説明

セラミックヒータ素子の製造方法およびグロープラグの製造方法

【課題】窒化珪素を主成分とする絶縁基体中に窒化珪素および炭化タングステンを主成分とする発熱抵抗体が埋設されたセラミックヒータ素子をホットプレス法により焼成して製造するセラミックヒータ素子の製造方法において、還元雰囲気の影響を低減するためのダミーとなる素子成形体を不要とし、セラミックヒータ素子の生産性を向上させること。
【解決手段】主として窒化珪素粉末からなる基体成形部21aと、前記基体成形部に埋設され、主として窒化珪素粉末と炭化タングステン粉末とからなる抵抗体成形部22aとを有する素子成形体18aをホットプレス法により焼成してセラミックヒータ素子18とするセラミックヒータ素子の製造方法であって、前記焼成は、窒素雰囲気中、プレス圧力を20〜40MPa、雰囲気圧力を0.2〜1.0MPaとする雰囲気加圧工程を有する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、セラミックヒータ素子の製造方法およびグロープラグの製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、ディーゼル機関の始動促進用のグロープラグ、バーナーの着火用ヒータ、あるいはガスセンサの加熱用ヒータ等にセラミックヒータ素子が使用されている。セラミックヒータ素子は、例えば窒化珪素からなる棒状の絶縁基体中に、窒化珪素および炭化タングステンからなる発熱抵抗体が埋設されたものである。このようなセラミックヒータ素子は、一般にホットプレス法により焼成されて製造されている。
【0003】
ホットプレス法による焼成には、例えば誘導加熱方式の焼成炉が用いられる。誘導加熱方式の焼成炉は、主として焼成室を形成する筒状のモールド、このモールド内に挿入されて加圧に用いられる一対のプレス棒、およびモールドの外側に配置されて加熱に利用されるコイル等を有している。このような焼成炉では、コイルからの高周波により主としてモールドの外側付近が加熱され、この熱が内側に伝わることで加熱が行われる。モールド、プレス棒等の焼成室を構成する部材は、高周波による加熱のために、また高温での強度を確保するために、黒鉛からなるものとされている。
【0004】
このような焼成炉を用いたセラミックヒータ素子の製造では、まず焼成によりセラミックヒータ素子となる素子成形体をホットプレス用成形型で挟持して積層体とする。通常、積層体は複数のホットプレス用成形型が積層されてなり、各ホットプレス用成形型間に素子成形体が挟持される。また、ホットプレス用成形型は、略全面に凹部が列状に形成された波板状を有し、この凹部全体に素子成形体が敷き詰められるように配置される。
【0005】
このような積層体は焼成室内に配置後、焼成炉に設けられたコイルにより加熱されるとともに、一対のプレス棒により加圧される。このような加熱および加圧により素子成形体が焼成されてセラミックヒータ素子とされる(例えば、特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特開2003−22889号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
上記焼成炉においては、焼成室を構成するモールド等が黒鉛からなるために、その内部の雰囲気は強い還元雰囲気になりやすい。また、特にホットプレス用成形型の外周部付近に配置された素子成形体が、このような強い還元雰囲気に晒されやすい。素子成形体が窒化珪素粉末および炭化タングステン粉末からなる場合、焼成時の高温下で強い還元雰囲気に晒されることで、窒化珪素と炭化タングステンとが反応して脆弱な二珪化タングステンが生成され、結果としてセラミックヒータ素子の強度や通電耐久性が低下する。
【0008】
このような理由から、従来、ホットプレス用成形型の外周部付近には窒化珪素のみからなるいわゆるダミーの素子成形体を配置し、中心部に配置した正規の素子成形体を保護するようにしている。しかしながら、ダミーの素子成形体を用いた場合、ホットプレス用成形型に配置できる正規の素子成形体の個数が少なくなり、結果として焼成により得られる正規のセラミックヒータ素子の個数が少なくなる。また、正規の素子成形体とは別にダミーの素子成形体を製造する必要があり、また焼成により得られるダミーのセラミックヒータ素子は廃棄する必要があるために、全体として製造工程数が多くなり、また原材料の有効利用の観点からも必ずしも好ましくない。
【0009】
本発明は、上記した課題を解決するためになされたものであって、ダミーの素子成形体を不要とし、セラミックヒータ素子の生産性を向上させることができる製造方法を提供することを目的としている。また、本発明は、このような製造方法により製造されるセラミックヒータ素子を用いることにより、グロープラグの生産性を向上させることができる製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【0010】
本発明のセラミックヒータ素子の製造方法は、主として窒化珪素粉末からなる基体成形部と、この基体成形部に埋設され、主として窒化珪素粉末と炭化タングステン粉末とからなる抵抗体成形部とを有する素子成形体をホットプレス法により焼成してセラミックヒータ素子とするセラミックヒータ素子の製造方法に関する。本発明のセラミックヒータ素子の製造方法は、上記焼成が、窒素雰囲気中、プレス圧力を20〜40MPa、雰囲気圧力を0.2〜1.0MPaとする雰囲気加圧工程を有することを特徴とする。
【0011】
本発明のグロープラグの製造方法は、上記したセラミックヒータ素子の製造方法によって製造されるセラミックヒータ素子を用いたグロープラグの製造方法に関する。本発明のグロープラグの製造方法は、上記したセラミックヒータ素子の製造方法によりグロープラグに用いられるセラミックヒータ素子を製造する工程と、該セラミックヒータ素子をセラミックヒータの構成部材である金属外筒に挿入するとともに、該金属外筒をグロープラグの構成部材である筒状の主体金具の筒孔先端に挿入してグロープラグとする工程とを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【0012】
本発明のセラミックヒータ素子の製造方法によれば、焼成時に所定のプレス圧力および雰囲気圧力とする雰囲気加圧工程を行うことで、窒化珪素粉末および炭化タングステン粉末からなる素子成形体における二珪化タングステンの生成を抑制することができる。これにより、ダミーの素子成形体を不要とし、セラミックヒータ素子の生産性を向上させることができる。また、このようなセラミックヒータ素子の製造方法によりグロープラグのセラミックヒータ素子を製造することで、グロープラグの生産性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【0013】
【図1】本発明に係るセラミックヒータ素子を有するグロープラグの一例を示す縦断面図。
【図2】素子成形体の製造方法の一例を示す図。
【図3】素子成形体の一体化方法の一例を示す図。
【図4】素子成形体の焼成方法の一例を示す図。
【図5】図4に示すホットプレス用焼成炉の平面図。
【図6】実施例における温度と開気孔率との関係を示す図。
【発明を実施するための形態】
【0014】
以下、本発明の実施形態について説明する。
本発明のセラミックヒータ素子(以下、単にヒータ素子という)の製造方法は、主として窒化珪素粉末からなる基体成形部と、この基体成形部に埋設され、主として窒化珪素粉末と炭化タングステン粉末とからなる抵抗体成形部とを有する素子成形体をホットプレス法により焼成してヒータ素子とするヒータ素子の製造方法に関する。本発明のヒータ素子の製造方法は、上記焼成が、窒素雰囲気中、プレス圧力を20〜40MPa、雰囲気圧力を0.2〜1.0MPaとする雰囲気加圧工程を有することを特徴とする。
【0015】
下記反応式(1)は、窒化珪素と炭化タングステンとから二珪化タングステンが生成する反応を示したものである。また、下記反応式(2)、(3)は、反応式(1)の反応をより具体的に示したものである。窒化珪素と炭化タングステンとから二珪化タングステンが生成する反応は、まず反応式(2)に示されるように窒化珪素が珪素と窒素とに熱分解し、この珪素が反応式(3)に示されるように炭化タングステンと反応することにより進行する。
Si + WC → WSi + SiC + 2N↑ ……(1)
Si → 3Si + 2N↑ ……(2)
3Si + WC → WSi + SiC ……(3)
【0016】
窒化珪素と炭化タングステンとから二珪化タングステンが生成する反応、特に窒化珪素が珪素と窒素とに熱分解する反応は、焼成炉内のような高温、かつ強い還元雰囲気下で進行しやすい。上記雰囲気加圧工程によれば、高温、かつ強い還元雰囲気下であっても、プレス加圧と同時に従来よりも高い圧力で雰囲気加圧を行うことで、雰囲気中の窒素濃度を高め、反応式(2)に示される窒化珪素の熱分解を抑制することができる。
【0017】
結果として、その後に続く反応式(3)に示される珪素と炭化タングステンとの反応を抑制し、二珪化タングステンの生成を抑制することができる。これにより、従来、還元雰囲気に晒されやすいためにダミーの素子成形体を配置していたホットプレス用成形型の外周部付近にも正規の素子成形体を配置することができ、ヒータ素子の生産性を向上させることができる。
【0018】
雰囲気加圧工程における窒素雰囲気の雰囲気圧力(窒素分圧)が0.2MPa(2気圧)未満の場合、雰囲気圧力が十分に高くないために、すなわち雰囲気中の窒素濃度が十分に高くないために、反応式(2)に示される窒化珪素の熱分解を抑制することができない。一方、雰囲気圧力は1.0MPa(10気圧)もあれば十分に反応式(2)に示される窒化珪素の熱分解を抑制することができ、これを超えても窒化珪素の熱分解を抑制する効果は向上せず、かえって製造コストが上昇し、また焼成炉等の機器への負担が大きくなるために好ましくない。
【0019】
また、雰囲気加圧工程におけるプレス圧力が20MPa未満の場合、プレス圧力が十分に高くないために、反応式(2)に示される窒化珪素の熱分解反応を抑制することができない。一方、プレス圧力は40MPaもあれば十分に反応式(2)に示される窒化珪素の熱分解を抑制することができ、これを超えると焼成室を構成する部材やホットプレス用成形型が破損しやすくなる。
【0020】
雰囲気加圧工程、特に雰囲気加圧は、昇温途中の温度が1600〜1700℃のときに開始することが好ましい。温度が1600℃以上となると、素子成形体の表面が十分に焼成され、開気孔が消滅した状態となる。このような状態のものに対して雰囲気加圧工程、特に雰囲気加圧を行うことで、高圧雰囲気が素子成形体の内部に侵入することを抑制でき、この高圧雰囲気からなる残留気孔によって強度が低下することを抑制することができる。一方、温度が1700℃を超えると、反応式(2)に示される窒化珪素の熱分解が進行し、結果として二珪化タングステンの生成を抑制することが難しくなる。雰囲気加圧工程、特に雰囲気加圧の開始温度を1700℃以下とすることで、窒化珪素の熱分解を効果的に抑制し、結果として二珪化タングステンの生成を抑制することができる。
【0021】
本発明における焼成は、通常、まず窒素雰囲気中、雰囲気圧力を0.1MPa(1気圧)程度として昇温する。そして、昇温中、1600〜1700℃で雰囲気加圧工程、特に雰囲気圧力が0.2MPa以上となるように雰囲気加圧を行う。さらに、このような雰囲気加圧工程を行いつつ所望の焼成温度、例えば1700〜1850℃まで昇温して焼成を行う。なお、雰囲気加圧工程は、所望の焼成温度に達するまで、さらには所望の焼成温度での維持が終了するまで行うことが好ましい。
【0022】
雰囲気加圧工程におけるプレス加圧は、必ずしも雰囲気加圧と同時に開始する必要はなく、例えば雰囲気加圧工程前にプレス加圧を開始し、このプレス加圧をそのまま雰囲気加圧工程で維持してもよい。通常、プレス加圧は、素子成形体の収縮開始温度(液相生成開始温度)までに昇圧を完了させることが好ましく、焼結助剤の成分によっても異なるが、例えば1450℃までに昇圧を完了させることが好ましく、これをその後の昇温および雰囲気加圧工程において維持することが好ましい。
【0023】
このような製造方法によって製造されるヒータ素子としては、基体成形部が焼成されてなる絶縁基体が窒化珪素を主成分とし、抵抗体成形部が焼成されてなる発熱抵抗体が窒化珪素と炭化タングステンとを主成分とするものであれば特に制限されるものではない。
【0024】
絶縁基体は、窒化珪素以外にも、焼結助剤、発熱抵抗体を構成する導電性セラミック等を含有することができる。例えば、周期律表の3A、4A、5A、3B(例えばAl)、および4B(例えばSi)の各族の元素群、ならびにMgから選ばれる少なくとも1種を酸化物換算で1〜10質量%含有することができる。これら成分は主に酸化物あるいはシリケートなどの複合酸化物の形態にて含有される。これらの成分の含有量が1質量%未満では緻密な焼結体が得にくくなり、10質量%を超えると強度や靭性あるいは耐熱性が不足する。
【0025】
また、希土類元素を使用する場合、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luを用いることができる。これらのうちでもTb、Dy、Ho、Er、Tm、Ybは、粒界相の結晶化を促進し、高温強度を向上させる効果があるので好適に使用できる。これらの希土類元素は酸化物換算で1〜15質量%含有させることができる。
【0026】
導電性セラミックは、例えば絶縁性基体の全体を100質量%とした場合に5質量%以下含有することができる。このような含有量とすることで、発熱抵抗体との熱膨張係差を軽減することができる。なお、窒化珪素の含有量は、絶縁性基体の全体を100質量%とした場合に80質量%以上が好ましい。
【0027】
発熱抵抗体は、窒化珪素と炭化タングステン以外にも、絶縁基体と同様な焼結助剤等を含有することができる。焼結助剤等の含有量は、例えば発熱抵抗体の全体を100質量%とした場合に10質量%以下が好ましい。また、窒化珪素と炭化タングステンとは、これらの合計量を100質量%とした場合に炭化タングステンが45〜65質量%が好ましく、50〜60質量%がより好ましい。
【0028】
このようなヒータ素子としては、特に急速昇温タイプのヒータ素子が好ましい。急速昇温タイプのヒータ素子は、発熱抵抗体における発熱部がリード部に比べて細径であり、リード部が位置する部分の絶縁基体に比べて発熱部が位置する部分の絶縁基体が厚くなっている。通常、発熱抵抗体に比べて絶縁基体の焼成時の収縮率は大きいことから、このようなものをホットプレス法により製造した場合、リード部が位置する部分の絶縁基体に比べて発熱部が位置する部分の絶縁基体の収縮が大きくなり、結果としてホットプレス用成形型との間に隙間が形成されたような状態となる。このため、特に発熱部が位置する部分に対するプレス圧力が十分でなくなり、二珪化タングステンが生成しやすく、また絶縁基体と発熱抵抗体との界面部、特に発熱部との界面部に窒素雰囲気が封入されやすい。
【0029】
雰囲気加圧工程を有する製造方法によれば、このような急速昇温タイプのヒータ素子においても、二珪化タングステンの生成等を抑制し、強度や通電耐久性を十分なものとすることができる。急速昇温タイプのヒータ素子としては、通電時の耐クラック性を確保するために発熱抵抗体の最小径となる部分の断面積を0.25mm以上とし、かつ急速昇温性能を確保するために最大径となる部分の断面積を最小径となる部分の断面積の2倍以上としたものが挙げられる。通常、最小径は発熱部のいずれかの部分に存在し、最大径はリード部のいずれかの部分に存在する。最小径となる部分の断面積は0.28〜1.2mmが好ましく、最大径となる部分の断面積は最小径となる部分の断面積の2.4〜8.1倍が好ましい。
【0030】
以下、グロープラグに用いられるヒータ素子を例に挙げて具体的に説明する。まず、グロープラグ等の構造について説明する。
【0031】
グロープラグ10は、セラミックヒータ11と、このセラミックヒータ11の後端部を内部に保持する筒状の主体金具12とを備える。主体金具12の外周面には、図示しないエンジンブロックにグロープラグ10を固定するための、取付部としてのねじ部121が形成され、後端部にはエンジンブロックへの固定の際に締め付けに用いる工具が係合する、断面六角形の工具係合部122が形成されている。
【0032】
主体金具12の内部には、後端側からセラミックヒータ11に電力を供給するための柱状の金属軸13が、自身の後端部を主体金具12から突出させた状態で主体金具12と絶縁状態で配置されている。主体金具の後端部において、この金属軸13の周囲には絶縁性素材であるフッ素ゴム等からなるOリング14とナイロン等の樹脂製の絶縁ブッシュ15が配置されている。絶縁ブッシュ15は、自身の後端側に径方向外側へ鍔状に張り出したフランジ部151と、その先端側に当該フランジ部151よりも細く筒状をなす小径部152とを有している。この絶縁ブッシュ15は、前記フランジ部151の先端向き面が主体金具12の後端へ当接するよう、小径部152が主体金具12の筒孔の後端部へ隙間嵌めされる形で前記金属軸13の周囲に配置される。この小径部152の先端面に押圧されるとともに主体金具12の筒孔及び金属軸13に当接するようにOリング14は配設され、グロープラグ10の後端部における、内部と外部との気密が保たれている。
【0033】
主体金具12の後方に延出した金属軸13の後端部には、端子金具17が嵌め込まれている。端子金具17は、径方向の加締め部17aにより、金属軸13の外周面に導通状態で固定されている。
【0034】
セラミックヒータ11は、ヒータ素子18と、このヒータ素子18を先端部が突出するように内部に保持する金属外筒19とを有する。金属外筒19は全体として筒状をなし、先端側に比較的薄肉に形成された小径部191、その小径部の後端側に拡径するテーパ部192を介して比較的肉厚に形成された大径部193、さらに大径部の後端側に、主体金具12の筒孔と略同一の外径を有し大径部193よりも小径の係合部194を備えている。この係合部194を主体金具12の筒孔先端へ挿入し、大径部193の後端向き面と主体金具12の先端面とを当接させ、その当接部を全周レーザー溶接する形で金属外筒19と主体金具12とを固定している。
【0035】
ヒータ素子18は、窒化珪素を主成分とする絶縁基体21中に窒化珪素および炭化タングステンを主成分とする発熱抵抗体22が埋設された棒状の形態を有する。発熱抵抗体22は、ヒータ素子18の先端側に配置されるU字状を有する発熱部23と、この両端部に接続され、ヒータ素子18の軸線方向に沿って延伸された一対の直線状のリード部24とを有する。このリード部24の一方には径方向へ分岐しヒータ素子18の側面へ露出する接地用通電端子部25が形成され、ヒータ素子18を圧入保持する金属外筒19を介して主体金具12に電気的に接続されている。リード部24の他方には前記接地用通電端子部25よりも後方に、当該接地用通電端子部25に類似した形で、直線状部分から分岐しヒータ素子18の側面へ露出する電源側通電端子部26が形成される。金属軸13の先端に接合され円筒状をなすリング部材16が、ヒータ素子18の後端部に外嵌めされ、これにより電源側通電端子部26は金属軸13に電気的に接続されている。これにより、発熱抵抗体22のU字状に折り返された発熱部23が抵抗発熱する。
【0036】
このようなヒータ素子18は、以下のようにして製造することができる。
まず、図2に示すように、成形材料を射出成形して発熱抵抗体22となる抵抗体成形部22aを作製する。抵抗体成形部22aは、発熱部23となる発熱体成形部23aと、リード部24となるリード成形部24aとを有するものである。成形材料は、窒化珪素粉末および炭化タングステン粉末に焼結助剤粉末等を配合した抵抗体用原料粉末と、有機バインダとを混練したコンパウンドを加熱により溶融流動化させたものである。
【0037】
別途、絶縁基体用原料粉末をプレス成形することにより、上下別体に形成された一対の基体成形部21aを作製する。基体成形部21aの合わせ面には、それぞれ抵抗体成形部22aに対応した形状の凹部27が形成されている。
【0038】
次いで、凹部27に抵抗体成形部22aを収容するようにして、基体成形部21aを合わせ面において嵌め合わせる。そして、図3に示すように、金型31に収容し、一対のパンチ32によりプレス成形することにより一体化して素子成形体18aとする。この素子成形体18aに対して、バインダ成分を除去するために600〜800℃程度で仮焼を行う。この仮焼が行われた素子成形体18aに対して、雰囲気加圧工程を有するホットプレス法による焼成を行ってヒータ素子18とする。
【0039】
図4は、素子成形体18aの焼成方法の一例を示す断面図である。
焼成は、例えば誘導加熱方式のホットプレス用焼成炉(以下、単に焼成炉という)40を用いて行われる。焼成炉40は、円筒状等の筒状のモールド41、このモールド41に挿入され、素子成形体18aにプレス圧力を加えるプレス棒42、およびモールド41の側面部に配置され、該モールド41に高周波を印加して加熱を行うためのコイル43等を有する。
【0040】
モールド41内には、焼成室45を規定する仕切板46が配置される。仕切板46は、加圧軸方向に延びる板状のものであり、例えば図5に示すように平面視で4枚が四角形状に配置されて筒状を形成している。各仕切板46の外側には、仕切板46とモールド41との隙間を埋めるための隙間調整板47が配置される。隙間調整板47は、外側表面がモールド41の形状に合わせた円弧状とされ、内側表面が仕切板46に合わせた平面状とされている。焼成室45を構成する部材、すなわちモールド41、プレス棒42、仕切板46、隙間調整板47は、一般に同一材料からなり、黒鉛からなるものである。
【0041】
素子成形体18aは、ホットプレス用成形型48に挟持されるようにして焼成室45内に配置される。最下段(1段目)のホットプレス用成形型48は、下面が平坦状であり、上面に複数の素子成形体18aが配置される凹部が列状に形成されたものである。この最下段のホットプレス用成形型48には、例えば図示しないカーボン製シートが配置された後、素子成形体18aが配置される。カーボン製シートは、ホットプレス用成形型48の凹部と素子成形体18aとの隙間を埋め、適切なプレス圧力を素子成形体18aに加えるために用いられる。
【0042】
最下段の素子成形体18a上には、カーボン製シートを介して2段目のホットプレス用成形型48が配置される。2段目以降のホットプレス用成形型48には、下面と上面の両面に複数の素子成形体18aが配置される凹部が列状に形成されている。このようにしてホットプレス用成形型48と素子成形体18aとが交互に積層され、最上段には下面のみに複数の素子成形体18aが配置される凹部が列状に形成されたホットプレス用成形型48が積層される。通常、ホットプレス用成形型48は黒鉛からなるものとされている。
【0043】
このようにしてホットプレス用成形型48と素子成形体18aとが交互に積層された積層体は黒鉛製板材49に挟持するようにして焼成炉40の焼成室45に配置される。そして、コイル43から高周波を印加してモールド41を加熱するとともに、一対のプレス棒42により加圧して焼成を行う。
【0044】
焼成は、まず窒素雰囲気中、雰囲気圧力を0.1MPa(1気圧)程度として昇温を行う。昇温中、例えば素子成形体18aの収縮開始温度(液相生成開始温度)、例えば1450℃までにプレス圧力を20〜40MPaとするプレス加圧を開始し、この状態を維持する。また、昇温中、1600〜1700℃で、雰囲気加圧工程、特に雰囲気圧力を0.2〜1.0MPaとする雰囲気加圧を開始し、この状態を維持する。その後、昇温を続けて所望の焼成温度、例えば1700〜1850℃に達した時点で1〜2時間程度保持した後、冷却する。なお、冷却時については、必ずしも雰囲気加圧工程を行う必要はない。ホットプレス用成形型48から取り出されたものは、センタレス研磨による外周面の研磨、両端側の端面研磨、さらに先端側の反球面研磨等が行われてヒータ素子18とされる。
【0045】
このような雰囲気加圧工程を有する製造方法によれば、二珪化タングステンの生成を抑制することができるために、従来、還元雰囲気に晒されやすいためにダミーの素子成形体を配置していたホットプレス用成形型48の外周部付近にも正規の素子成形体18aを配置することができ、ヒータ素子18の生産性を向上させることができる。
【実施例】
【0046】
以下、実施例を参照して本発明の製造方法についてより具体的に説明する。
【0047】
(実施例1)
平均粒径1.0μmの窒化珪素粉末85質量%、焼結助剤としてのYb粉末10質量%およびSiO粉末5質量%を配合して絶縁成分粉末とした。この絶縁成分用粉末45重量%、WC粉末55重量%をボールミルで24時間湿式混合し、乾燥して混合粉末を得た。この混合粉末に所定量のバインダを添加し、混錬機により4時間混錬した。この混錬物をペレット状とし、射出成形機に投入して抵抗体成形部22aとした。なお、抵抗体成形部22aは、発熱抵抗体22としたときの最小径となる部分の断面積が1.0mm、最大径となる部分の断面積が2.8mm(最小径部分に対する最大径部分の断面積比が2.8)となるもの(急速昇温タイプ用)とした。
【0048】
一方、平均粒径0.6μmの窒化珪素粉末83質量%、焼結助剤としてのYb粉末10質量%およびSiO粉末5質量%、MoSi粉末2質量%を配合し、バインダを添加して20時間湿式混合し、スプレードライにより造粒した。この造粒粉末をプレス成形して凹部27を有する一対の基体成形部21aを作製した。
【0049】
凹部27に抵抗体成形部22aを収容するように基体成形部21aを嵌め合わせた後、金型31に収容して一対のパンチ32によりプレス成形して一体化して素子成形体18aとした。さらに、素子成形体18aに対して、バインダ成分を除去するために、窒素雰囲気中、600℃で仮焼を行った。
【0050】
そして、図4に示すように複数の素子成形体18aをホットプレス用成形型48で挟持するようにして焼成炉40に配置し、窒素雰囲気中、雰囲気圧力を0.1MPa(1気圧)として昇温を開始し、1720℃または1800℃で焼成を行った。この際、構成材料の収縮開始温度(液相生成開始温度)以下である1450℃までにプレス加圧を開始するとともに、この状態を維持した。なお、プレス圧力は15〜40MPaとした。また、雰囲気加圧工程として、1650℃で窒素雰囲気の雰囲気圧力を0.1〜1.0MPaとする雰囲気加圧を開始し、この状態を維持した。なお、雰囲気加圧工程におけるプレス加圧は、上記プレス加圧をそのまま利用した。
【0051】
このようにして製造された複数のヒータ素子18のうちホットプレス用成形型48の外周部付近から得られたものについて、二珪化タングステン(WSi)の生成の有無、抗折強度、通電耐久性の評価を行った。表1、2に、それぞれ焼成温度が1720℃、1800℃のときの結果を示す。
【0052】
なお、二珪化タングステンの生成の有無はICP発光法により評価した。また、抗折強度は、JIS R 1601に準じて3点曲げ強度を測定した。この際のスパンは12mmとし、クロスヘッド速度は0.5mm/分とした。
【0053】
さらに、通電耐久性は、以下のように評価した。まず、通電1秒後に1000℃となる電圧を印加し、その後1400℃になるまでその電圧を維持し、1400℃に到達したら通電をオフし、エアにて30秒間強制冷却する。このサイクルを繰り返して行い、発熱抵抗体の抵抗値が初期の抵抗値に対して10%以上変化するまでのサイクル数を測定した。なお、抵抗値の測定は、最大で10000サイクルまで行った。
【0054】
【表1】

【0055】
【表2】

【0056】
表1、2に示されるように、プレス圧力を20MPa以上とし、かつ雰囲気圧力を0.2〜1.0MPaとしたものは、二珪化タングステン(WSi)の生成が抑制され、少なくとも10000サイクル以上の通電耐久性、800MPa以上の抗折強度を得られることが認められた。
【0057】
(実施例2)
雰囲気加圧工程(雰囲気加圧)の開始温度を1470〜1710℃に変更した以外は基本的に実施例1と同様にしてヒータ素子18を製造した。なお、焼成温度は1720℃、雰囲気加圧工程における雰囲気圧力は0.5MPa、プレス圧力は30MPaとした。また、このようにして得られたヒータ素子18について、二珪化タングステン(WSi)の生成の有無、界面部気孔(絶縁基体と発熱抵抗体との界面部における気孔)の有無、通電耐久性、抗折強度の評価を行った。なお、界面部気孔の有無は、走査型電子顕微鏡(SEM)にて倍率3000倍の視野にて観察により評価した。結果を表3に示す。
【0058】
【表3】

【0059】
次に、抵抗体成形部22aの最小径部分に対する最大径部分の断面積比を変更して実施例1と同様にしてヒータ素子18を製造した。なお、抵抗体成形部22aは、焼成により発熱抵抗体22としたときの最小径となる部分の断面積が1.0mmで一定になるようにし、最小径部分に対する最大径部分の断面積比が1〜6となるようにした。また、焼成温度は1800℃、雰囲気加圧工程における雰囲気圧力は0.5MPa、プレス圧力は35MPaとした。このようにして得られたヒータ素子18について、残留気孔(高圧雰囲気の侵入による気孔)の有無、抗折強度の評価を行った。なお、残留気孔の有無は、走査型電子顕微鏡(SEM)にて倍率3000倍の視野にて観察により評価した。結果を表4に示す。
【0060】
また、表5に、素子成形体18aを1550〜1700℃まで焼成したときの表面の開気孔率、およびこのような開気孔率を有するものに雰囲気圧力を0.5MPaとする雰囲気加圧を行ったときの残留気孔の有無を示す。また、図6には、表5に示される温度と開気孔率との関係を図にして示す。
【0061】
なお、抵抗体成形部22aは、発熱抵抗体22としたときの最小径となる部分の断面積が1.0mmになるようにし、最小径部分に対する最大径部分の断面積比が2.4倍となるようにした。また、開気孔率は、焼成体の乾燥重量をW、水中での重量をW、表面の過剰水分を湿布で拭い払ったときの空中重量をWとしたとき下記式により算出した。
開気孔率(%)=[(W−W)/(W−W)]×100
【0062】
【表4】

【0063】
【表5】

【0064】
表4、5、図6に示されるように、温度が1600℃以上になると開気孔率が消滅し、このような温度で雰囲気加圧を開始することで、発熱抵抗体22の断面積比が大きい場合にも残留気孔の発生を効果的に抑制できることがわかる。また、表3に示されるように、雰囲気加圧の開始温度を1500℃以上とすることで界面部気孔の発生を抑制することができ、また1700℃以下とすることで二珪化タングステンの生成を抑制することができる。以上の結果から、雰囲気加圧(雰囲気加圧工程)の開始温度は1600〜1700℃が好ましいことがわかる。
【符号の説明】
【0065】
10…グロープラグ
11…セラミックヒータ
12…主体金具
19…金属外筒
18…セラミックヒータ素子(18a…素子成形体)
21…絶縁基体(21a…基体成形部)
22…発熱抵抗体(22a…抵抗体成形部)

【特許請求の範囲】
【請求項1】
主として窒化珪素粉末からなる基体成形部と、前記基体成形部に埋設され、主として窒化珪素粉末と炭化タングステン粉末とからなる抵抗体成形部とを有する素子成形体をホットプレス法により焼成してセラミックヒータ素子とするセラミックヒータ素子の製造方法であって、
前記焼成は、窒素雰囲気中、プレス圧力を20〜40MPa、雰囲気圧力を0.2〜1.0MPaとする雰囲気加圧工程を有することを特徴とするセラミックヒータ素子の製造方法。
【請求項2】
前記セラミックヒータ素子は、前記基体成形部が焼成されてなる絶縁基体と、前記抵抗体成形部が焼成されてなる発熱抵抗体とを有するものであって、前記発熱抵抗体は、最小径となる部分の断面積が0.25mm以上、かつ最大径となる部分の断面積が前記最小径となる部分の断面積の2倍以上であることを特徴とする請求項1記載のセラミックヒータ素子の製造方法。
【請求項3】
前記雰囲気加圧工程は、1600〜1700℃で開始することを特徴とする請求項1または2記載のセラミックヒータ素子の製造方法。
【請求項4】
請求項1乃至3のいずれか1項記載のセラミックヒータ素子の製造方法によりグロープラグに用いられるセラミックヒータ素子を製造する工程と、
前記セラミックヒータ素子をセラミックヒータの構成部材である金属外筒に挿入するとともに、前記金属外筒を前記グロープラグの構成部材である筒状の主体金具の筒孔先端に挿入してグロープラグとする工程と
を有することを特徴とするグロープラグの製造方法。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【公開番号】特開2012−104385(P2012−104385A)
【公開日】平成24年5月31日(2012.5.31)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−252219(P2010−252219)
【出願日】平成22年11月10日(2010.11.10)
【出願人】(000004547)日本特殊陶業株式会社 (2,912)
【Fターム(参考)】