コーティング組成物
【課題】インクジェット法により、パターン直径およびパターン高さのばらつきが小さいマイクロレンズを形成することができるような、基板の表面処理が可能であるコーティング組成物を提供すること。
【解決手段】沸点が１２０〜３００℃の溶媒１００ｇに対して、２５℃において１ｇ以上溶解し、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００のポリマー（Ａ）、溶媒（Ｂ）および界面活性剤（Ｃ）を含有するコーティング組成物であって、該組成物を基板上に塗布し、該基板上に形成された塗膜を１５０℃で５分乾燥して得られた皮膜表面の、２５℃で測定した水の接触角が９０°以上であるコーティング組成物。
【解決手段】沸点が１２０〜３００℃の溶媒１００ｇに対して、２５℃において１ｇ以上溶解し、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００のポリマー（Ａ）、溶媒（Ｂ）および界面活性剤（Ｃ）を含有するコーティング組成物であって、該組成物を基板上に塗布し、該基板上に形成された塗膜を１５０℃で５分乾燥して得られた皮膜表面の、２５℃で測定した水の接触角が９０°以上であるコーティング組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶用またはＥＬ用などの表示素子や、プリント配線板およびフレキシブル配線板などの電子回路基板を製造するために好適に用いられるコーティング組成物に関する。更に詳しくは、本発明はマイクロレンズをインクジェット法で形成する場合の下地基板を処理するのに適したコーティング組成物に関し、該組成物は、インクジェット用インクとして好適に用いることのできるものである。
【背景技術】
【０００２】
かねてより、液晶ディスプレイ用導光板の一部を構成するマイクロレンズは、金型を使った射出成型により形成されていた。この方法では、導光板、より具体的にはその一部を構成するマイクロレンズの製品設計毎に異なる金型が必要であり、よって前記方法は少量多品種の生産を行うには非常にコストのかかる方法であった。
【０００３】
そこで近年、安価なマイクロレンズの製造方法として、インクジェット法によりマイクロレンズを形成する方法が提案されているが、当該方法により得られるマイクロレンズのパターン直径、パターン高さのばらつきが大きいことが課題であった。この問題を改善するために、基板を撥水処理することが提案されているが、従来の表面処理用コーティング組成物（例えば、特開２００８−０５０５４９号公報に記載の組成物）には、マイクロレンズのパターン直径およびパターン高さのばらつきの幅を十分に小さくする観点から改良の余地がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−０５０５４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記の状況の下、本発明の目的は、インクジェット法により、パターン直径およびパターン高さのばらつきが小さいマイクロレンズを形成することができるような、基板の表面処理が可能であるコーティング組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は、特定の溶媒に特定量溶解するポリマー、溶媒および界面活性剤を含有するコーティング組成物が、パターン直径と高さのばらつきの小さいマイクロレンズを形成するために施す基板の表面処理に有用であることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。
【０００７】
さらに本発明は、このようなコーティング組成物から得られた皮膜及びその皮膜上にマイクロレンズが形成されてなる光学部品、該光学部品を使用した液晶ディスプレイなどを提供する。
【０００８】
すなわち本発明の要旨は、以下のとおりである。
【０００９】
［１］沸点が１２０〜３００℃の溶媒１００ｇに対して、２５℃において１ｇ以上溶解し、重量平均分子量が１，０００以上のポリマー（Ａ）、溶媒（Ｂ）および界面活性剤（Ｃ）を含有するコーティング組成物であって、
該組成物を基板上に塗布し、該基板上に形成された塗膜を１５０℃で５分乾燥して得ら
れた皮膜表面の、２５℃で測定した水の接触角が９０°以上であるコーティング組成物。
【００１０】
［２］界面活性剤（Ｃ）が熱架橋性官能基を有している、［１］に記載のコーティング組成物。
【００１１】
［３］界面活性剤（Ｃ）の熱架橋性官能基が、ヒドロキシ、カルボキシ、酸無水物基、アミノ、オキシラニル、オキセタニル、式（１）で表されるオキサゾリン基、式（２）で表されるオキサゾール基、アクリルおよびメタクリルからなる群より選ばれる少なくとも１種である、［２］に記載のコーティング組成物：
【００１２】
【化１】
【００１３】
（式（１）および（２）において、*は結合手である。）。
【００１４】
［４］界面活性剤（Ｃ）の熱架橋性官能基が、オキシラニルおよび／またはオキセタニルである、［２］または［３］に記載のコーティング組成物。
【００１５】
［５］ポリマー（Ａ）が、熱架橋性官能基を有している、［１］〜［４］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００１６】
［６］ポリマー（Ａ）の熱架橋性官能基が、ヒドロキシ、カルボキシ、酸無水物基、アミノ、オキシラニル、オキセタニル、式（１）で表されるオキサゾリン基、式（２）で表されるオキサゾール基、アクリルおよびメタクリルからなる群より選ばれる少なくとも１種である、［５］に記載のコーティング組成物：
【００１７】
【化２】
【００１８】
（式（１）および（２）において、*は結合手である。）。
【００１９】
［７］ポリマー（Ａ）の熱架橋性官能基が、ヒドロキシ、カルボキシおよび酸無水物基からなる群より選ばれる少なくとも１種である、［５］または［６］に記載のコーティング組成物。
【００２０】
［８］ポリマー（Ａ）が、カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（ａ１）と、モノマー（ａ１）および酸無水物基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２）以外のその他のラジカル重合性モノマー（ａ３）とのコポリマー（Ａ１）、酸無水物基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２）と、モノマー（ａ１）およびモノマー（ａ２）以外のその他のラジカル重合性モノマー（ａ３）とのコポリマー（Ａ２）、またはモノマー（ａ２）とモノマー（ａ３）とのコポリマーの、モノマー（ａ２）由来の酸無水物基を、アルコール性水酸基を有する化合物（ａ４）で開環して得られるコポリマー（Ａ３）である、［５］〜
［７］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００２１】
［９］カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（ａ１）が、アクリル酸および／またはメタクリル酸である、［８］に記載のコーティング組成物。
【００２２】
［１０］その他のラジカル重合性モノマー（ａ３）が、式（３）で表されるアクリレートまたはメタクリレートである、［８］または［９］に記載のコーティング組成物：
【００２３】
【化３】
【００２４】
（式（３）において、Ｒ1は水素またはメチルであり、Ｒ2は炭素数１〜２０のアルキルである。）。
【００２５】
［１１］その他のラジカル重合性モノマー（ａ３）がｎ−ブチルメタクリレートである、［８］〜［１０］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００２６】
［１２］アルコール性水酸基を有する化合物（ａ４）が、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、シクロヘキサノールおよびベンジルアルコールからなる群より選ばれる少なくとも１種である、［８］〜［１１］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００２７】
「１３」酸無水物基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２）が、マレイン酸無水物である、［８］〜［１２］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００２８】
［１４］溶媒（Ｂ）が、溶媒（Ｂ）の全体１００重量％に対して、沸点が１２０〜３００℃の溶媒を５０重量％以上含有している、［１］〜［１３］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００２９】
［１５］溶媒（Ｂ）が、溶媒（Ｂ）の全体１００重量％に対して、２５℃における表面張力が２２〜４８ｍＮ／ｍの溶媒を５０重量％以上含有している、［１］〜［１４］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００３０】
［１６］さらに、エポキシ樹脂（Ｄ）を含有している、［１］〜［１５］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００３１】
［１７］さらに、ポリマー（Ａ）、界面活性剤（Ｃ）およびエポキシ樹脂（Ｄ）以外の熱硬化性化合物（Ｅ）を含有している、［１］〜［１６］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００３２】
［１８］さらに、難燃剤（Ｆ）を含有している、［１］〜［１７］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００３３】
［１９］２５℃における粘度が２〜３０ｍＰａ・ｓである、［１］〜［１８］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００３４】
［２０］［１］〜［１９］のいずれかに記載のコーティング組成物を基板上に塗布し、基板上に形成された塗膜を乾燥して得られる表面撥水性皮膜。
【００３５】
［２１］［１９］に記載のコーティング組成物をインクジェット法で基板上に塗布する工程１と、工程１で基板上に形成された塗膜を乾燥する工程２とを有する、表面撥水性皮膜の形成方法。
【００３６】
［２２］基板と、該基板上に形成された［２０］に記載の表面撥水性皮膜と、該皮膜の上に形成されたマイクロレンズとからなる光学部品。
【００３７】
［２３］［２０］に記載の表面撥水性皮膜の上に、インクジェット法でドットパターンを形成する工程を有する、マイクロレンズの形成方法。
【００３８】
［２４］［２２］に記載の光学部品を搭載した液晶ディスプレイ。
【発明の効果】
【００３９】
本発明のコーティング組成物から得られる皮膜上に、インクジェット法でマイクロレンズを形成すると、直径と高さのばらつきの小さいマイクロレンズを形成することができる。したがって、本組成物は高品位な光学部品を製造するのに有用である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
［１．本発明のコーティング組成物］
本発明のコーティング組成物は、上記ポリマー（Ａ）、溶媒（Ｂ）および界面活性剤（Ｃ）を含有する。
【００４１】
また、本発明のコーティング組成物は、必要に応じてエポキシ樹脂（Ｄ）、ポリマー（Ａ）、界面活性剤（Ｃ）およびエポキシ樹脂（Ｄ）以外の熱硬化性化合物（Ｅ）および難燃剤（Ｆ）等を含有してもよい。以下、上記各成分について説明する。
【００４２】
＜１．１ ポリマー（Ａ）＞
本発明のコーティング組成物は、沸点が１２０〜３００℃の溶媒１００ｇに対して、２５℃において１ｇ以上、好ましくは３ｇ以上溶解し、重量平均分子量が１，０００以上、好ましくは１，０００〜５００，０００のポリマー（Ａ）を含む。重量平均分子量は、例えば、標準のポリスチレンには、分子量が５００〜１５０，０００のポリスチレン（例えばＰｏｌｙｍｅｒ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ製のＰＬ２０１０−０１０２（Ｓ−Ｍ２−１０）ｓｔａｎｄａｒｄ）を用い、カラムにはＳｈｏｄｅｘ ＰＬｇｅｌ ＭＩＸＥＤ−Ｄ（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ製）を用い、移動相としてＴＨＦを用いる条件で測定することができる。
【００４３】
前記沸点が１２０〜３００℃の溶媒は、インクジェット用インクの溶媒として一般に用いられている溶媒の沸点である。２５℃においてこの溶媒に溶解するのが１ｇ未満のポリマーを含むコーティング組成物からは、均一な塗膜は得られず、それゆえ該塗膜から得られる皮膜も不均一なものとなり、したがって、その皮膜の上に形成されるマイクロレンズのパターン直径および高さのばらつきが大きくなる。
【００４４】
また、本明細書において重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した標準ポリスチレン換算の重量平均分子量である。ポリマー（Ａ）の重量平均分子量が１，０００以上であると、得られる皮膜上に形成されるマイクロレンズの直径および高さのばらつきが小さい。一方ポリマー（Ａ）の重量平均分子量が５００，０００を超えると、インクジェット法を用いて塗膜を形成する際の吐出性が低下す
る傾向がある。
【００４５】
本発明のコーティング組成物は前記の条件を満たすポリマー（Ａ）を含んでいるため、該組成物から得られる皮膜上にインクジェット法で形成されたマイクロレンズの直径、高さのばらつきが小さい。
【００４６】
ポリマー（Ａ）は、好ましくは酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、又はジメチルイミダゾリジノン（以上の溶媒の沸点は１２０〜３００℃である）１００ｇに対して、２５℃において１ｇ以上溶解するポリマーであり、
ジエチレングリコールメチルエチルエーテルまたはγ−ブチロラクトン１００ｇに対して、２５℃において１ｇ以上溶解するポリマーであることがより好ましい。
【００４７】
また、ポリマー（Ａ）が、熱架橋性官能基を有しており、さらに後述する界面活性剤（Ｃ）が熱架橋性官能基を有していると、そのようなポリマー（Ａ）および界面活性剤（Ｃ）を含有するコーティング組成物から得られる皮膜上に、インクジェット法で形成されるマイクロレンズの直径と高さのばらつきが非常に有効に小さくなるので好ましい。
【００４８】
前記熱架橋性官能基とは、加熱により他の官能基と新たな共有結合を形成する官能基のことであり、その具体例としては、ヒドロキシ、カルボキシ、酸無水物基、アミノ、オキシラニル、オキセタニル、式（１）で表されるオキサゾリン基、式（２）で表されるオキサゾール基、アクリルおよびメタクリル等を挙げることができる。
【００４９】
【化４】
【００５０】
式（１）および（２）において、*は結合手である。
【００５１】
これらの中でも、ポリマー（Ａ）の熱架橋性官能基としては、特にヒドロキシ、カルボキシおよび酸無水物基が好ましい。
【００５２】
本発明において使用されるポリマー（Ａ）は、このような熱架橋性官能基を一つ有していても、複数有していてもよい。
【００５３】
ポリマー（Ａ）として具体的には、以下のコポリマー（Ａ１）〜（Ａ３）が好ましい。（Ａ１）カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（ａ１）と、該モノマー（ａ１）および酸無水物基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２）以外のその他のラジカル重合性モノマー（ａ３）とのコポリマー
（Ａ２）酸無水物基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２）と、前記モノマー（ａ１）およびモノマー（ａ２）以外のその他のラジカル重合性モノマー（ａ３）とのコポリマー（Ａ３）酸無水物基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２）と前記その他のラジカル重合性モノマー（ａ３）とのコポリマーの、前記モノマー（ａ２）由来の酸無水物基を、アルコール性水酸基を有する化合物（ａ４）で開環して得られるコポリマー。
【００５４】
上記モノマー（ａ１）〜（ａ３）は、ラジカル重合性基を有しており、かつモノマー（ａ１）についてはカルボキシを有しており、モノマー（ａ２）については酸無水物基を有しており、モノマー（ａ３）については、モノマー（ａ１）にもモノマー（ａ２）にも該当しない化合物であればよい。
【００５５】
前記モノマー（ａ１）の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ソルビン酸が挙げられ、これらの中でも、パターン直径および高さのばらつきの少ないマイクロレンズを形成する観点からは、アクリル酸およびメタクリル酸が好ましい。
【００５６】
前記モノマー（ａ２）の具体例としては、マレイン酸無水物、イタコン酸無水物、シトラコン酸無水物が挙げられ、これらの中でも、パターン直径および高さのばらつきの少ないマイクロレンズを形成する観点からは、マレイン酸無水物が好ましい。
【００５７】
前記モノマー（ａ３）の具体例としては、スチレン、式（３）で表されるアクリレートもしくはメタクリレート、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、酢酸ビニル、アクリロニトリルが挙げられる。
【００５８】
【化５】
【００５９】
式（３）において、Ｒ1は水素またはメチルであり、Ｒ2は炭素数１〜２０のアルキルであり、炭素数２〜１２のアルキルであることが好ましい。
【００６０】
上記の中でも、モノマー（ａ３）としては、スチレンおよびエチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレートが好ましく、ｎ−ブチルメタクリレートが特に好ましい。
【００６１】
また、上記のように、上記コポリマー（Ａ３）は、モノマー（ａ２）とモノマー（ａ３）とのコポリマーの、前記モノマー（ａ２）由来の酸無水物基を、アルコール性水酸基を有する化合物（ａ４）で開環して得られるコポリマーである。
【００６２】
前記アルコール性水酸基を有する化合物（ａ４）の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、シクロヘキサノールおよびベンジルアルコール等を挙げることができる。これらの中でも、本発明のコーティング組成物から得られる皮膜上に形成されるマイクロレンズのパターン直径および高さのばらつきを小さくする観点からは、特にシクロヘキサノールが好ましい。
【００６３】
さらに、上記コポリマー（Ａ１）〜（Ａ３）の中では、前記マイクロレンズのパターン直径および高さのばらつきを小さくする観点から、コポリマー（Ａ１）および（Ａ３）が好ましく、コポリマー（Ａ１）が特に好ましい。
【００６４】
ポリマー（Ａ）の最も好ましい例として、コポリマー（Ａ１）に該当する、アクリル酸および／またはメタクリル酸とｎ−ブチル（メタ）アクリレートとのコポリマーを挙げることができる。また、コポリマー（Ａ３）の例として、スチレンとマレイン酸無水物とのコポリマーの、モノマー（ａ２）由来の酸無水物基を、シクロヘキサノールで開環したポリマーを挙げることができる。後者のポリマーは、川原油化（株）からＳＭＡ（登録商標）１７３５２として市販されている。
【００６５】
以上説明したポリマー（Ａ）は、前記のＳＭＡ１７３５２のように市販されているものもあり、また上記のモノマーを公知慣用の条件に従って重合させることにより、容易に合成することができる。また、重量平均分子量の調整方法も公知である。
【００６６】
ポリマー（Ａ）は、１種であっても、２種以上の混合物であってもよい。本発明のコーティング組成物におけるポリマー（Ａ）の含有量は、本発明のコーティング組成物のコーティング方法によって適宜選択されるが、インクジェット法で塗布する場合は、コーティング組成物総量（１００重量％）の０．０１〜２０重量％であることが好ましく、０．１〜１０重量％であることがより好ましい。
【００６７】
＜１．２ 溶媒（Ｂ）＞
本発明のコーティング組成物は、均一な皮膜を形成するため、また本発明のコーティング組成物をインクジェット法により塗布（吐出）する場合には、良好なジェッティング性を実現するために、溶媒（Ｂ）を含有する。
【００６８】
溶媒（Ｂ）は、本発明のコーティング組成物に含まれる溶媒（Ｂ）の全体１００重量％に対し、沸点が１２０〜３００℃の溶媒を５０重量％以上含有することが、本発明のコーティング組成物のインクジェット法での塗布が容易であるために好ましい。また、前記溶媒の２５℃における表面張力が２２〜４８ｍＮ／ｍであると、同様な観点からさらに好ま
しい。
【００６９】
このような沸点および表面張力の両者の条件を満たす溶媒の具体例としては、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンおよびジメチルイミダゾリジノンを挙げることができる。
【００７０】
これらの中でも、本発明のコーティング組成物の良好なジェッティング性の観点から、特にジエチレングリコールメチルエチルエーテルおよびγ−ブチロラクトンが好ましい。
【００７１】
本発明のコーティング組成物に使用する溶媒（Ｂ）は、１種であっても２種以上の混合物であってもよい。また、本発明のコーティング組成物１００重量％中における溶媒（Ｂ）の含有量は、通常７０〜９９．９８重量％であり、好ましくは８５〜９９．８重量％である。
【００７２】
＜１．３ 界面活性剤（Ｃ）＞
本発明のコーティング性組成物は、該組成物から得られる皮膜表面の撥水性を高めるために、界面活性剤（Ｃ）を含有する。前記皮膜上にパターン直径および高さのばらつきの小さいマイクロレンズをインクジェット法により作製するためには、撥水性が重要であるが、それだけでは足りず、前記界面活性剤（Ｃ）を前記組成物に含有させて前記皮膜の撥水性を高めることによって、初めてパターン直径および高さのばらつきの小さいマイクロレンズをインクジェット法により作製することができる。
【００７３】
前記界面活性剤（Ｃ）としては、シリコン系界面活性剤及びフッ素系界面活性剤などが好ましく用いられるが、特に、界面活性剤（Ｃ）が熱架橋性官能基を有し、かつ前記ポリマー（Ａ）が熱架橋性官能基を有していると、本発明のコーティング組成物から得られる
皮膜上にインクジェット法で形成されたマイクロレンズの直径、高さのばらつきが特に小さくなるので非常に好ましい。
【００７４】
前記熱架橋性官能基とは前述のように、加熱により他の官能基と新たな共有結合を形成する官能基のことであり、その具体例としては、ヒドロキシ、カルボキシ、酸無水物基、アミノ、オキシラニル、オキセタニル、式（１）で表されるオキサゾリン基、式（２）で表されるオキサゾール基、アクリルおよびメタクリル等が挙げられる。
【００７５】
【化６】
【００７６】
上記式において、*は結合手である。
【００７７】
これらの熱架橋性官能基の中でも、本発明のコーティング組成物から得られる皮膜上にパターン直径および高さのばらつきの小さいマイクロレンズをインクジェット法により作製する観点からは、オキシラニル、オキセタニル、アクリルおよびメタクリルがより好ましく、オキシラニルおよびオキセタンがより一層好ましい。
【００７８】
本発明において使用される界面活性剤（Ｃ）は、このような熱架橋性官能基を一つ有していても、複数有していてもよい。
【００７９】
前記シリコン系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤、ならびにこのような熱架橋性官能基を有する界面活性剤は、公知の方法によって容易に合成することができ、また市販もされている。たとえば、熱架橋性官能基としてエポキシを有する界面活性剤として、ＤＩＣ（株）製ＲＳ−１１２Ｋが市販されている。
【００８０】
本発明のコーティング組成物に用いられる界面活性剤（Ｃ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００８１】
また界面活性剤（Ｃ）の含有量が、本発明のコーティング組成物総量（１００重量％）の０．０１〜１０重量％であると、該組成物から得られる皮膜表面の撥水性が高いので好ましい。さらに、界面活性剤（Ｃ）の含有量が本発明のコーティング組成物総量の０．１〜５％であると、該組成物から得られる皮膜上にインクジェット法で形成されたマイクロレンズの直径、高さのばらつきが小さいので、より一層好ましい。
【００８２】
＜１．４ エポキシ樹脂（Ｄ）＞
本発明のコーティング組成物は、エポキシ樹脂（Ｄ）を含んでもよい。本発明のコーティング組成物がエポキシ樹脂（Ｄ）を含むと、本組成物から得られる皮膜の各種基板に対する密着性が向上するので好ましい。
【００８３】
エポキシ樹脂（Ｄ）としては、例えば、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、水添ビスフェノールＡ型、水添ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型、トリスフェノールメタン型、テトラフェノールエタン型、ビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ化合物；脂環式もしくは複素環式のエポキシ化合物；ジシクロペンタジエン型もしくはナフタレン型の構造を有するエポキシ化合物等が挙げられる。
【００８４】
また、エポキシ樹脂（Ｄ）としては、例えば、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタンを挙げることもできる。
【００８５】
エポキシ樹脂（Ｄ）としては、各種の市販品を用いることができ、ＴＥＣＨＭＯＲＥ ＶＧ３１０１Ｌ（商品名；三井化学（株）製）、エピコート８２８、同８３４、同１００１、同１００４（商品名；ジャパンエポキシレジン社 製）、エピクロン８４０、同８５
０、同１０５０、同２０５５、（商品名；ＤＩＣ社 製）、エポトートＹＤ−０１１、同
ＹＤ−０１３、同ＹＤ−１２７、同ＹＤ−１２８（商品名；東都化成社 製）、Ｄ.Ｅ.Ｒ.３１７、同３３１、同６６１、同６６４（商品名；ダウケミカル社 製）、アラルダイド
６０７１、同６０８４、同ＧＹ２５０、同ＧＹ２６０（商品名；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社 製）、スミ−エポキシＥＳＡ−０１１、同ＥＳＡ−０１４、同ＥＬＡ−１
１５、同ＥＬＡ−１２８（商品名；住友化学工業社 製）、Ａ.Ｅ.Ｒ.３３０、同３３１、同６６１、同６６４（商品名；旭化成工業社 製）等のビスフェノールＡ型エポキシ化合
物；
エピコート１５２、同１５４（商品名；ジャパンエポキシレジン社 製）、Ｄ.Ｅ.Ｒ.４３１、同４３８（商品名；ダウケミカル社 製）、エピクロンＮ−７３０、同Ｎ−７７０
、同Ｎ−８６５（商品名；ＤＩＣ社 製）、エポトートＹＤＣＮ−７０１、同ＹＤＣＮ−
７０４（商品名；東都化成社 製）、アラルダイドＥＣＮ１２３５、同ＥＣＮ１２７３、
同ＥＣＮ１２９９（商品名；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社 製）、ＸＰＹ３０７
、ＥＰＰＮ−２０１、ＥＯＣＮ−１０２５、ＥＯＣＮ−１０２０、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ、ＲＥ−３０６（商品名；日本化薬社 製）、スミ−エポキシＥＳＣＮ−１９５Ｘ、同ＥＳ
ＣＮ−２２０（商品名；住友化学工業社 製）、Ａ.Ｅ.Ｒ.ＥＣＮ−２３５、同ＥＣＮ−２９９（商品名；ＡＤＥＫＡ社 製）等のノボラック型エポキシ化合物；
エピクロン８３０（商品名；ＤＩＣ社 製）、ＪＥＲ８０７（商品名；ジャパンエポキ
シレジン社 製）、エポトートＹＤＦ−１７０（商品名；東都化成社 製）、ＹＤＦ−１７５、ＹＤＦ−２００１、ＹＤＦ−２００４、アラルダイドＸＰＹ３０６（商品名；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社 製）等のビスフェノールＦ型エポキシ化合物；
エポトートＳＴ−２００４、同ＳＴ−２００７、同ＳＴ−３０００（商品名；東都化成社 製）等の水添ビスフェノールＡ型エポキシ化合物；
セロキサイド２０２１（商品名；ダイセル化学工業社 製）、アラルダイドＣＹ１７５
、同ＣＹ１７９（商品名；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社 製）等の脂環式エポキ
シ化合物；
ＹＬ−９３３（商品名；ジャパンエポキシレジン社 製）、ＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰ
Ｎ−５０２（商品名；ダウケミカル社 製）等のトリヒドロキシフェニルメタン型エポキ
シ化合物；
ＹＬ−６０５６、ＹＸ−４０００、ＹＬ−６１２１（商品名；ジャパンエポキシレジン社 製）等のビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ化合物又はそれらの混合
物；
ＥＢＰＳ−２００（商品名；日本化薬社 製）、ＥＰＸ−３０（商品名；ＡＤＥＫＡ社 製））、ＥＸＡ−１５１４（商品名；ＤＩＣ社 製）等のビスフェノールＳ型エポキシ化
合物；
ＪＥＲ１５７Ｓ（商品名；ジャパンエポキシレジン社 製）等のビスフェノールＡノボ
ラック型エポキシ化合物；
ＹＬ−９３１（商品名；ジャパンエポキシレジン社 製）、アラルダイド１６３（商品
名；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社 製）等のテトラフェニロールエタン型エポキ
シ化合物；
アラルダイドＰＴ８１０（商品名；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社 製）、ＴＥ
ＰＩＣ（商品名；日産化学工業社 製）等の複素環式エポキシ化合物；
ＨＰ−４０３２、ＥＸＡ−４７５０、ＥＸＡ−４７００（商品名；ＤＩＣ社 製）等の
ナフタレン含有エポキシ化合物；
ＨＰ−７２００、ＨＰ−７２００Ｈ、ＨＰ−７２００ＨＨ（商品名；ＤＩＣ社 製）等
のジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物等が挙げられる。
【００８６】
これらのエポキシ樹脂の中でも、ＴＥＣＨＭＯＲＥ ＶＧ３１０１Ｌ（商品名；三井化学（株）製）を用いると、本発明のコーティング組成物から得られる皮膜の各種基板への密着性が高いので好ましい。
【００８７】
本発明のコーティング組成物に用いられるエポキシ樹脂（Ｄ）は、１種であっても、２種以上の混合物であってもよい。
【００８８】
またエポキシ樹脂（Ｄ）を使用する場合、エポキシ樹脂（Ｄ）の本発明のコーティング組成物における含有量は、上記ポリマー（Ａ）１００重量部に対して１０〜５０重量部であると、本発明のコーティング組成物から得られる皮膜の各種基板への密着性が高いので好ましい。
【００８９】
＜１．５ ポリマー（Ａ）、界面活性剤（Ｃ）およびエポキシ樹脂（Ｄ）以外の熱硬化性化合物（Ｅ）＞
本発明のコーティング組成物は、例えば前記組成物から得られる皮膜の耐熱性を向上させるために、ポリマー（Ａ）、界面活性剤（Ｃ）およびエポキシ樹脂（Ｄ）以外の熱硬化性化合物（Ｅ）を含んでもよい。本発明において、熱硬化性化合物（Ｅ）としては、熱硬化させることが可能な官能基を有する化合物であれば特に限定されず、該化合物の具体例として、ビスマレイミド、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ硬化剤などが挙げられる。
【００９０】
熱硬化性化合物（Ｅ）を使用する場合、熱硬化性化合物（Ｅ）の本発明のコーティング組成物における含有量は、上記ポリマー（Ａ）１００重量部に対して１０〜４０重量部であると、得られる皮膜の耐熱性が高いので好ましい。
【００９１】
（１．５．１ ビスマレイミド）
ビスマレイミドとしては、例えば、下記一般式（６）で表される化合物が挙げられる。下記一般式（６）で表されるビスマレイミドは、例えばジアミンと酸無水物とを反応させて得られる化合物である。
【００９２】
【化７】
【００９３】
式（６）中、Ｒ10およびＲ12はそれぞれ独立に水素またはメチルであり、コーティング組成物から得られる皮膜の耐熱性が優れる点で、水素であることが好ましく、Ｒ11は下記一般式（７）で表される二価の基である。
【００９４】
【化８】
【００９５】
式（７）中、Ｒ13およびＲ14はそれぞれ独立に、連続しない任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい炭素数１〜１８のアルキレン、置換基を有してもよい芳香環を有する二価の基、または置換基を有してもよいシクロアルキレンである。前記芳香環およびシクロアルキレンにおける置換基としては、例えば、カルボキシ、ヒドロキシ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシが挙げられる。得られる皮膜の耐熱性が高い点で、Ｒ13およびＲ14はそれぞれ独立に下記何れかの式で表される二価の基であることが好ましい。
【００９６】
【化９】
【００９７】
式（７）中、Ｘは下記何れかの式で表される二価の基である。
【００９８】
【化１０】
【００９９】
ビスマレイミドは１種で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１００】
（１．５．２ フェノール樹脂）
フェノール樹脂としては、フェノール性水酸基を有する芳香族化合物とアルデヒド類との縮合反応により得られるノボラック樹脂、ビニルフェノールの単独重合体（水素添加物を含む）、ビニルフェノールとこれと共重合可能な化合物とのビニルフェノール系共重合体（水素添加物を含む）などが好ましく用いられる。
【０１０１】
フェノール性水酸基を有する芳香族化合物としては、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブチルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、ｏ−キシレノール、２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノ
ール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール、２，３，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、レゾルシノール、ホドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、テルペン骨格含有ジフェノール、没食子酸、没食子酸エステル、α−ナフトール、β−ナフトールなどが挙げられる。
【０１０２】
アルデヒド類としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、アセトアルデヒドなどが挙げられる。
【０１０３】
ビニルフェノールと共重合可能な化合物としては、（メタ）アクリル酸またはその誘導体、スチレンまたはその誘導体、無水マレイン酸、酢酸ビニル、アクリロニトリルなどが挙げられる。
【０１０４】
フェノール樹脂の具体例としては、レヂトップＰＳＭ−６２００（商品名；群栄化学社製）、ショウノールＢＲＧ−５５５（商品名；昭和高分子社製）、マルカリンカーＭＳ−２Ｐ、マルカリンカーＣＳＴ７０、マルカリンカーＰＨＭ−Ｃ（商品名；丸善石油化学社製）が挙げられる。
【０１０５】
フェノール樹脂は１種で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１０６】
（１．５．３ メラミン樹脂）
メラミン樹脂は、メラミンとホルムアルデヒドとの重縮合により製造された樹脂であれば特に限定されず、メチロールメラミン、エーテル化メチロールメラミン、ベンゾグアナミン、メチロールベンゾグアナミン、エーテル化メチロールベンゾグアナミン、およびそれらの縮合物などが挙げられる。これらの中でも、得られる皮膜の耐薬品性が良好である点で、エーテル化メチロールメラミンが好ましい。
【０１０７】
メラミン樹脂の具体例としては、ニカラックＭＷ−３０、ＭＷ−３０ＨＭ、ＭＷ−３９０、ＭＷ−１００ＬＭ、ＭＸ−７５０ＬＭ（商品名；三和ケミカル社製）が挙げられる。
【０１０８】
メラミン樹脂は１種で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１０９】
（１．５．４ エポキシ硬化剤）
本発明のコーティング組成物は、得られる皮膜の耐薬品性をより向上させる点で、エポキシ硬化剤を含有してもよい。エポキシ硬化剤としては、酸無水物系硬化剤、ポリアミン系硬化剤などが好ましい。
【０１１０】
酸無水物系硬化剤としては、マレイン酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロトリメリット酸無水物、フタル酸無水物、トリメリット酸無水物などが挙げられる。
【０１１１】
ポリアミン系硬化剤としては、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジシアンジアミド、ポリアミドアミン（ポリアミド樹脂）、ケチミン化合物、イソホロンジアミン、ｍ−キシレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジエチルジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォンなどが挙げられる。
【０１１２】
エポキシ硬化剤は１種で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１１３】
＜１．６ 難燃剤（Ｆ）＞
本発明のコーティング組成物は、難燃剤（Ｆ）を含有してもよい。難燃剤（Ｆ）を含有すると、得られる皮膜の難燃性が高いので好ましい。難燃剤（Ｆ）としては、難燃性を付与できる化合物であれば特に限定されないが、低有毒性、低公害性、安全性の観点から、有機リン系難燃剤を用いることが好ましい。
【０１１４】
有機リン系難燃剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、２−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシド、１０−（２，５−ジヒドロキシフェニル）−１０Ｈ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキシド、縮合９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシドなどが挙げられる。
【０１１５】
難燃剤（Ｆ）の中でも、コーティング組成物から得られる皮膜を高温状態にさらした場合でも難燃剤のブリードアウトがない点で、有機リン系難燃剤である下記式（Ｆ−１）で表される構造を有する化合物を用いることが好ましい。下記式（Ｆ−１）で表される構造を有する化合物としては、縮合９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシドであるＨＦＡ−３００３（商品名；昭和高分子社製）などの下記一般式（Ｆ−２）で表される化合物を用いることがより好ましい。
【０１１６】
【化１１】
【０１１７】
【化１２】
【０１１８】
式中、ｍは０〜２の整数であり、ｎは１〜３の整数であり、ｍ＋ｎは３である。好ましくは、ｍは１または２であり、ｎは１または２であり、ｍ＋ｎは３である。
【０１１９】
難燃剤（Ｆ）は１種で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。なお、以上説明した難燃剤（Ｆ）は公知の方法で製造することができ、また上記の昭和高分子社製のＨＦＡ−３００３のように、市販もされている。
【０１２０】
難燃剤（Ｆ）を用いる場合、本発明のコーティング組成物において、該難燃剤（Ｆ）の含有量は、ポリマー（Ａ）１００重量部に対して、２０〜４０重量部であると、他特性とのバランスが良く、かつ前記組成物から得られる皮膜が難燃性に優れる点で好ましい。
【０１２１】
＜１．７ 本発明のコーティング組成物の粘度＞
本発明のコーティング組成物の、Ｅ型粘度計で測定した２５℃における粘度は、基板への塗布方法によって適宜選択される。本発明のコーティング組成物がスクリーン印刷で塗布される場合には、該組成物の２５℃における粘度は１，０００〜１００，０００ｍＰａ・ｓであることが好適であり、前記組成物をスリットコーターやダイコーターで塗布する場合には、該組成物の２５℃における粘度は２〜１，０００ｍＰａ・ｓであることが好適であり、前記組成物をインクジェット法で塗布する場合には、該組成物の２５℃における粘度は１〜２００ｍＰａ・ｓが好適である。インクジェット法で塗布を行う場合、本発明のコーティング組成物の２５℃における粘度が１〜２００ｍＰａ・ｓであると、インクジェット装置による吐出特性が良好となるので好ましい。
【０１２２】
２５℃における本発明のコーティング組成物の粘度は、前記組成物をインクジェット法により塗布する場合の、インクジェット装置による吐出特性の観点から、より好ましくは２〜３０ｍＰａ・ｓである。
【０１２３】
＜１．８ 本発明のコーティング組成物の調製方法＞
本発明のコーティング組成物は、原料となる各成分を公知の方法により混合することで調製することができる。特に、本発明のインクは、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分および必要に応じて（Ｄ）〜（Ｆ）成分やその他の成分を混合し、得られた溶液をろ過して脱気することにより調製されることが好ましい。そのようにして調製された本発明のコーティング組成物は、インクジェット装置での吐出性に優れる。前記ろ過には、例えばフッ素樹脂製のメンブレンフィルターが用いられる。
【０１２４】
＜１．９ 本発明のコーティング組成物の保存＞
本発明のコーティング組成物は、−２０〜２０℃で保存すると、保存中の粘度変化（増加）が小さく、保存安定性が良好である。
【０１２５】
＜１．１０ 本発明のコーティング組成物の水の接触角＞
以上説明したように、本発明のコーティング組成物からは、撥水性の高い皮膜が得られる。そして、本発明のコーティング組成物を基板上に塗布し、該基板上に形成された塗膜を１５０℃で５分乾燥して得られた皮膜表面の、２５℃で測定した水の接触角は９０°以上であり、好ましくは９３〜１１５°である。
【０１２６】
以上説明した（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有し、かつ前記皮膜表面の、２５℃で測定した水の接触角が９０°以上である本発明のコーティング組成物から得られる皮膜上には、パターン直径および高さのばらつきの小さいマイクロレンズを作製することができる。
【０１２７】
すなわち、本発明のコーティング組成物においては、上記（Ａ）〜（Ｃ）成分およびその他の任意成分が、前記皮膜表面の水の接触角の要件を満たすように選択される。前記皮膜表面の２５℃で測定した水の接触角を９０°以上とするためには、ポリマー（Ａ）１００重量部に対して界面活性剤（Ｃ）を１〜５０重量部使用することが好ましく、また、界面活性剤（Ｃ）はシリコン系あるいはフッ素系界面活性剤であることが好ましい。
【０１２８】
［２．インクジェット方法によるコーティング組成物の塗布］
本発明のコーティング組成物は、公知のインクジェット塗布方法を用いて塗布することができる。インクジェット塗布方法としては、例えば、インクに力学的エネルギーを作用させてインクをインクジェットヘッドから吐出（塗布）させる方法（いわゆるピエゾ方式）、及びインクに熱エネルギーを作用させてインクを塗布させる塗布方法（いわゆるバブルジェット（登録商標）方式）等がある。
【０１２９】
インクジェット塗布方法を用いることにより、コーティング組成物を予め定められたパターン状に塗布することができる。これによって、必要な箇所だけに皮膜を形成することができ、またこの皮膜を利用して導光板を製造する場合には、後工程のマイクロレンズの製造は、インクジェット法により好適に実施することができるので、二つの工程を一つの装置で実施することができ、コストの削減となる。
【０１３０】
本発明のコーティング組成物を用いて塗布を行うのに好ましい塗布ユニットとしては、例えば、これらの組成物を収容するインク収容部と、インクジェットヘッドとを備えたインクジェットユニットが挙げられる。インクジェットユニットとしては、例えば、塗布信号に対応した熱エネルギーをインクに作用させ、前記エネルギーによりインク液滴を発生させながら、前記塗布信号に対応した塗布（描画）を行うインクジェットユニットが挙げられる。
【０１３１】
前記インクジェットヘッドとしては、例えば、金属及び／又は金属酸化物を含有する発熱部接液面を有するものが挙げられる。前記金属及び／又は金属酸化物の具体例としては、例えば、Ｔａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ａｌ等の金属、及びこれらの金属の酸化物等が挙げられる。
【０１３２】
本発明のコーティング組成物を用いて塗布を行うのに好ましい塗布装置としては、例えば、インクが収容されるインク収容部を有するインクジェットヘッドの室内のインクに、塗布信号に対応したエネルギーを与え、前記エネルギーによりインク液滴を発生させながら、前記塗布信号に対応した塗布（描画）を行う装置が挙げられる。
【０１３３】
インクジェット塗布装置としては、インクジェットヘッドとインク収容部とが分離されているものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いてもよい。また、インク収容部はインクジェットヘッドに対し分離可能又は分離不能に一体化されてキャリッジに搭載されるもののほか、装置の固定部位に設けられて、インク供給部材、例えばチューブを介してインクジェットヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。
【０１３４】
また、インクジェットヘッドの加熱温度は４０〜１２０℃であることが好ましく、その加熱温度における本発明のコーティング組成物の粘度は、２〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。
【０１３５】
［３．表面撥水性皮膜の形成］
本発明の表面撥水性皮膜は、上述した本発明のコーティング組成物を公知の各種塗布方法により基板上に塗布した後に、該基板上に形成された塗膜を、通常４０〜２００℃で１〜３０分、好ましくは６０〜１５０℃で３〜２０分乾燥することで得ることができる。前記の塗布方法としては、前述のように、本発明の表面撥水性皮膜を導光板の製造に用いる場合などは、インクジェット塗布法が好ましく、本発明のコーティング組成物（インクジェット塗布に適した粘度である必要がある）をインクジェット法で基板上に塗布し、前記基板上に形成された塗膜を乾燥して、本発明の表面撥水性皮膜を得ることが好ましい。
【０１３６】
本発明のコーティング組成物に含まれるポリマー（Ａ）および界面活性剤（Ｃ）が熱架橋性官能基を有する場合には、前記乾燥時の加熱により、熱架橋性官能基同士が反応し、塗膜表面に界面活性剤（Ｃ）の疎水性部分が並んだ構造が形成されると考えられる。そしてこのため、ポリマー（Ａ）単独の硬化物よりも、界面活性剤（Ｃ）の存在により、皮膜の水接触角が高まると考えられる。しかも、界面活性剤（Ｃ）は熱架橋性官能基によってポリマー（Ａ）または別の界面活性剤分子と架橋しており、皮膜から界面活性剤（Ｃ）がブリードアウトしにくいため、マイクロレンズを形成するための液滴が塗膜と接触した場
合でも安定した接触角を維持すると考えられる。
【０１３７】
これらのことが、本発明のコーティング組成物から得られた皮膜の上に、パターン直径および高さのばらつきの小さいマイクロレンズを形成することの一因となっていると本発明者らは考えている。
【０１３８】
また、本発明に使用できる、本発明のコーティング組成物が塗布される上記「基板」は、本発明のコーティング組成物が塗布される対象となり得るものであれば特に限定されず、その形状は平板状に限られず、曲面状であってもよい。
【０１３９】
前記基板の材質は特に限定されないが、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）などのポリエステル系樹脂、ポリエチレンおよびポリプロピレンなどのポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド、ポリカーボネートおよびポリイミドなどのプラスチックフィルム、セロハン、アセテート、金属箔、ポリイミドと金属箔との積層フィルム、目止め効果があるグラシン紙、パーチメント紙、ならびに、ポリエチレン、クレーバインダー、ポリビニルアルコール、でんぷんまたはカルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）などで目止め処理した紙およびガラスを挙げることができる。
【０１４０】
これらの基板を構成する物質には、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲において、さらに、顔料、染料、酸化防止剤、劣化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤及び／又は電磁波防止剤などの添加剤を含有させてもよい。また、基板の表面の一部には、基板と異なる材質のカバーレイやソルダーレジスト膜が形成されていてもよい。
【０１４１】
基板の厚さは特に限定されないが、通常、１０μｍ〜１０ｍｍ程度であり、使用する目的により適宜調整されるが、１５μｍ〜５ｍｍが好ましく、２０μｍ〜２ｍｍがさらに好ましい。
【０１４２】
基板の皮膜を形成する面には、必要により撥水処理、コロナ処理、プラズマ処理、又はブラスト処理などの易接着処理を施したり、表面に易接着層やカラーフィルター用保護膜を設けたりしてもよい。
【０１４３】
前記基板の用途は特に限定されないが、本発明のコーティング組成物から得られる皮膜上にインクジェット法でマイクロレンズを形成した場合、直径と高さのばらつきが小さくなるため、基板表面に本発明の表面撥水性皮膜を形成し、その皮膜の上に、例えばインクジェット法でドットパターンを形成することによって、マイクロレンズを形成する用途に用いられることが好ましい。このようにして、基板と、該基板上に形成された本発明の表面撥水性皮膜と、該皮膜の上に形成されたマイクロレンズとからなる光学部品を製造することができる。
【０１４４】
このようなマイクロレンズの下地などとして機能する本発明の皮膜の厚みは特に限定されないが、通常１ｎｍ〜５μｍである。
【０１４５】
上記のようにして本発明の表面撥水性皮膜を用いて製造された光学部品は、例えば液晶ディスプレイ用の導光板として使用することができる。
【０１４６】
さらに、プリント配線板およびフレキシブル配線板などの電子回路基板の製造工程においては、基板上に様々な金属配線やソルダーレジストなどが形成される。これらへの、電子回路基板の部材の形成材料の濡れ広がり方は異なるため、それを一定にするため、前記金属配線やソルダーレジストの上に薄い表面処理膜を形成することが広く行われている。
本発明の表面撥水性皮膜は、このような表面処理膜としても非常に有用である。
【実施例】
【０１４７】
以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【０１４８】
＜ポリマー（Ａ）の合成例１＞
攪拌器付４つ口フラスコにラジカル重合性モノマー（メタクリル酸およびｎ−ブチルメタクリレート）と重合開始剤を下記の重量で仕込み、２−ブタノンの還流温度で４時間加熱して重合を行った。
【０１４９】
２−ブタノン ２００．０ｇ
メタクリル酸 ２５．０ｇ
ｎ−ブチルメタクリレート ７５．０ｇ
２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル） ２．０ｇ。
【０１５０】
反応液を室温まで冷却し、大量のヘキサン中に投入した。生成した沈殿を１．３３×１０4Ｐａの減圧下６０℃で２０ｈｒ減圧乾燥した後ミキサーで粉砕し、さらに１．３３×
１０4Ｐａの減圧下６０℃で１０ｈｒ減圧乾燥して８２．３ｇの白色ポリマーを得た。
【０１５１】
このポリマー１ｇをγ−ブチロラクトン（沸点は２０２℃）１００ｇと混合攪拌したところ、１０分後に完全に溶解した。このポリマーの重量平均分子量をＧＰＣ分析（ポリスチレン標準、展開液テトラヒドロフラン）により測定したところ、重量平均分子量は６，８００であった。
【０１５２】
＜ポリマー（Ａ）の合成例２＞
攪拌器付４つ口フラスコにラジカル重合性モノマー（γ-メタクリロキシプロピルヘプ
タ（トリフルオロプロピル）-Ｔ8-シルセスキオキサンおよびメチルメタクリレート）と
重合開始剤を下記の重量で仕込み、２−ブタノンの還流温度で４時間加熱して重合を行った。
【０１５３】
２−ブタノン ２００．０ｇ
γ-メタクリロキシプロピルヘプタ（トリフルオロプロピル）-Ｔ8-シルセスキオキサン
２．０ｇ
メチルメタクリレート ９８．０ｇ
２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル） ２．０ｇ。
【０１５４】
反応液を合成例１と同様に処理し、７４．６ｇの白色ポリマーを得た。このポリマー１ｇをγ−ブチロラクトン１００ｇと混合攪拌したところ、１０分後に完全に溶解した。このポリマーの重量平均分子量をＧＰＣ分析（ポリスチレン標準、展開液テトラヒドロフラン）により測定したところ、重量平均分子量は１６，８００であった。
【０１５５】
＜マイクロレンズ形成用インクジェットインクの調製＞
エチレンオキシド変性（３モル）グリセリントリアクリレートであるＡ-ＧＬＹ-３Ｅ（新中村化学工業（株）製）と、単官能（メタ）アクリレートであるｎ−ブチルメタクリレート（東京化成工業（株）製）と、光重合開始剤である２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドであるＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ（商品名；チバ・ジャパン（株）製）と、重合禁止剤であるフェノチアジン（東京化成工業（株）製）とを下記組成割合にて混合・溶解した後、得られた溶液を１μｍのＰＴＦＥ製のメンブレンフィルターでろ過し、マイクロレンズ形成用インクジェットインクを調製した。
【０１５６】
Ａ-ＧＬＹ-３Ｅ ３５０．００ｇ
ｎ−ブチルメタクリレート ２００．００ｇ
ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ ５５．００ｇ
フェノチアジン ０．２８ｇ。
【０１５７】
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２、以下同じ）を用い、当該インクの２５℃における粘度を測定した結果、１２．３ｍＰａ・ｓであった。
【０１５８】
［実施例１〜４、比較例１〜２］
下記表１に記載の配合で各成分を均一混合することにより、実施例１〜４、比較例１〜２のコーティング組成物を調製した。表中の数字は配合した重量（グラム）である。得られたコーティング組成物の２５℃における粘度を測定した後、該組成物をインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製のＤＭＰ−２８１１）に装着し、１０ｐｌ用のヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）１６Ｖ、ヘッド温度２５℃、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、４ｃｍ角のガラス基板（厚さ：０．７ｍｍ）上に１５０μｍ間隔で１ドットずつ吐出した。
【０１５９】
液滴はガラス上で濡れ広がり、ベタ膜が形成された。このガラス基板を５０℃のホットプレート上で５分、さらに１５０℃のホットプレート上で５分乾燥し、表面撥水性皮膜が形成されたガラス基板を２枚ずつ得た。
【０１６０】
得られた基板の１枚を使って、該基板上に形成された皮膜表面の水接触角を、協和界面化学社製のＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ５００を用い、２５℃にて、純水を用いて測定した。
【０１６１】
次に、マイクロレンズ形成用インクジェットインクをインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製のＤＭＰ−２８１１）に装着し、１０ｐｌ用のヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）１６Ｖ、ヘッド温度２５℃、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、前記の水接触角の測定に使用したのとは別の、表面撥水性皮膜が形成されたガラス基板の前記皮膜上に１５０μｍ間隔で１ドットずつ吐出した。
【０１６２】
このドットパターンが等間隔で形成されたガラス基板に、ＵＶ照射装置（（株）ジャテック製のＪ−ＣＵＲＥ１５００）を用いて紫外線を２０００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ露光量で
照射することで、マイクロレンズが形成された評価基板を得た。
【０１６３】
この評価基板のほぼ中央の１０×１０個（合計１００個）のドットパターン（マイクロレンズ）について、その直径と高さをＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ Ｊａｐａｎ株式会社製触針式膜厚計Ｐ−１５を用いて測定し、最大値と最小値の差から、マイクロレンズの直径と高さのばらつきを評価した。
【０１６４】
【表１】
【０１６５】
表１で使用した使用した記号は、以下のものを表す。
【０１６６】
ＳＭＡ：川原油化（株）製ＳＭＡ（登録商標）１７３５２（２５℃において１００ｇのγ−ブチロラクトンに５０ｇ以上溶解、ＧＰＣで求めた重量平均分子量は５，３００）
ＥＤＭ：ジエチレングリコールメチルエチルエーテル
ＧＢＬ：γ−ブチロラクトン
ＲＳ−１１２Ｋ：エポキシを有する界面活性剤であるＤＩＣ（株）製ＲＳ−１１２Ｋ
ＶＧ：三井化学（株）製ＴＥＣＨＭＯＲＥ（商標）ＶＧ３１０１Ｌ
ＰＨＭ：フェノール樹脂である丸善石油化学（株）社製マルカリンカー（登録商標）ＰＨＭ−Ｃ
ＨＦＡ：昭和高分子（株）製ＨＦＡ−３００３。
【０１６７】
表１に示す結果から明らかなように、本発明にかかるコーティング組成物から得られる皮膜上に形成されたマイクロレンズは、直径と高さのばらつきが小さい。したがって、本発明のコーティング組成物は、高品位の液晶ディスプレイ用導光板の製造に好ましく使用することができる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶用またはＥＬ用などの表示素子や、プリント配線板およびフレキシブル配線板などの電子回路基板を製造するために好適に用いられるコーティング組成物に関する。更に詳しくは、本発明はマイクロレンズをインクジェット法で形成する場合の下地基板を処理するのに適したコーティング組成物に関し、該組成物は、インクジェット用インクとして好適に用いることのできるものである。
【背景技術】
【０００２】
かねてより、液晶ディスプレイ用導光板の一部を構成するマイクロレンズは、金型を使った射出成型により形成されていた。この方法では、導光板、より具体的にはその一部を構成するマイクロレンズの製品設計毎に異なる金型が必要であり、よって前記方法は少量多品種の生産を行うには非常にコストのかかる方法であった。
【０００３】
そこで近年、安価なマイクロレンズの製造方法として、インクジェット法によりマイクロレンズを形成する方法が提案されているが、当該方法により得られるマイクロレンズのパターン直径、パターン高さのばらつきが大きいことが課題であった。この問題を改善するために、基板を撥水処理することが提案されているが、従来の表面処理用コーティング組成物（例えば、特開２００８−０５０５４９号公報に記載の組成物）には、マイクロレンズのパターン直径およびパターン高さのばらつきの幅を十分に小さくする観点から改良の余地がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−０５０５４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記の状況の下、本発明の目的は、インクジェット法により、パターン直径およびパターン高さのばらつきが小さいマイクロレンズを形成することができるような、基板の表面処理が可能であるコーティング組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は、特定の溶媒に特定量溶解するポリマー、溶媒および界面活性剤を含有するコーティング組成物が、パターン直径と高さのばらつきの小さいマイクロレンズを形成するために施す基板の表面処理に有用であることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。
【０００７】
さらに本発明は、このようなコーティング組成物から得られた皮膜及びその皮膜上にマイクロレンズが形成されてなる光学部品、該光学部品を使用した液晶ディスプレイなどを提供する。
【０００８】
すなわち本発明の要旨は、以下のとおりである。
【０００９】
［１］沸点が１２０〜３００℃の溶媒１００ｇに対して、２５℃において１ｇ以上溶解し、重量平均分子量が１，０００以上のポリマー（Ａ）、溶媒（Ｂ）および界面活性剤（Ｃ）を含有するコーティング組成物であって、
該組成物を基板上に塗布し、該基板上に形成された塗膜を１５０℃で５分乾燥して得ら
れた皮膜表面の、２５℃で測定した水の接触角が９０°以上であるコーティング組成物。
【００１０】
［２］界面活性剤（Ｃ）が熱架橋性官能基を有している、［１］に記載のコーティング組成物。
【００１１】
［３］界面活性剤（Ｃ）の熱架橋性官能基が、ヒドロキシ、カルボキシ、酸無水物基、アミノ、オキシラニル、オキセタニル、式（１）で表されるオキサゾリン基、式（２）で表されるオキサゾール基、アクリルおよびメタクリルからなる群より選ばれる少なくとも１種である、［２］に記載のコーティング組成物：
【００１２】
【化１】
【００１３】
（式（１）および（２）において、*は結合手である。）。
【００１４】
［４］界面活性剤（Ｃ）の熱架橋性官能基が、オキシラニルおよび／またはオキセタニルである、［２］または［３］に記載のコーティング組成物。
【００１５】
［５］ポリマー（Ａ）が、熱架橋性官能基を有している、［１］〜［４］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００１６】
［６］ポリマー（Ａ）の熱架橋性官能基が、ヒドロキシ、カルボキシ、酸無水物基、アミノ、オキシラニル、オキセタニル、式（１）で表されるオキサゾリン基、式（２）で表されるオキサゾール基、アクリルおよびメタクリルからなる群より選ばれる少なくとも１種である、［５］に記載のコーティング組成物：
【００１７】
【化２】
【００１８】
（式（１）および（２）において、*は結合手である。）。
【００１９】
［７］ポリマー（Ａ）の熱架橋性官能基が、ヒドロキシ、カルボキシおよび酸無水物基からなる群より選ばれる少なくとも１種である、［５］または［６］に記載のコーティング組成物。
【００２０】
［８］ポリマー（Ａ）が、カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（ａ１）と、モノマー（ａ１）および酸無水物基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２）以外のその他のラジカル重合性モノマー（ａ３）とのコポリマー（Ａ１）、酸無水物基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２）と、モノマー（ａ１）およびモノマー（ａ２）以外のその他のラジカル重合性モノマー（ａ３）とのコポリマー（Ａ２）、またはモノマー（ａ２）とモノマー（ａ３）とのコポリマーの、モノマー（ａ２）由来の酸無水物基を、アルコール性水酸基を有する化合物（ａ４）で開環して得られるコポリマー（Ａ３）である、［５］〜
［７］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００２１】
［９］カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（ａ１）が、アクリル酸および／またはメタクリル酸である、［８］に記載のコーティング組成物。
【００２２】
［１０］その他のラジカル重合性モノマー（ａ３）が、式（３）で表されるアクリレートまたはメタクリレートである、［８］または［９］に記載のコーティング組成物：
【００２３】
【化３】
【００２４】
（式（３）において、Ｒ1は水素またはメチルであり、Ｒ2は炭素数１〜２０のアルキルである。）。
【００２５】
［１１］その他のラジカル重合性モノマー（ａ３）がｎ−ブチルメタクリレートである、［８］〜［１０］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００２６】
［１２］アルコール性水酸基を有する化合物（ａ４）が、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、シクロヘキサノールおよびベンジルアルコールからなる群より選ばれる少なくとも１種である、［８］〜［１１］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００２７】
「１３」酸無水物基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２）が、マレイン酸無水物である、［８］〜［１２］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００２８】
［１４］溶媒（Ｂ）が、溶媒（Ｂ）の全体１００重量％に対して、沸点が１２０〜３００℃の溶媒を５０重量％以上含有している、［１］〜［１３］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００２９】
［１５］溶媒（Ｂ）が、溶媒（Ｂ）の全体１００重量％に対して、２５℃における表面張力が２２〜４８ｍＮ／ｍの溶媒を５０重量％以上含有している、［１］〜［１４］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００３０】
［１６］さらに、エポキシ樹脂（Ｄ）を含有している、［１］〜［１５］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００３１】
［１７］さらに、ポリマー（Ａ）、界面活性剤（Ｃ）およびエポキシ樹脂（Ｄ）以外の熱硬化性化合物（Ｅ）を含有している、［１］〜［１６］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００３２】
［１８］さらに、難燃剤（Ｆ）を含有している、［１］〜［１７］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００３３】
［１９］２５℃における粘度が２〜３０ｍＰａ・ｓである、［１］〜［１８］のいずれかに記載のコーティング組成物。
【００３４】
［２０］［１］〜［１９］のいずれかに記載のコーティング組成物を基板上に塗布し、基板上に形成された塗膜を乾燥して得られる表面撥水性皮膜。
【００３５】
［２１］［１９］に記載のコーティング組成物をインクジェット法で基板上に塗布する工程１と、工程１で基板上に形成された塗膜を乾燥する工程２とを有する、表面撥水性皮膜の形成方法。
【００３６】
［２２］基板と、該基板上に形成された［２０］に記載の表面撥水性皮膜と、該皮膜の上に形成されたマイクロレンズとからなる光学部品。
【００３７】
［２３］［２０］に記載の表面撥水性皮膜の上に、インクジェット法でドットパターンを形成する工程を有する、マイクロレンズの形成方法。
【００３８】
［２４］［２２］に記載の光学部品を搭載した液晶ディスプレイ。
【発明の効果】
【００３９】
本発明のコーティング組成物から得られる皮膜上に、インクジェット法でマイクロレンズを形成すると、直径と高さのばらつきの小さいマイクロレンズを形成することができる。したがって、本組成物は高品位な光学部品を製造するのに有用である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
［１．本発明のコーティング組成物］
本発明のコーティング組成物は、上記ポリマー（Ａ）、溶媒（Ｂ）および界面活性剤（Ｃ）を含有する。
【００４１】
また、本発明のコーティング組成物は、必要に応じてエポキシ樹脂（Ｄ）、ポリマー（Ａ）、界面活性剤（Ｃ）およびエポキシ樹脂（Ｄ）以外の熱硬化性化合物（Ｅ）および難燃剤（Ｆ）等を含有してもよい。以下、上記各成分について説明する。
【００４２】
＜１．１ ポリマー（Ａ）＞
本発明のコーティング組成物は、沸点が１２０〜３００℃の溶媒１００ｇに対して、２５℃において１ｇ以上、好ましくは３ｇ以上溶解し、重量平均分子量が１，０００以上、好ましくは１，０００〜５００，０００のポリマー（Ａ）を含む。重量平均分子量は、例えば、標準のポリスチレンには、分子量が５００〜１５０，０００のポリスチレン（例えばＰｏｌｙｍｅｒ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ製のＰＬ２０１０−０１０２（Ｓ−Ｍ２−１０）ｓｔａｎｄａｒｄ）を用い、カラムにはＳｈｏｄｅｘ ＰＬｇｅｌ ＭＩＸＥＤ−Ｄ（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ製）を用い、移動相としてＴＨＦを用いる条件で測定することができる。
【００４３】
前記沸点が１２０〜３００℃の溶媒は、インクジェット用インクの溶媒として一般に用いられている溶媒の沸点である。２５℃においてこの溶媒に溶解するのが１ｇ未満のポリマーを含むコーティング組成物からは、均一な塗膜は得られず、それゆえ該塗膜から得られる皮膜も不均一なものとなり、したがって、その皮膜の上に形成されるマイクロレンズのパターン直径および高さのばらつきが大きくなる。
【００４４】
また、本明細書において重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した標準ポリスチレン換算の重量平均分子量である。ポリマー（Ａ）の重量平均分子量が１，０００以上であると、得られる皮膜上に形成されるマイクロレンズの直径および高さのばらつきが小さい。一方ポリマー（Ａ）の重量平均分子量が５００，０００を超えると、インクジェット法を用いて塗膜を形成する際の吐出性が低下す
る傾向がある。
【００４５】
本発明のコーティング組成物は前記の条件を満たすポリマー（Ａ）を含んでいるため、該組成物から得られる皮膜上にインクジェット法で形成されたマイクロレンズの直径、高さのばらつきが小さい。
【００４６】
ポリマー（Ａ）は、好ましくは酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、又はジメチルイミダゾリジノン（以上の溶媒の沸点は１２０〜３００℃である）１００ｇに対して、２５℃において１ｇ以上溶解するポリマーであり、
ジエチレングリコールメチルエチルエーテルまたはγ−ブチロラクトン１００ｇに対して、２５℃において１ｇ以上溶解するポリマーであることがより好ましい。
【００４７】
また、ポリマー（Ａ）が、熱架橋性官能基を有しており、さらに後述する界面活性剤（Ｃ）が熱架橋性官能基を有していると、そのようなポリマー（Ａ）および界面活性剤（Ｃ）を含有するコーティング組成物から得られる皮膜上に、インクジェット法で形成されるマイクロレンズの直径と高さのばらつきが非常に有効に小さくなるので好ましい。
【００４８】
前記熱架橋性官能基とは、加熱により他の官能基と新たな共有結合を形成する官能基のことであり、その具体例としては、ヒドロキシ、カルボキシ、酸無水物基、アミノ、オキシラニル、オキセタニル、式（１）で表されるオキサゾリン基、式（２）で表されるオキサゾール基、アクリルおよびメタクリル等を挙げることができる。
【００４９】
【化４】
【００５０】
式（１）および（２）において、*は結合手である。
【００５１】
これらの中でも、ポリマー（Ａ）の熱架橋性官能基としては、特にヒドロキシ、カルボキシおよび酸無水物基が好ましい。
【００５２】
本発明において使用されるポリマー（Ａ）は、このような熱架橋性官能基を一つ有していても、複数有していてもよい。
【００５３】
ポリマー（Ａ）として具体的には、以下のコポリマー（Ａ１）〜（Ａ３）が好ましい。（Ａ１）カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（ａ１）と、該モノマー（ａ１）および酸無水物基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２）以外のその他のラジカル重合性モノマー（ａ３）とのコポリマー
（Ａ２）酸無水物基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２）と、前記モノマー（ａ１）およびモノマー（ａ２）以外のその他のラジカル重合性モノマー（ａ３）とのコポリマー（Ａ３）酸無水物基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２）と前記その他のラジカル重合性モノマー（ａ３）とのコポリマーの、前記モノマー（ａ２）由来の酸無水物基を、アルコール性水酸基を有する化合物（ａ４）で開環して得られるコポリマー。
【００５４】
上記モノマー（ａ１）〜（ａ３）は、ラジカル重合性基を有しており、かつモノマー（ａ１）についてはカルボキシを有しており、モノマー（ａ２）については酸無水物基を有しており、モノマー（ａ３）については、モノマー（ａ１）にもモノマー（ａ２）にも該当しない化合物であればよい。
【００５５】
前記モノマー（ａ１）の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、ソルビン酸が挙げられ、これらの中でも、パターン直径および高さのばらつきの少ないマイクロレンズを形成する観点からは、アクリル酸およびメタクリル酸が好ましい。
【００５６】
前記モノマー（ａ２）の具体例としては、マレイン酸無水物、イタコン酸無水物、シトラコン酸無水物が挙げられ、これらの中でも、パターン直径および高さのばらつきの少ないマイクロレンズを形成する観点からは、マレイン酸無水物が好ましい。
【００５７】
前記モノマー（ａ３）の具体例としては、スチレン、式（３）で表されるアクリレートもしくはメタクリレート、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、酢酸ビニル、アクリロニトリルが挙げられる。
【００５８】
【化５】
【００５９】
式（３）において、Ｒ1は水素またはメチルであり、Ｒ2は炭素数１〜２０のアルキルであり、炭素数２〜１２のアルキルであることが好ましい。
【００６０】
上記の中でも、モノマー（ａ３）としては、スチレンおよびエチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレートが好ましく、ｎ−ブチルメタクリレートが特に好ましい。
【００６１】
また、上記のように、上記コポリマー（Ａ３）は、モノマー（ａ２）とモノマー（ａ３）とのコポリマーの、前記モノマー（ａ２）由来の酸無水物基を、アルコール性水酸基を有する化合物（ａ４）で開環して得られるコポリマーである。
【００６２】
前記アルコール性水酸基を有する化合物（ａ４）の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、シクロヘキサノールおよびベンジルアルコール等を挙げることができる。これらの中でも、本発明のコーティング組成物から得られる皮膜上に形成されるマイクロレンズのパターン直径および高さのばらつきを小さくする観点からは、特にシクロヘキサノールが好ましい。
【００６３】
さらに、上記コポリマー（Ａ１）〜（Ａ３）の中では、前記マイクロレンズのパターン直径および高さのばらつきを小さくする観点から、コポリマー（Ａ１）および（Ａ３）が好ましく、コポリマー（Ａ１）が特に好ましい。
【００６４】
ポリマー（Ａ）の最も好ましい例として、コポリマー（Ａ１）に該当する、アクリル酸および／またはメタクリル酸とｎ−ブチル（メタ）アクリレートとのコポリマーを挙げることができる。また、コポリマー（Ａ３）の例として、スチレンとマレイン酸無水物とのコポリマーの、モノマー（ａ２）由来の酸無水物基を、シクロヘキサノールで開環したポリマーを挙げることができる。後者のポリマーは、川原油化（株）からＳＭＡ（登録商標）１７３５２として市販されている。
【００６５】
以上説明したポリマー（Ａ）は、前記のＳＭＡ１７３５２のように市販されているものもあり、また上記のモノマーを公知慣用の条件に従って重合させることにより、容易に合成することができる。また、重量平均分子量の調整方法も公知である。
【００６６】
ポリマー（Ａ）は、１種であっても、２種以上の混合物であってもよい。本発明のコーティング組成物におけるポリマー（Ａ）の含有量は、本発明のコーティング組成物のコーティング方法によって適宜選択されるが、インクジェット法で塗布する場合は、コーティング組成物総量（１００重量％）の０．０１〜２０重量％であることが好ましく、０．１〜１０重量％であることがより好ましい。
【００６７】
＜１．２ 溶媒（Ｂ）＞
本発明のコーティング組成物は、均一な皮膜を形成するため、また本発明のコーティング組成物をインクジェット法により塗布（吐出）する場合には、良好なジェッティング性を実現するために、溶媒（Ｂ）を含有する。
【００６８】
溶媒（Ｂ）は、本発明のコーティング組成物に含まれる溶媒（Ｂ）の全体１００重量％に対し、沸点が１２０〜３００℃の溶媒を５０重量％以上含有することが、本発明のコーティング組成物のインクジェット法での塗布が容易であるために好ましい。また、前記溶媒の２５℃における表面張力が２２〜４８ｍＮ／ｍであると、同様な観点からさらに好ま
しい。
【００６９】
このような沸点および表面張力の両者の条件を満たす溶媒の具体例としては、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンおよびジメチルイミダゾリジノンを挙げることができる。
【００７０】
これらの中でも、本発明のコーティング組成物の良好なジェッティング性の観点から、特にジエチレングリコールメチルエチルエーテルおよびγ−ブチロラクトンが好ましい。
【００７１】
本発明のコーティング組成物に使用する溶媒（Ｂ）は、１種であっても２種以上の混合物であってもよい。また、本発明のコーティング組成物１００重量％中における溶媒（Ｂ）の含有量は、通常７０〜９９．９８重量％であり、好ましくは８５〜９９．８重量％である。
【００７２】
＜１．３ 界面活性剤（Ｃ）＞
本発明のコーティング性組成物は、該組成物から得られる皮膜表面の撥水性を高めるために、界面活性剤（Ｃ）を含有する。前記皮膜上にパターン直径および高さのばらつきの小さいマイクロレンズをインクジェット法により作製するためには、撥水性が重要であるが、それだけでは足りず、前記界面活性剤（Ｃ）を前記組成物に含有させて前記皮膜の撥水性を高めることによって、初めてパターン直径および高さのばらつきの小さいマイクロレンズをインクジェット法により作製することができる。
【００７３】
前記界面活性剤（Ｃ）としては、シリコン系界面活性剤及びフッ素系界面活性剤などが好ましく用いられるが、特に、界面活性剤（Ｃ）が熱架橋性官能基を有し、かつ前記ポリマー（Ａ）が熱架橋性官能基を有していると、本発明のコーティング組成物から得られる
皮膜上にインクジェット法で形成されたマイクロレンズの直径、高さのばらつきが特に小さくなるので非常に好ましい。
【００７４】
前記熱架橋性官能基とは前述のように、加熱により他の官能基と新たな共有結合を形成する官能基のことであり、その具体例としては、ヒドロキシ、カルボキシ、酸無水物基、アミノ、オキシラニル、オキセタニル、式（１）で表されるオキサゾリン基、式（２）で表されるオキサゾール基、アクリルおよびメタクリル等が挙げられる。
【００７５】
【化６】
【００７６】
上記式において、*は結合手である。
【００７７】
これらの熱架橋性官能基の中でも、本発明のコーティング組成物から得られる皮膜上にパターン直径および高さのばらつきの小さいマイクロレンズをインクジェット法により作製する観点からは、オキシラニル、オキセタニル、アクリルおよびメタクリルがより好ましく、オキシラニルおよびオキセタンがより一層好ましい。
【００７８】
本発明において使用される界面活性剤（Ｃ）は、このような熱架橋性官能基を一つ有していても、複数有していてもよい。
【００７９】
前記シリコン系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤、ならびにこのような熱架橋性官能基を有する界面活性剤は、公知の方法によって容易に合成することができ、また市販もされている。たとえば、熱架橋性官能基としてエポキシを有する界面活性剤として、ＤＩＣ（株）製ＲＳ−１１２Ｋが市販されている。
【００８０】
本発明のコーティング組成物に用いられる界面活性剤（Ｃ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００８１】
また界面活性剤（Ｃ）の含有量が、本発明のコーティング組成物総量（１００重量％）の０．０１〜１０重量％であると、該組成物から得られる皮膜表面の撥水性が高いので好ましい。さらに、界面活性剤（Ｃ）の含有量が本発明のコーティング組成物総量の０．１〜５％であると、該組成物から得られる皮膜上にインクジェット法で形成されたマイクロレンズの直径、高さのばらつきが小さいので、より一層好ましい。
【００８２】
＜１．４ エポキシ樹脂（Ｄ）＞
本発明のコーティング組成物は、エポキシ樹脂（Ｄ）を含んでもよい。本発明のコーティング組成物がエポキシ樹脂（Ｄ）を含むと、本組成物から得られる皮膜の各種基板に対する密着性が向上するので好ましい。
【００８３】
エポキシ樹脂（Ｄ）としては、例えば、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、水添ビスフェノールＡ型、水添ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型、トリスフェノールメタン型、テトラフェノールエタン型、ビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ化合物；脂環式もしくは複素環式のエポキシ化合物；ジシクロペンタジエン型もしくはナフタレン型の構造を有するエポキシ化合物等が挙げられる。
【００８４】
また、エポキシ樹脂（Ｄ）としては、例えば、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタンを挙げることもできる。
【００８５】
エポキシ樹脂（Ｄ）としては、各種の市販品を用いることができ、ＴＥＣＨＭＯＲＥ ＶＧ３１０１Ｌ（商品名；三井化学（株）製）、エピコート８２８、同８３４、同１００１、同１００４（商品名；ジャパンエポキシレジン社 製）、エピクロン８４０、同８５
０、同１０５０、同２０５５、（商品名；ＤＩＣ社 製）、エポトートＹＤ−０１１、同
ＹＤ−０１３、同ＹＤ−１２７、同ＹＤ−１２８（商品名；東都化成社 製）、Ｄ.Ｅ.Ｒ.３１７、同３３１、同６６１、同６６４（商品名；ダウケミカル社 製）、アラルダイド
６０７１、同６０８４、同ＧＹ２５０、同ＧＹ２６０（商品名；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社 製）、スミ−エポキシＥＳＡ−０１１、同ＥＳＡ−０１４、同ＥＬＡ−１
１５、同ＥＬＡ−１２８（商品名；住友化学工業社 製）、Ａ.Ｅ.Ｒ.３３０、同３３１、同６６１、同６６４（商品名；旭化成工業社 製）等のビスフェノールＡ型エポキシ化合
物；
エピコート１５２、同１５４（商品名；ジャパンエポキシレジン社 製）、Ｄ.Ｅ.Ｒ.４３１、同４３８（商品名；ダウケミカル社 製）、エピクロンＮ−７３０、同Ｎ−７７０
、同Ｎ−８６５（商品名；ＤＩＣ社 製）、エポトートＹＤＣＮ−７０１、同ＹＤＣＮ−
７０４（商品名；東都化成社 製）、アラルダイドＥＣＮ１２３５、同ＥＣＮ１２７３、
同ＥＣＮ１２９９（商品名；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社 製）、ＸＰＹ３０７
、ＥＰＰＮ−２０１、ＥＯＣＮ−１０２５、ＥＯＣＮ−１０２０、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ、ＲＥ−３０６（商品名；日本化薬社 製）、スミ−エポキシＥＳＣＮ−１９５Ｘ、同ＥＳ
ＣＮ−２２０（商品名；住友化学工業社 製）、Ａ.Ｅ.Ｒ.ＥＣＮ−２３５、同ＥＣＮ−２９９（商品名；ＡＤＥＫＡ社 製）等のノボラック型エポキシ化合物；
エピクロン８３０（商品名；ＤＩＣ社 製）、ＪＥＲ８０７（商品名；ジャパンエポキ
シレジン社 製）、エポトートＹＤＦ−１７０（商品名；東都化成社 製）、ＹＤＦ−１７５、ＹＤＦ−２００１、ＹＤＦ−２００４、アラルダイドＸＰＹ３０６（商品名；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社 製）等のビスフェノールＦ型エポキシ化合物；
エポトートＳＴ−２００４、同ＳＴ−２００７、同ＳＴ−３０００（商品名；東都化成社 製）等の水添ビスフェノールＡ型エポキシ化合物；
セロキサイド２０２１（商品名；ダイセル化学工業社 製）、アラルダイドＣＹ１７５
、同ＣＹ１７９（商品名；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社 製）等の脂環式エポキ
シ化合物；
ＹＬ−９３３（商品名；ジャパンエポキシレジン社 製）、ＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰ
Ｎ−５０２（商品名；ダウケミカル社 製）等のトリヒドロキシフェニルメタン型エポキ
シ化合物；
ＹＬ−６０５６、ＹＸ−４０００、ＹＬ−６１２１（商品名；ジャパンエポキシレジン社 製）等のビキシレノール型もしくはビフェノール型エポキシ化合物又はそれらの混合
物；
ＥＢＰＳ−２００（商品名；日本化薬社 製）、ＥＰＸ−３０（商品名；ＡＤＥＫＡ社 製））、ＥＸＡ−１５１４（商品名；ＤＩＣ社 製）等のビスフェノールＳ型エポキシ化
合物；
ＪＥＲ１５７Ｓ（商品名；ジャパンエポキシレジン社 製）等のビスフェノールＡノボ
ラック型エポキシ化合物；
ＹＬ−９３１（商品名；ジャパンエポキシレジン社 製）、アラルダイド１６３（商品
名；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社 製）等のテトラフェニロールエタン型エポキ
シ化合物；
アラルダイドＰＴ８１０（商品名；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社 製）、ＴＥ
ＰＩＣ（商品名；日産化学工業社 製）等の複素環式エポキシ化合物；
ＨＰ−４０３２、ＥＸＡ−４７５０、ＥＸＡ−４７００（商品名；ＤＩＣ社 製）等の
ナフタレン含有エポキシ化合物；
ＨＰ−７２００、ＨＰ−７２００Ｈ、ＨＰ−７２００ＨＨ（商品名；ＤＩＣ社 製）等
のジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物等が挙げられる。
【００８６】
これらのエポキシ樹脂の中でも、ＴＥＣＨＭＯＲＥ ＶＧ３１０１Ｌ（商品名；三井化学（株）製）を用いると、本発明のコーティング組成物から得られる皮膜の各種基板への密着性が高いので好ましい。
【００８７】
本発明のコーティング組成物に用いられるエポキシ樹脂（Ｄ）は、１種であっても、２種以上の混合物であってもよい。
【００８８】
またエポキシ樹脂（Ｄ）を使用する場合、エポキシ樹脂（Ｄ）の本発明のコーティング組成物における含有量は、上記ポリマー（Ａ）１００重量部に対して１０〜５０重量部であると、本発明のコーティング組成物から得られる皮膜の各種基板への密着性が高いので好ましい。
【００８９】
＜１．５ ポリマー（Ａ）、界面活性剤（Ｃ）およびエポキシ樹脂（Ｄ）以外の熱硬化性化合物（Ｅ）＞
本発明のコーティング組成物は、例えば前記組成物から得られる皮膜の耐熱性を向上させるために、ポリマー（Ａ）、界面活性剤（Ｃ）およびエポキシ樹脂（Ｄ）以外の熱硬化性化合物（Ｅ）を含んでもよい。本発明において、熱硬化性化合物（Ｅ）としては、熱硬化させることが可能な官能基を有する化合物であれば特に限定されず、該化合物の具体例として、ビスマレイミド、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ硬化剤などが挙げられる。
【００９０】
熱硬化性化合物（Ｅ）を使用する場合、熱硬化性化合物（Ｅ）の本発明のコーティング組成物における含有量は、上記ポリマー（Ａ）１００重量部に対して１０〜４０重量部であると、得られる皮膜の耐熱性が高いので好ましい。
【００９１】
（１．５．１ ビスマレイミド）
ビスマレイミドとしては、例えば、下記一般式（６）で表される化合物が挙げられる。下記一般式（６）で表されるビスマレイミドは、例えばジアミンと酸無水物とを反応させて得られる化合物である。
【００９２】
【化７】
【００９３】
式（６）中、Ｒ10およびＲ12はそれぞれ独立に水素またはメチルであり、コーティング組成物から得られる皮膜の耐熱性が優れる点で、水素であることが好ましく、Ｒ11は下記一般式（７）で表される二価の基である。
【００９４】
【化８】
【００９５】
式（７）中、Ｒ13およびＲ14はそれぞれ独立に、連続しない任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい炭素数１〜１８のアルキレン、置換基を有してもよい芳香環を有する二価の基、または置換基を有してもよいシクロアルキレンである。前記芳香環およびシクロアルキレンにおける置換基としては、例えば、カルボキシ、ヒドロキシ、炭素数１〜５のアルキル、炭素数１〜５のアルコキシが挙げられる。得られる皮膜の耐熱性が高い点で、Ｒ13およびＲ14はそれぞれ独立に下記何れかの式で表される二価の基であることが好ましい。
【００９６】
【化９】
【００９７】
式（７）中、Ｘは下記何れかの式で表される二価の基である。
【００９８】
【化１０】
【００９９】
ビスマレイミドは１種で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１００】
（１．５．２ フェノール樹脂）
フェノール樹脂としては、フェノール性水酸基を有する芳香族化合物とアルデヒド類との縮合反応により得られるノボラック樹脂、ビニルフェノールの単独重合体（水素添加物を含む）、ビニルフェノールとこれと共重合可能な化合物とのビニルフェノール系共重合体（水素添加物を含む）などが好ましく用いられる。
【０１０１】
フェノール性水酸基を有する芳香族化合物としては、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブチルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、ｏ−キシレノール、２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノ
ール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール、２，３，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、レゾルシノール、ホドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、テルペン骨格含有ジフェノール、没食子酸、没食子酸エステル、α−ナフトール、β−ナフトールなどが挙げられる。
【０１０２】
アルデヒド類としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、フルフラール、ベンズアルデヒド、ニトロベンズアルデヒド、アセトアルデヒドなどが挙げられる。
【０１０３】
ビニルフェノールと共重合可能な化合物としては、（メタ）アクリル酸またはその誘導体、スチレンまたはその誘導体、無水マレイン酸、酢酸ビニル、アクリロニトリルなどが挙げられる。
【０１０４】
フェノール樹脂の具体例としては、レヂトップＰＳＭ−６２００（商品名；群栄化学社製）、ショウノールＢＲＧ−５５５（商品名；昭和高分子社製）、マルカリンカーＭＳ−２Ｐ、マルカリンカーＣＳＴ７０、マルカリンカーＰＨＭ−Ｃ（商品名；丸善石油化学社製）が挙げられる。
【０１０５】
フェノール樹脂は１種で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１０６】
（１．５．３ メラミン樹脂）
メラミン樹脂は、メラミンとホルムアルデヒドとの重縮合により製造された樹脂であれば特に限定されず、メチロールメラミン、エーテル化メチロールメラミン、ベンゾグアナミン、メチロールベンゾグアナミン、エーテル化メチロールベンゾグアナミン、およびそれらの縮合物などが挙げられる。これらの中でも、得られる皮膜の耐薬品性が良好である点で、エーテル化メチロールメラミンが好ましい。
【０１０７】
メラミン樹脂の具体例としては、ニカラックＭＷ−３０、ＭＷ−３０ＨＭ、ＭＷ−３９０、ＭＷ−１００ＬＭ、ＭＸ−７５０ＬＭ（商品名；三和ケミカル社製）が挙げられる。
【０１０８】
メラミン樹脂は１種で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１０９】
（１．５．４ エポキシ硬化剤）
本発明のコーティング組成物は、得られる皮膜の耐薬品性をより向上させる点で、エポキシ硬化剤を含有してもよい。エポキシ硬化剤としては、酸無水物系硬化剤、ポリアミン系硬化剤などが好ましい。
【０１１０】
酸無水物系硬化剤としては、マレイン酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロトリメリット酸無水物、フタル酸無水物、トリメリット酸無水物などが挙げられる。
【０１１１】
ポリアミン系硬化剤としては、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジシアンジアミド、ポリアミドアミン（ポリアミド樹脂）、ケチミン化合物、イソホロンジアミン、ｍ−キシレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジエチルジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォンなどが挙げられる。
【０１１２】
エポキシ硬化剤は１種で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１１３】
＜１．６ 難燃剤（Ｆ）＞
本発明のコーティング組成物は、難燃剤（Ｆ）を含有してもよい。難燃剤（Ｆ）を含有すると、得られる皮膜の難燃性が高いので好ましい。難燃剤（Ｆ）としては、難燃性を付与できる化合物であれば特に限定されないが、低有毒性、低公害性、安全性の観点から、有機リン系難燃剤を用いることが好ましい。
【０１１４】
有機リン系難燃剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、２−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシド、１０−（２，５−ジヒドロキシフェニル）−１０Ｈ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキシド、縮合９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシドなどが挙げられる。
【０１１５】
難燃剤（Ｆ）の中でも、コーティング組成物から得られる皮膜を高温状態にさらした場合でも難燃剤のブリードアウトがない点で、有機リン系難燃剤である下記式（Ｆ−１）で表される構造を有する化合物を用いることが好ましい。下記式（Ｆ−１）で表される構造を有する化合物としては、縮合９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０オキシドであるＨＦＡ−３００３（商品名；昭和高分子社製）などの下記一般式（Ｆ−２）で表される化合物を用いることがより好ましい。
【０１１６】
【化１１】
【０１１７】
【化１２】
【０１１８】
式中、ｍは０〜２の整数であり、ｎは１〜３の整数であり、ｍ＋ｎは３である。好ましくは、ｍは１または２であり、ｎは１または２であり、ｍ＋ｎは３である。
【０１１９】
難燃剤（Ｆ）は１種で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。なお、以上説明した難燃剤（Ｆ）は公知の方法で製造することができ、また上記の昭和高分子社製のＨＦＡ−３００３のように、市販もされている。
【０１２０】
難燃剤（Ｆ）を用いる場合、本発明のコーティング組成物において、該難燃剤（Ｆ）の含有量は、ポリマー（Ａ）１００重量部に対して、２０〜４０重量部であると、他特性とのバランスが良く、かつ前記組成物から得られる皮膜が難燃性に優れる点で好ましい。
【０１２１】
＜１．７ 本発明のコーティング組成物の粘度＞
本発明のコーティング組成物の、Ｅ型粘度計で測定した２５℃における粘度は、基板への塗布方法によって適宜選択される。本発明のコーティング組成物がスクリーン印刷で塗布される場合には、該組成物の２５℃における粘度は１，０００〜１００，０００ｍＰａ・ｓであることが好適であり、前記組成物をスリットコーターやダイコーターで塗布する場合には、該組成物の２５℃における粘度は２〜１，０００ｍＰａ・ｓであることが好適であり、前記組成物をインクジェット法で塗布する場合には、該組成物の２５℃における粘度は１〜２００ｍＰａ・ｓが好適である。インクジェット法で塗布を行う場合、本発明のコーティング組成物の２５℃における粘度が１〜２００ｍＰａ・ｓであると、インクジェット装置による吐出特性が良好となるので好ましい。
【０１２２】
２５℃における本発明のコーティング組成物の粘度は、前記組成物をインクジェット法により塗布する場合の、インクジェット装置による吐出特性の観点から、より好ましくは２〜３０ｍＰａ・ｓである。
【０１２３】
＜１．８ 本発明のコーティング組成物の調製方法＞
本発明のコーティング組成物は、原料となる各成分を公知の方法により混合することで調製することができる。特に、本発明のインクは、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分および必要に応じて（Ｄ）〜（Ｆ）成分やその他の成分を混合し、得られた溶液をろ過して脱気することにより調製されることが好ましい。そのようにして調製された本発明のコーティング組成物は、インクジェット装置での吐出性に優れる。前記ろ過には、例えばフッ素樹脂製のメンブレンフィルターが用いられる。
【０１２４】
＜１．９ 本発明のコーティング組成物の保存＞
本発明のコーティング組成物は、−２０〜２０℃で保存すると、保存中の粘度変化（増加）が小さく、保存安定性が良好である。
【０１２５】
＜１．１０ 本発明のコーティング組成物の水の接触角＞
以上説明したように、本発明のコーティング組成物からは、撥水性の高い皮膜が得られる。そして、本発明のコーティング組成物を基板上に塗布し、該基板上に形成された塗膜を１５０℃で５分乾燥して得られた皮膜表面の、２５℃で測定した水の接触角は９０°以上であり、好ましくは９３〜１１５°である。
【０１２６】
以上説明した（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有し、かつ前記皮膜表面の、２５℃で測定した水の接触角が９０°以上である本発明のコーティング組成物から得られる皮膜上には、パターン直径および高さのばらつきの小さいマイクロレンズを作製することができる。
【０１２７】
すなわち、本発明のコーティング組成物においては、上記（Ａ）〜（Ｃ）成分およびその他の任意成分が、前記皮膜表面の水の接触角の要件を満たすように選択される。前記皮膜表面の２５℃で測定した水の接触角を９０°以上とするためには、ポリマー（Ａ）１００重量部に対して界面活性剤（Ｃ）を１〜５０重量部使用することが好ましく、また、界面活性剤（Ｃ）はシリコン系あるいはフッ素系界面活性剤であることが好ましい。
【０１２８】
［２．インクジェット方法によるコーティング組成物の塗布］
本発明のコーティング組成物は、公知のインクジェット塗布方法を用いて塗布することができる。インクジェット塗布方法としては、例えば、インクに力学的エネルギーを作用させてインクをインクジェットヘッドから吐出（塗布）させる方法（いわゆるピエゾ方式）、及びインクに熱エネルギーを作用させてインクを塗布させる塗布方法（いわゆるバブルジェット（登録商標）方式）等がある。
【０１２９】
インクジェット塗布方法を用いることにより、コーティング組成物を予め定められたパターン状に塗布することができる。これによって、必要な箇所だけに皮膜を形成することができ、またこの皮膜を利用して導光板を製造する場合には、後工程のマイクロレンズの製造は、インクジェット法により好適に実施することができるので、二つの工程を一つの装置で実施することができ、コストの削減となる。
【０１３０】
本発明のコーティング組成物を用いて塗布を行うのに好ましい塗布ユニットとしては、例えば、これらの組成物を収容するインク収容部と、インクジェットヘッドとを備えたインクジェットユニットが挙げられる。インクジェットユニットとしては、例えば、塗布信号に対応した熱エネルギーをインクに作用させ、前記エネルギーによりインク液滴を発生させながら、前記塗布信号に対応した塗布（描画）を行うインクジェットユニットが挙げられる。
【０１３１】
前記インクジェットヘッドとしては、例えば、金属及び／又は金属酸化物を含有する発熱部接液面を有するものが挙げられる。前記金属及び／又は金属酸化物の具体例としては、例えば、Ｔａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ａｌ等の金属、及びこれらの金属の酸化物等が挙げられる。
【０１３２】
本発明のコーティング組成物を用いて塗布を行うのに好ましい塗布装置としては、例えば、インクが収容されるインク収容部を有するインクジェットヘッドの室内のインクに、塗布信号に対応したエネルギーを与え、前記エネルギーによりインク液滴を発生させながら、前記塗布信号に対応した塗布（描画）を行う装置が挙げられる。
【０１３３】
インクジェット塗布装置としては、インクジェットヘッドとインク収容部とが分離されているものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いてもよい。また、インク収容部はインクジェットヘッドに対し分離可能又は分離不能に一体化されてキャリッジに搭載されるもののほか、装置の固定部位に設けられて、インク供給部材、例えばチューブを介してインクジェットヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。
【０１３４】
また、インクジェットヘッドの加熱温度は４０〜１２０℃であることが好ましく、その加熱温度における本発明のコーティング組成物の粘度は、２〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。
【０１３５】
［３．表面撥水性皮膜の形成］
本発明の表面撥水性皮膜は、上述した本発明のコーティング組成物を公知の各種塗布方法により基板上に塗布した後に、該基板上に形成された塗膜を、通常４０〜２００℃で１〜３０分、好ましくは６０〜１５０℃で３〜２０分乾燥することで得ることができる。前記の塗布方法としては、前述のように、本発明の表面撥水性皮膜を導光板の製造に用いる場合などは、インクジェット塗布法が好ましく、本発明のコーティング組成物（インクジェット塗布に適した粘度である必要がある）をインクジェット法で基板上に塗布し、前記基板上に形成された塗膜を乾燥して、本発明の表面撥水性皮膜を得ることが好ましい。
【０１３６】
本発明のコーティング組成物に含まれるポリマー（Ａ）および界面活性剤（Ｃ）が熱架橋性官能基を有する場合には、前記乾燥時の加熱により、熱架橋性官能基同士が反応し、塗膜表面に界面活性剤（Ｃ）の疎水性部分が並んだ構造が形成されると考えられる。そしてこのため、ポリマー（Ａ）単独の硬化物よりも、界面活性剤（Ｃ）の存在により、皮膜の水接触角が高まると考えられる。しかも、界面活性剤（Ｃ）は熱架橋性官能基によってポリマー（Ａ）または別の界面活性剤分子と架橋しており、皮膜から界面活性剤（Ｃ）がブリードアウトしにくいため、マイクロレンズを形成するための液滴が塗膜と接触した場
合でも安定した接触角を維持すると考えられる。
【０１３７】
これらのことが、本発明のコーティング組成物から得られた皮膜の上に、パターン直径および高さのばらつきの小さいマイクロレンズを形成することの一因となっていると本発明者らは考えている。
【０１３８】
また、本発明に使用できる、本発明のコーティング組成物が塗布される上記「基板」は、本発明のコーティング組成物が塗布される対象となり得るものであれば特に限定されず、その形状は平板状に限られず、曲面状であってもよい。
【０１３９】
前記基板の材質は特に限定されないが、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）などのポリエステル系樹脂、ポリエチレンおよびポリプロピレンなどのポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド、ポリカーボネートおよびポリイミドなどのプラスチックフィルム、セロハン、アセテート、金属箔、ポリイミドと金属箔との積層フィルム、目止め効果があるグラシン紙、パーチメント紙、ならびに、ポリエチレン、クレーバインダー、ポリビニルアルコール、でんぷんまたはカルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）などで目止め処理した紙およびガラスを挙げることができる。
【０１４０】
これらの基板を構成する物質には、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲において、さらに、顔料、染料、酸化防止剤、劣化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤及び／又は電磁波防止剤などの添加剤を含有させてもよい。また、基板の表面の一部には、基板と異なる材質のカバーレイやソルダーレジスト膜が形成されていてもよい。
【０１４１】
基板の厚さは特に限定されないが、通常、１０μｍ〜１０ｍｍ程度であり、使用する目的により適宜調整されるが、１５μｍ〜５ｍｍが好ましく、２０μｍ〜２ｍｍがさらに好ましい。
【０１４２】
基板の皮膜を形成する面には、必要により撥水処理、コロナ処理、プラズマ処理、又はブラスト処理などの易接着処理を施したり、表面に易接着層やカラーフィルター用保護膜を設けたりしてもよい。
【０１４３】
前記基板の用途は特に限定されないが、本発明のコーティング組成物から得られる皮膜上にインクジェット法でマイクロレンズを形成した場合、直径と高さのばらつきが小さくなるため、基板表面に本発明の表面撥水性皮膜を形成し、その皮膜の上に、例えばインクジェット法でドットパターンを形成することによって、マイクロレンズを形成する用途に用いられることが好ましい。このようにして、基板と、該基板上に形成された本発明の表面撥水性皮膜と、該皮膜の上に形成されたマイクロレンズとからなる光学部品を製造することができる。
【０１４４】
このようなマイクロレンズの下地などとして機能する本発明の皮膜の厚みは特に限定されないが、通常１ｎｍ〜５μｍである。
【０１４５】
上記のようにして本発明の表面撥水性皮膜を用いて製造された光学部品は、例えば液晶ディスプレイ用の導光板として使用することができる。
【０１４６】
さらに、プリント配線板およびフレキシブル配線板などの電子回路基板の製造工程においては、基板上に様々な金属配線やソルダーレジストなどが形成される。これらへの、電子回路基板の部材の形成材料の濡れ広がり方は異なるため、それを一定にするため、前記金属配線やソルダーレジストの上に薄い表面処理膜を形成することが広く行われている。
本発明の表面撥水性皮膜は、このような表面処理膜としても非常に有用である。
【実施例】
【０１４７】
以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【０１４８】
＜ポリマー（Ａ）の合成例１＞
攪拌器付４つ口フラスコにラジカル重合性モノマー（メタクリル酸およびｎ−ブチルメタクリレート）と重合開始剤を下記の重量で仕込み、２−ブタノンの還流温度で４時間加熱して重合を行った。
【０１４９】
２−ブタノン ２００．０ｇ
メタクリル酸 ２５．０ｇ
ｎ−ブチルメタクリレート ７５．０ｇ
２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル） ２．０ｇ。
【０１５０】
反応液を室温まで冷却し、大量のヘキサン中に投入した。生成した沈殿を１．３３×１０4Ｐａの減圧下６０℃で２０ｈｒ減圧乾燥した後ミキサーで粉砕し、さらに１．３３×
１０4Ｐａの減圧下６０℃で１０ｈｒ減圧乾燥して８２．３ｇの白色ポリマーを得た。
【０１５１】
このポリマー１ｇをγ−ブチロラクトン（沸点は２０２℃）１００ｇと混合攪拌したところ、１０分後に完全に溶解した。このポリマーの重量平均分子量をＧＰＣ分析（ポリスチレン標準、展開液テトラヒドロフラン）により測定したところ、重量平均分子量は６，８００であった。
【０１５２】
＜ポリマー（Ａ）の合成例２＞
攪拌器付４つ口フラスコにラジカル重合性モノマー（γ-メタクリロキシプロピルヘプ
タ（トリフルオロプロピル）-Ｔ8-シルセスキオキサンおよびメチルメタクリレート）と
重合開始剤を下記の重量で仕込み、２−ブタノンの還流温度で４時間加熱して重合を行った。
【０１５３】
２−ブタノン ２００．０ｇ
γ-メタクリロキシプロピルヘプタ（トリフルオロプロピル）-Ｔ8-シルセスキオキサン
２．０ｇ
メチルメタクリレート ９８．０ｇ
２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル） ２．０ｇ。
【０１５４】
反応液を合成例１と同様に処理し、７４．６ｇの白色ポリマーを得た。このポリマー１ｇをγ−ブチロラクトン１００ｇと混合攪拌したところ、１０分後に完全に溶解した。このポリマーの重量平均分子量をＧＰＣ分析（ポリスチレン標準、展開液テトラヒドロフラン）により測定したところ、重量平均分子量は１６，８００であった。
【０１５５】
＜マイクロレンズ形成用インクジェットインクの調製＞
エチレンオキシド変性（３モル）グリセリントリアクリレートであるＡ-ＧＬＹ-３Ｅ（新中村化学工業（株）製）と、単官能（メタ）アクリレートであるｎ−ブチルメタクリレート（東京化成工業（株）製）と、光重合開始剤である２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドであるＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ（商品名；チバ・ジャパン（株）製）と、重合禁止剤であるフェノチアジン（東京化成工業（株）製）とを下記組成割合にて混合・溶解した後、得られた溶液を１μｍのＰＴＦＥ製のメンブレンフィルターでろ過し、マイクロレンズ形成用インクジェットインクを調製した。
【０１５６】
Ａ-ＧＬＹ-３Ｅ ３５０．００ｇ
ｎ−ブチルメタクリレート ２００．００ｇ
ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ ５５．００ｇ
フェノチアジン ０．２８ｇ。
【０１５７】
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２、以下同じ）を用い、当該インクの２５℃における粘度を測定した結果、１２．３ｍＰａ・ｓであった。
【０１５８】
［実施例１〜４、比較例１〜２］
下記表１に記載の配合で各成分を均一混合することにより、実施例１〜４、比較例１〜２のコーティング組成物を調製した。表中の数字は配合した重量（グラム）である。得られたコーティング組成物の２５℃における粘度を測定した後、該組成物をインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製のＤＭＰ−２８１１）に装着し、１０ｐｌ用のヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）１６Ｖ、ヘッド温度２５℃、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、４ｃｍ角のガラス基板（厚さ：０．７ｍｍ）上に１５０μｍ間隔で１ドットずつ吐出した。
【０１５９】
液滴はガラス上で濡れ広がり、ベタ膜が形成された。このガラス基板を５０℃のホットプレート上で５分、さらに１５０℃のホットプレート上で５分乾燥し、表面撥水性皮膜が形成されたガラス基板を２枚ずつ得た。
【０１６０】
得られた基板の１枚を使って、該基板上に形成された皮膜表面の水接触角を、協和界面化学社製のＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ５００を用い、２５℃にて、純水を用いて測定した。
【０１６１】
次に、マイクロレンズ形成用インクジェットインクをインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製のＤＭＰ−２８１１）に装着し、１０ｐｌ用のヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）１６Ｖ、ヘッド温度２５℃、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、前記の水接触角の測定に使用したのとは別の、表面撥水性皮膜が形成されたガラス基板の前記皮膜上に１５０μｍ間隔で１ドットずつ吐出した。
【０１６２】
このドットパターンが等間隔で形成されたガラス基板に、ＵＶ照射装置（（株）ジャテック製のＪ−ＣＵＲＥ１５００）を用いて紫外線を２０００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ露光量で
照射することで、マイクロレンズが形成された評価基板を得た。
【０１６３】
この評価基板のほぼ中央の１０×１０個（合計１００個）のドットパターン（マイクロレンズ）について、その直径と高さをＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ Ｊａｐａｎ株式会社製触針式膜厚計Ｐ−１５を用いて測定し、最大値と最小値の差から、マイクロレンズの直径と高さのばらつきを評価した。
【０１６４】
【表１】
【０１６５】
表１で使用した使用した記号は、以下のものを表す。
【０１６６】
ＳＭＡ：川原油化（株）製ＳＭＡ（登録商標）１７３５２（２５℃において１００ｇのγ−ブチロラクトンに５０ｇ以上溶解、ＧＰＣで求めた重量平均分子量は５，３００）
ＥＤＭ：ジエチレングリコールメチルエチルエーテル
ＧＢＬ：γ−ブチロラクトン
ＲＳ−１１２Ｋ：エポキシを有する界面活性剤であるＤＩＣ（株）製ＲＳ−１１２Ｋ
ＶＧ：三井化学（株）製ＴＥＣＨＭＯＲＥ（商標）ＶＧ３１０１Ｌ
ＰＨＭ：フェノール樹脂である丸善石油化学（株）社製マルカリンカー（登録商標）ＰＨＭ−Ｃ
ＨＦＡ：昭和高分子（株）製ＨＦＡ−３００３。
【０１６７】
表１に示す結果から明らかなように、本発明にかかるコーティング組成物から得られる皮膜上に形成されたマイクロレンズは、直径と高さのばらつきが小さい。したがって、本発明のコーティング組成物は、高品位の液晶ディスプレイ用導光板の製造に好ましく使用することができる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
沸点が１２０〜３００℃の溶媒１００ｇに対して、２５℃において１ｇ以上溶解し、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００のポリマー（Ａ）、溶媒（Ｂ）および界面活性剤（Ｃ）を含有するコーティング組成物であって、
該組成物を基板上に塗布し、該基板上に形成された塗膜を１５０℃で５分乾燥して得られた皮膜表面の、２５℃で測定した水の接触角が９０°以上であるコーティング組成物。
【請求項２】
界面活性剤（Ｃ）が熱架橋性官能基を有している、請求項１に記載のコーティング組成物。
【請求項３】
界面活性剤（Ｃ）の熱架橋性官能基が、ヒドロキシ、カルボキシ、酸無水物基、アミノ、オキシラニル、オキセタニル、式（１）で表されるオキサゾリン基、式（２）で表されるオキサゾール基、アクリルおよびメタクリルからなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項２に記載のコーティング組成物：
【化１】
（式（１）および（２）において、*は結合手である。）。
【請求項４】
界面活性剤（Ｃ）の熱架橋性官能基が、オキシラニルおよび／またはオキセタニルである、請求項２または３に記載のコーティング組成物。
【請求項５】
ポリマー（Ａ）が、熱架橋性官能基を有している、請求項１〜４のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項６】
ポリマー（Ａ）の熱架橋性官能基が、ヒドロキシ、カルボキシ、酸無水物基、アミノ、オキシラニル、オキセタニル、式（１）で表されるオキサゾリン基、式（２）で表されるオキサゾール基、アクリルおよびメタクリルからなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項５に記載のコーティング組成物：
【化２】
（式（１）および（２）において、*は結合手である。）。
【請求項７】
ポリマー（Ａ）の熱架橋性官能基が、ヒドロキシ、カルボキシおよび酸無水物基からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項５または６に記載のコーティング組成物。
【請求項８】
ポリマー（Ａ）が、
カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（ａ１）と、モノマー（ａ１）および酸無水物基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２）以外のその他のラジカル重合性モノマー（ａ３）とのコポリマー（Ａ１）、
酸無水物基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２）と、モノマー（ａ１）およびモノマー（ａ２）以外のその他のラジカル重合性モノマー（ａ３）とのコポリマー（Ａ２）、または
モノマー（ａ２）とモノマー（ａ３）とのコポリマーの、モノマー（ａ２）由来の酸無水物基を、アルコール性水酸基を有する化合物（ａ４）で開環して得られるコポリマー（Ａ３）である、請求項５〜７のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項９】
カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（ａ１）が、アクリル酸および／またはメタクリル酸である、請求項８に記載のコーティング組成物。
【請求項１０】
その他のラジカル重合性モノマー（ａ３）が、式（３）で表されるアクリレートまたはメタクリレートである、請求項８または９に記載のコーティング組成物：
【化３】
（式（３）において、Ｒ1は水素またはメチルであり、Ｒ2は炭素数１〜２０のアルキルである。）。
【請求項１１】
その他のラジカル重合性モノマー（ａ３）がｎ−ブチル（メタ）アクリレートである、請求項８〜１０のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項１２】
アルコール性水酸基を有する化合物（ａ４）が、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、シクロヘキサノールおよびベンジルアルコールからなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項８〜１１のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項１３】
酸無水物基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２）が、マレイン酸無水物である、請求項８〜１２のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項１４】
溶媒（Ｂ）が、溶媒（Ｂ）の全体１００重量％に対して、沸点が１２０〜３００℃の溶媒を５０重量％以上含有している、請求項１〜１３のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項１５】
溶媒（Ｂ）が、溶媒（Ｂ）の全体１００重量％に対して、２５℃における表面張力が２２〜４８ｍＮ／ｍの溶媒を５０重量％以上含有している、請求項１〜１４のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項１６】
さらに、エポキシ樹脂（Ｄ）を含有している、請求項１〜１５のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項１７】
さらに、ポリマー（Ａ）、界面活性剤（Ｃ）およびエポキシ樹脂（Ｄ）以外の熱硬化性化合物（Ｅ）を含有している、請求項１〜１６のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項１８】
さらに、難燃剤（Ｆ）を含有している、請求項１〜１７のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項１９】
２５℃における粘度が２〜３０ｍＰａ・ｓである、請求項１〜１８のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項２０】
請求項１〜１９のいずれか１項に記載のコーティング組成物を基板上に塗布し、基板上に形成された塗膜を乾燥して得られる表面撥水性皮膜。
【請求項２１】
請求項１９に記載のコーティング組成物をインクジェット法で基板上に塗布する工程１と、工程１で基板上に形成された塗膜を乾燥する工程２とを有する、表面撥水性皮膜の形成方法。
【請求項２２】
基板と、該基板上に形成された請求項２０に記載の表面撥水性皮膜と、該皮膜の上に形成されたマイクロレンズとからなる光学部品。
【請求項２３】
請求項２０に記載の表面撥水性皮膜の上に、インクジェット法でドットパターンを形成する工程を有する、マイクロレンズの形成方法。
【請求項２４】
請求項２２に記載の光学部品を搭載した液晶ディスプレイ。
【請求項１】
沸点が１２０〜３００℃の溶媒１００ｇに対して、２５℃において１ｇ以上溶解し、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００のポリマー（Ａ）、溶媒（Ｂ）および界面活性剤（Ｃ）を含有するコーティング組成物であって、
該組成物を基板上に塗布し、該基板上に形成された塗膜を１５０℃で５分乾燥して得られた皮膜表面の、２５℃で測定した水の接触角が９０°以上であるコーティング組成物。
【請求項２】
界面活性剤（Ｃ）が熱架橋性官能基を有している、請求項１に記載のコーティング組成物。
【請求項３】
界面活性剤（Ｃ）の熱架橋性官能基が、ヒドロキシ、カルボキシ、酸無水物基、アミノ、オキシラニル、オキセタニル、式（１）で表されるオキサゾリン基、式（２）で表されるオキサゾール基、アクリルおよびメタクリルからなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項２に記載のコーティング組成物：
【化１】
（式（１）および（２）において、*は結合手である。）。
【請求項４】
界面活性剤（Ｃ）の熱架橋性官能基が、オキシラニルおよび／またはオキセタニルである、請求項２または３に記載のコーティング組成物。
【請求項５】
ポリマー（Ａ）が、熱架橋性官能基を有している、請求項１〜４のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項６】
ポリマー（Ａ）の熱架橋性官能基が、ヒドロキシ、カルボキシ、酸無水物基、アミノ、オキシラニル、オキセタニル、式（１）で表されるオキサゾリン基、式（２）で表されるオキサゾール基、アクリルおよびメタクリルからなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項５に記載のコーティング組成物：
【化２】
（式（１）および（２）において、*は結合手である。）。
【請求項７】
ポリマー（Ａ）の熱架橋性官能基が、ヒドロキシ、カルボキシおよび酸無水物基からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項５または６に記載のコーティング組成物。
【請求項８】
ポリマー（Ａ）が、
カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（ａ１）と、モノマー（ａ１）および酸無水物基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２）以外のその他のラジカル重合性モノマー（ａ３）とのコポリマー（Ａ１）、
酸無水物基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２）と、モノマー（ａ１）およびモノマー（ａ２）以外のその他のラジカル重合性モノマー（ａ３）とのコポリマー（Ａ２）、または
モノマー（ａ２）とモノマー（ａ３）とのコポリマーの、モノマー（ａ２）由来の酸無水物基を、アルコール性水酸基を有する化合物（ａ４）で開環して得られるコポリマー（Ａ３）である、請求項５〜７のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項９】
カルボキシを有するラジカル重合性モノマー（ａ１）が、アクリル酸および／またはメタクリル酸である、請求項８に記載のコーティング組成物。
【請求項１０】
その他のラジカル重合性モノマー（ａ３）が、式（３）で表されるアクリレートまたはメタクリレートである、請求項８または９に記載のコーティング組成物：
【化３】
（式（３）において、Ｒ1は水素またはメチルであり、Ｒ2は炭素数１〜２０のアルキルである。）。
【請求項１１】
その他のラジカル重合性モノマー（ａ３）がｎ−ブチル（メタ）アクリレートである、請求項８〜１０のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項１２】
アルコール性水酸基を有する化合物（ａ４）が、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、シクロヘキサノールおよびベンジルアルコールからなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項８〜１１のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項１３】
酸無水物基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２）が、マレイン酸無水物である、請求項８〜１２のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項１４】
溶媒（Ｂ）が、溶媒（Ｂ）の全体１００重量％に対して、沸点が１２０〜３００℃の溶媒を５０重量％以上含有している、請求項１〜１３のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項１５】
溶媒（Ｂ）が、溶媒（Ｂ）の全体１００重量％に対して、２５℃における表面張力が２２〜４８ｍＮ／ｍの溶媒を５０重量％以上含有している、請求項１〜１４のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項１６】
さらに、エポキシ樹脂（Ｄ）を含有している、請求項１〜１５のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項１７】
さらに、ポリマー（Ａ）、界面活性剤（Ｃ）およびエポキシ樹脂（Ｄ）以外の熱硬化性化合物（Ｅ）を含有している、請求項１〜１６のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項１８】
さらに、難燃剤（Ｆ）を含有している、請求項１〜１７のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項１９】
２５℃における粘度が２〜３０ｍＰａ・ｓである、請求項１〜１８のいずれか１項に記載のコーティング組成物。
【請求項２０】
請求項１〜１９のいずれか１項に記載のコーティング組成物を基板上に塗布し、基板上に形成された塗膜を乾燥して得られる表面撥水性皮膜。
【請求項２１】
請求項１９に記載のコーティング組成物をインクジェット法で基板上に塗布する工程１と、工程１で基板上に形成された塗膜を乾燥する工程２とを有する、表面撥水性皮膜の形成方法。
【請求項２２】
基板と、該基板上に形成された請求項２０に記載の表面撥水性皮膜と、該皮膜の上に形成されたマイクロレンズとからなる光学部品。
【請求項２３】
請求項２０に記載の表面撥水性皮膜の上に、インクジェット法でドットパターンを形成する工程を有する、マイクロレンズの形成方法。
【請求項２４】
請求項２２に記載の光学部品を搭載した液晶ディスプレイ。
【公開番号】特開２０１１−２３１１７５（Ｐ２０１１−２３１１７５Ａ）
【公開日】平成２３年１１月１７日（２０１１．１１．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１００８８４（Ｐ２０１０−１００８８４）
【出願日】平成２２年４月２６日（２０１０．４．２６）
【出願人】（３１１００２０６７）ＪＮＣ株式会社 (208)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１１月１７日（２０１１．１１．１７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年４月２６日（２０１０．４．２６）
【出願人】（３１１００２０６７）ＪＮＣ株式会社 (208)
【Ｆターム（参考）】
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