。上述したように、供給される樹脂5の粒径は、絵柄ロールの凹凸形状に対応させて決定されることが好ましく、この場合、絵柄ロール12の回転速度を低下させることなく、樹脂5を凹凸内に入り込ませることも可能となる。
【0030】
また、供給される樹脂5が反応して硬化しない程度に、加熱装置18によって絵柄ロール12の凹凸形状を有した外周面を加熱する。この場合、好ましくは、絵柄ロール12上の樹脂5が熱を受けて軟化し、半固体となる。これにより、樹脂5の流動性が増加されるとともに、樹脂5は絵柄ロール12の凹凸内をより密に埋めることになる。なお、樹脂5として熱硬化性樹脂が用いられている場合には、加熱装置18により加熱は行われない。
【0031】
絵柄ロール12が回転して、絵柄ロール12の凹凸形状内に入り込んだ樹脂5が絵柄ロール12と支持ロール15との間に達すると、基材6および樹脂5が絵柄ロール12および支持ロール15によって挟持され、凹凸形状内に入り込んだ樹脂5は基材6に向けて押圧される。これにより、樹脂5は絵柄ロール12の凹凸形状内に広がり渡るとともに、この状態で絵柄ロール12上から基材6上に転移させられる(積層される)。
【0032】
このとき、大きな凹凸形状が基材6上に転写され、また、基材6に転写されきれなかった微細な凹凸形状は、基材6上に積層された樹脂5に転写される。このようにして、絵柄ロール12の外周面に形成された凹凸形状が、基材6および基材6上に積層された樹脂5に精度良く形成(転写)されていく。また、上述したように、樹脂5の粒径を調整することによって、絵柄ロール12の回転速度を低下させることなく、樹脂5を絵柄ロール12の凹凸内に確実に入り込ませることができる。これにより、生産性を低下させることなく高精度のエンボス加工を効率的に行うことができる。
【0033】
その後、基材6上に積層された樹脂5は、上述したような構成からなる硬化装置20によって、硬化させられ基材6に対して固定される。用いられる樹脂5の特性によっては、加熱装置18による加熱温度が制限され、加熱装置18によって加熱されることなく加工が施される場合もある。このような場合等においては、凹凸形状の形成により樹脂5内に応力が発生する。加熱された樹脂が高い粘性を有することから、この応力は圧力解放後と同時に開放されるのではなく、時間をかけて徐々に開放される。しかしながら、硬化装置20を用いれば、樹脂5内に残留した応力が開放されていく前に、樹脂5を硬化させることができる。この場合、樹脂の硬化によって応力の開放が妨げられ、応力が徐々に開放されていくことに伴って樹脂5に形成された凹凸形状が平坦化してしまうことを、防止することができる。
【0034】
このようにして、エンボス加工装置10を用い、基材6自体に大きな凹凸形状を形成することと、微細な凹凸形状が形成された樹脂5を基材6に積層することと、によって基材6に凹凸形状が形成されていく。
【0035】
以上のように本実施の形態によれば、微粒子状の樹脂5を供給する樹脂供給装置16が設けられており、樹脂供給装置16から絵柄ロール12上に樹脂5が供給される。樹脂5の粒径を適宜選択することより、回転駆動される絵柄ロール12の回転速度を低下させることなく、供給された樹脂5を絵柄ロール12の凹凸内に入り込ませることができる。そして、凹凸内に入り込んだ樹脂5が、絵柄ロール12と支持ロール14との間で、基材6に向けて押圧され基材6上に積層される。これにより、絵柄ロール12に形成された凹凸形状に対応する微細な凹凸形状を高精度かつ効率的に基材6上に形成することができる。
【0036】
また、本実施の形態によれば、絵柄ロール12の外周面を加熱する加熱装置18が設けられており、加熱装置18による加熱によって樹脂5の流動性が高めることができる。流動性を高められた樹脂5は、絵柄ロール12と支持ロール14との間で押圧された際に、絵柄ロール12の凹凸内に略隙間無く広がり渡ることができる。また、樹脂の流動性が増しているので、絵柄ロールの回転速度、言い換えると、基材の供給速度を速くすることができる。これにより、基材6に凹凸形状をより高精度かつ効率的に形成することができる。
【0037】
さらに、本実施の形態によれば、支持ロール14が絵柄ロール12の側方に配置され、基材6が絵柄ロール12と支持ロール14との間に上方から供給されるようになっており、また、樹脂供給装置16は絵柄ロール12の上方に設けられ、上方から微粒子状の樹脂5を供給するようになっている。したがって、絵柄ロール12上に供給された樹脂5は、基材6上に転移させられる前に、絵柄ロール12上に広がり、確実に絵柄ロール12の凹凸内に入り込むことができる。これにより、凹凸形状をより高精度かつ効率的に形成することができる。
【0038】
さらに、本実施の形態によれば、基材6上に転移させられた樹脂5を硬化させて、樹脂5を基材6上に固定する硬化装置20が設けられている。このような本発明によれば、凹凸形状形成時に加えられ残留した応力が徐々に開放されて形成された凹凸形状が平坦化してしまうことを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【0039】
【図1】本発明によるエンボス加工装置およびエンボス加工方法の一実施の形態を示す概略図。
【図2】樹脂が供給された絵柄ロールを示す部分側断面図。
【符号の説明】
【0040】
5 樹脂
6 基材
10 エンボス加工装置
12 絵柄ロール
14 支持ロール
16 樹脂供給装置
18 加熱装置
20 硬化装置

【特許請求の範囲】
【請求項1】
外周に凹凸形状を有する絵柄ロールと、
絵柄ロールに対向して配置された支持ロールと、
微粒子状の樹脂を絵柄ロールに供給する樹脂供給装置と、を備え、
絵柄ロールと支持ロールとの間に供給される基材に樹脂を転移させて凹凸形状を形成することを特徴とするエンボス加工装置。
【請求項2】
絵柄ロールを加熱する加熱装置をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載のエンボス加工装置。
【請求項3】
樹脂供給装置は絵柄ロールの上方に設けられ、上方から微粒子状の樹脂を供給するようになっていること特徴とする請求項1または2に記載のエンボス加工装置。
【請求項4】
基材上に転移させられた樹脂を硬化させて、樹脂を基材上に固定する硬化装置をさらに備えたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のエンボス加工装置。
【請求項5】
外周に凹凸形状を有する絵柄ロールに、微粒子状の樹脂を供給する工程と、
絵柄ロールと絵柄ロールに対向して配置された支持ロールとの間に、基材を供給する工程と、
絵柄ロールと支持ロールとの間で基材を樹脂とともに押圧して、基材に樹脂を転移させて凹凸形状を形成する工程と、を備えたことを特徴とするエンボス加工方法。
【請求項6】
絵柄ロールが加熱されていることを特徴とする請求項5に記載のエンボス加工方法。
【請求項7】
微粒子を供給する工程において、微粒子状の樹脂が上方から絵柄ロールに供給されることを特徴とする請求項5または6に記載のエンボス加工方法。
【請求項8】
基材上に転移させられた樹脂を硬化させて、微粒子を基材上に固定する工程をさらに備えたことを特徴とする請求項5乃至7のいずれか一項に記載のエンボス加工方法。

【図1】
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【図2】
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【公開番号】特開2007−30355(P2007−30355A)
【公開日】平成19年2月8日(2007.2.8)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2005−217350(P2005−217350)
【出願日】平成17年7月27日(2005.7.27)
【出願人】(000002897)大日本印刷株式会社 (14,506)
【Fターム(参考)】